「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

The production process for an embedded printed circuit substrate includes a step 1 for forming a circuit pattern region, in which a part of an insulation layer is etched by laser-patterning the insulation layer produced by laminating photosensitive substance layers; and a step 2 for forming a circuit pattern, by filling the circuit pattern region with a substance for plating.例文帳に追加

特に、感光物質層が積層された絶縁層をレーザーパターニングして絶縁層の一部がエッチングされる回路パターン領域を形成するステップ１と、前記回路パターン領域をメッキ物質で充填して回路パターンを形成するステップ２とを含む埋込型印刷回路基板の製造工程を特徴とする。 - 特許庁

In the case of utilizing a highly accurate grid wire pattern for an electromagnetic wave shield or the like, a grid-like pattern is obliquely stored in a storage area defined correspondingly to pixels arranged like a matrix (step S101) and a flexuous printed board plotter is controlled on the basis of the grid-like pattern stored in the storage area (step S102).例文帳に追加

高精細グリッド線パターンを電磁波シールドなどに利用する際、当該格子状パターンを、マトリックス状に配されるピクセルに対応して定義された記憶領域に傾けて記憶させ（ステップＳ１０１）、その記憶領域に記憶させた格子状パターンに基づいてフレキソ印刷版描画装置を制御する（ステップＳ１０２）。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist film from the resist composition on a surface to be processed, and exposing and developing the resist to form a resist pattern, and a patterning step of patterning the object surface by etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

The method includes a wiring pattern forming step of ejecting, to a recipient layer formed on a substrate, droplets of a solution containing conductive microparticles dispersed by means of a dispersing agent to form a desired wiring pattern, and a solvent supplying step of further supplying a solvent of the solution at least to the wiring pattern.例文帳に追加

基板に設けられた受容層上に、分散剤を用いて導電性微粒子を分散させた溶液の液滴を射出して所望の配線パターンを形成する配線パターン形成工程と、少なくとも前記配線パターン上に、前記溶液の溶媒をさらに供給する溶媒供給工程と、を備えている。 - 特許庁

Further, it is verified by simulation whether the surface step of the polished surfaces is settled within an allowable range or not when the dummy pattern is formed so that the corrected pattern density can be provided and when the step is out of the allowable range, by repeating similar processing, the pattern density satisfying two requests in good balance is determined.例文帳に追加

さらに修正されたパターン密度となるようにダミーパターンを形成した場合に研磨面の表面段差が許容範囲内となるかをシミュレーションにより検証し、許容範囲外の場合には同様の処理を繰り返すことにより、２つの要求をバランスよく満たすパターン密度を決定する。 - 特許庁

A film pattern forming method has a step for forming a partition wall 34 which has a first opening 55 corresponding to the first film pattern 40, and a second opening 56, corresponding to the second film pattern 41; and a step for arranging the functional liquid at the second opening 56 with self flow of the functional liquid, after arranging liquid droplets of the functional liquid at the first opening 55.例文帳に追加

第１膜パターン４０に対応する第１開口部５５及び第２膜パターン４１に対応する第２開口部５６を有する隔壁３４を形成する工程と、第１開口部５５に機能液の液滴を配置し、機能液の自己流動により機能液を第２開口部５６に配置する工程とを有する。 - 特許庁

In this method, the step to create pattern presence data for every nozzle width of the powder spray 33 correspondingly with a position for the movement of the printed matter 40 based on plate cylinder pattern information and the step to control injection timing for each nozzle 33a based on the pattern presence data and the position for the movement of the printed matter 40 per each nozzle 33a, are provided.例文帳に追加

刷版絵柄情報に基づいて、パウダースプレー３３の各ノズル幅毎の絵柄有無データを印刷物４０の移動位置に対応して作成するステップと、各ノズル３３ａについての絵柄有無データと印刷物４０の移動位置とに基づいて、各ノズル３３ａの噴射タイミングを制御するステップと、を含む。 - 特許庁

A step absorption layer 20 having a second pattern 30a is formed on a surface of the outside green sheet 11a along a longitudinal direction Y of a gap-pattern 30, the width of the pattern W2 is smaller than that of the gap W1, the step absorption layer 20 is colored so as to be identifiable from the outside green sheet 11a.例文帳に追加

外側グリーンシート１１ａの表面には、第２パターン３０ａを持つ段差吸収層２０を、隙間パターン３０の長手方向Ｙに沿って形成し、パターン幅Ｗ２が、隙間幅Ｗ１よりも小さく、段差吸収層２０が外側グリーンシート１１ａに対して識別可能な着色が成されている。 - 特許庁

This method comprises a step of moving a metal mask for every component which has a certain thickness and is provided with only opening grooves corresponding to a foot pattern of a printed wiring board so that the grooves are aligned with the position corresponding to the foot pattern, and a step of vertically moving the mask to adjust a clearance between the foot pattern and the grooves.例文帳に追加

プリント配線板のフットパターンに対応する開口溝のみを設けた一定の厚さの部品毎メタルマスクを、フットパターンに対応した位置に開口溝が一致するように移動させるとともに、フットパターンと開口溝の下端との間のクリアランスを調整するように上下方向に移動させる構成とした。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes; a resist pattern forming step of forming a resist pattern by forming a resist film on a surface to be processed, with the resist composition, exposing and developing the resist film; and a patterning step of patterning the surface to be processed, by etching through the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に本発明のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

The method includes a step for forming at least one non-critical feature on a mask by utilizing one of a low transmittance phase shift mask (pattern) and a non-phase shift mask (pattern) and a step for forming at least one critical feature on the mask by utilizing a high transmittance phase shift mask (pattern).例文帳に追加

この方法は、低透過率位相シフト・マスク（パターン）と非位相シフト・マスク（パターン）の一方を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルでないフィーチャを形成するステップと、高透過率位相シフト・マスク（パターン）を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルなフィーチャを形成するステップとを含む。 - 特許庁

A pilot signal transmission method includes: a step in which a base station transmits common pilot signals to one or more mobile stations based on a pattern included in predetermined signal pattern candidates; a step in which the mobile station identifies the pattern of the common pilot signals transmitted by the base station; and a step in which the mobile station receives the common pilot signals based on the identified pattern.例文帳に追加

本発明は、基地局が、所定の信号パターン候補に含まれるパターンに基づいて、１以上の移動局に対して共通パイロット信号を送信するステップと、前記移動局が、前記基地局が送信する共通パイロット信号のパターンを識別するステップと、前記移動局が、前記識別したパターンに基づいて、前記共通パイロット信号を受信するステップと、を有することを特徴とするパイロット信号送信方法である。 - 特許庁

The general control board also determines a rendition contents pattern having the big win prediction, in response to the predicting rendition times F2 whenever a rendition pattern designating command is inputted (step S49).例文帳に追加

そして、統括制御基板は、演出パターン指定コマンドを入力する毎に、予告演出回数Ｆ２に応じて大当り予告ありの演出内容パターンを決定する（ステップＳ４９）。 - 特許庁

A first process includes a step of exposing a first resist film 4 to transfer a pattern corresponding to a main aperture 5 and an auxiliary aperture 6 and developing to form a first resist pattern 4a.例文帳に追加

第１工程が、第１のレジスト膜４に、主開口部５及び補助開口部６に対応するパターンを露光し、現像して第１のレジストパターン４ａを形成する工程を有する。 - 特許庁

Then when respective plates in a lot are exposed in a step 220, the formation state of the pattern is corrected using a suitable offset to form the pattern on the plates.例文帳に追加

そして、ロット内のプレートのそれぞれに対して、ステップ２２０で露光を行う際に、適切なオフセットを用いてパターンの形成状態を補正して、そのパターンをプレート上に形成する。 - 特許庁

As a result, even if a step between a line pattern and a space pattern in a mark image imaged in the focus state is small, the position of a mark can be detected accurately.例文帳に追加

この結果、フォーカス状態において撮像されたマーク像におけるラインパターンとスペースパターンとの段差が小さい場合であっても精度良くマークの位置を検出することができる。 - 特許庁

A definite performance symbol of an ordinary big win combination is decided when the variable display pattern is an ordinary probability variation shared pattern and a notice command of display result is not received (step S541).例文帳に追加

可変表示パターンが通常・確変共用パターンである場合に、表示結果通知コマンドの受信がなければ、通常大当り組合せの確定演出図柄を決定する（ステップＳ５４１）。 - 特許庁

To make high-grade microfabrication possible by a double-patterning process or the like by providing a pattern-freezable resist material and a pattern-forming method including a step of curing a resist film.例文帳に追加

パターン硬化可能なレジスト材料、レジスト膜を硬化させる工程を含むパターン形成方法を提供することにより、ダブルパターニングプロセス等により高度な微細加工を可能にする。 - 特許庁

Consecutively after a step of forming a pattern on the surface of a web-type substrate by roll-to-roll techniques, the patterned surface just after the pattern formation is surface treated by bringing a roll-type object close to the surface.例文帳に追加

ロールｔｏロール工法でウェブ基材の表面上にパターンを形成する工程に引き続いて、形成直後のパターン表面にロール状物体を近接させて表面処理をする。 - 特許庁

The SQL determining step determines whether or not a sending-out pattern of the SQL from the application used in a personal computer 2 of a user coincides with the sending-out pattern of the registered SQL.例文帳に追加

ＳＱＬ判定ステップでは、ユーザのパソコン２において使用されるアプリケーションからのＳＱＬの送出パターンが、登録されたＳＱＬの送出パターンと一致するか否かを判定する。 - 特許庁

In discharge performance setting processing, whether the variation pattern of holding data for executing a discharge performance is the variation pattern for executing a relief performance is determined (step S812).例文帳に追加

放出演出設定処理では、放出演出を実行する保留データの変動パターンが、救済演出を実行する変動パターンであるか否かを判定する（ステップＳ８１２）。 - 特許庁

Even when difference in etching transformation arises in an etching step, a mask pattern can be generated while considering the variation of the pattern on a wafer due to the difference in etching transformation.例文帳に追加

これにより、エッチング工程でエッチング変換差が発生する場合であっても、エッチング変換差によるウェハ上でのパターンの変動を考慮したマスクパターンを生成することができる。 - 特許庁

In a mask shape calculating step, taper shape of a mask material which serves as a mask on upper layer part of the circuit pattern formed on a substrate at the time of processing of the circuit pattern is calculated.例文帳に追加

マスク形状算出ステップは、基板上に形成する回路パターンの上層部で前記回路パターンを加工する際のマスクになるマスク材のテーパー形状を算出する。 - 特許庁

The arpeggiator is equipped with a rhythm pattern table in which the time interval of the rhythm, the tone duration time and the tone intensity coefficient are memorized in each step, and plays arpeggios in accordance with the rhythm pattern table.例文帳に追加

各ステップ毎に、リズムの時間間隔、発音持続時間、発音の強さ係数が記憶されたリズムパターンテーブルを備え、そのリズムパターンテーブルに従ってアルペジオ演奏を行なう。 - 特許庁

To provide a photosensitive electrically conductive paste capable of easily forming an electric conductor pattern excellent in both electric conductivity and high-definition pattern forming property (resolution) without passing through a complex step.例文帳に追加

導電性と高精細パターン形成性（解像性）が共に優れる導電体パターンを複雑な工程を経ることなく容易に形成し得る感光性導電ペーストを提供すること。 - 特許庁

A definite performance symbol of a ready-to-win loss combination or a definite performance symbol of a usual loss combination are decided when the variable display pattern is a loss pattern (step S533, S534).例文帳に追加

可変表示パターンがハズレパターンである場合には、リーチハズレ組合せの確定演出図柄や通常ハズレ組合せの確定演出図柄を決定する（ステップＳ５３３、Ｓ５３４）。 - 特許庁

In the wiring pattern forming step, a wiring pattern 104 of which one end extends to the end side of the insulating layer 103 is formed on a surface opposite to the metal substrate 102 of the insulating layer 103.例文帳に追加

配線パターン形成工程では、絶縁層１０３の金属基板１０２と反対側の面に、一端が絶縁層１０３の端辺まで延びた配線パターン１０４を形成する。 - 特許庁

A resist on a substrate is subjected to step exposure for several times by a stepper exposure apparatus using a reticle on which a portion with a unit cell pattern present and a portion without the cell pattern are regularly and alternately arranged.例文帳に追加

単位セルパターンの有る部分とない部分が交互に規則的に繰り返されるように配置したレチクルを用いてステッパー露光装置で基板上のレジストを複数回ステップ露光する。 - 特許庁

Further, the method includes a step for causing a moire pattern to be generated from the alignment mark and determining the relative position of the first and second alignment marks (10, 11) on the basis of the periodicity of the moire pattern.例文帳に追加

さらに、方法は、位置合せマークからモアレ縞を発生させ、第１及び第２の位置合せマーク（１０、１１）の相対位置をモアレ縞の周期性に基づいて決定するステップを含む。 - 特許庁

The first region 2a is then patternwise etched using a resist pattern as a mask, and in another step, the second region 2b is patternwise etched, using a resist pattern as a mask.例文帳に追加

その後、第１領域２ａに対してレジストパターンをマスクに用いたパターンエッチングを施し、これとは別工程で第２領域２ｂに対してレジストパターンをマスクに用いたパターンエッチングを施す。 - 特許庁

In this case, a desirable pattern 25 is obtained on the wafer without any change in the shape and the position of the transferred pattern because of a step by an absorber layer 23 formed on a multilayer-film reflection mirror 24.例文帳に追加

このとき、吸収体層２３と多層膜反射鏡２１の段差により、転写されるパターンの形状及び位置が変化することなく、所望のパターン２５を得ることができる。 - 特許庁

The present invention discloses a mask for forming a fine pattern to completely transfer a first and a second pattern from the mask through a double patterning step onto a transfer object below, and a method for forming the mask.例文帳に追加

二重パターニング工程でマスク上の第１及び第２パターンをそのまま下部の被転写物に転写させる微細パターンを形成するためのマスク及びその形成方法である。 - 特許庁

According to the method, exposure time per step is shortened and a thick organic insulating film can be formed without causing collapse of pattern.例文帳に追加

これより、１回当たりの露光時間が短くなり、パターン崩れを起こさずに膜厚の厚い有機絶縁膜を形成できる。 - 特許庁

A center 2 makes a call to a cordless telephone master set 7 via a telephone line 5 by using a specific call signal pattern (step 201).例文帳に追加

センタ２からコードレス電話親機７へ電話回線５を介して特殊な呼出信号パターンで呼び出しを行う（ステップ２０１）。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method for forming a pattern for reducing manufacturing cost and improving a step coverage.例文帳に追加

製造コストを削減を図るとともに、ステップカバレージの向上が図られた半導体装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The image of the resolution-measuring pattern 90 is analyzed, and the resolution of the imaging apparatus 12 is measured (step S18).例文帳に追加

そして、この解像度測定用パターン９０の画像が解析されて、撮像装置１２の解像度が測定される（ステップＳ１８）。 - 特許庁

Based on a measurement result of the initial condition, the dimensions of a pattern of the film to be processed are estimated from first correlation (a step S2).例文帳に追加

初期条件の測定結果に基づいて、第１の相関から被処理膜のパターンの寸法を推定する（ステップＳ２）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a layer can be formed without any defect without being influenced by the step of a substrate pattern.例文帳に追加

下地パターンの段差の影響を受けずに何等欠陥なく層を形成可能な半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

To obtain a resist pattern which has a desired resist step, even when the difference in transmission properties between two or more translucent portions is small.例文帳に追加

２種類以上の半透光部の透過率差が小さい場合においても、所望のレジスト段差をもつレジストパターンを得ること。 - 特許庁

To produce a mask pattern satisfying the reference value of process margin in an exposure step for manufacturing a semiconductor device in a short period of time.例文帳に追加

半導体装置製造の光露光工程におけるプロセス余裕度が基準値を満たすマスクパターンを短時間に作製する。 - 特許庁

The controller 12 controls the motor 42 according to a target value pattern corresponding to one step from separation from the ground to touch to the ground in walking.例文帳に追加

コントローラ１２は、歩行時の離地から着地までの１ステップに相当する目標値パターンに沿ってモータ４２を制御する。 - 特許庁

To simplify a step of extracting the capacitance between adjacent wiring patterns by suppressing fluctuations in a pattern density within a connection wiring layer.例文帳に追加

接続配線層内のパターン疎密度の変動を抑えて，隣接配線パターン間容量値の抽出工程を簡単化する。 - 特許庁

The code data compression-encoding image data are expanded to judge whether the image is a character image or a picture pattern image (step S2).例文帳に追加

画像データを圧縮符号化した符号データを伸張して、その画像が文字画像か絵柄画像等かを判断する（ステップＳ２）。 - 特許庁

In a fourth step, the measured existing color is replaced by the replacement color, and the colors in the image pattern or image area are corrected.例文帳に追加

第４のステップでは、測定した既存色を上記置換色で置き換え、画像パターンまたは画像領域の色を補正する。 - 特許庁

To prevent a pattern embedding phenomenon due to excessive flowage of a resist resin when a resist flow step is introduced.例文帳に追加

レジストフロー工程を導入する場合に、レジスト樹脂の過度な流動によってパターンが埋め込まれる現象の発生を防ぐ。 - 特許庁