「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The density information of the respective blocks is evaluated on the basis of the decided number of the gradations (step S4) and replacement with the gradation pattern is performed on the basis of the evaluated result (step S5).例文帳に追加

各ブロックの濃度情報を、設定された階調数に基づいて評価し（ステップＳ４）、該評価結果に基づいて階調パターンへの置換を行う（ステップＳ５）。 - 特許庁

The carbo-nitriding method comprises an atmosphere control step of controlling the atmosphere, and a heating pattern control step of controlling the temperature history to be given to an object.例文帳に追加

浸炭窒化方法は、雰囲気が制御される雰囲気制御工程と、被処理物に付与される温度履歴が制御される加熱パターン制御工程とを備えている。 - 特許庁

The peripheral rim isolation groove forming step comprises a step of scanning the laser in a way that the inside terminal of laser beam pattern in respective pulses is superposed on the burr preventing groove.例文帳に追加

前記周縁分離溝形成ステップは、各パルスにおけるレーザービームパターンの内側端部を、前記バリ防止溝に重ねるようにレーザーを走査するステップ、を含む。 - 特許庁

The ink jet coating method is employed to coat the surface of the substrate 1 having the joint 2 with a color pattern by the ink jet coating includes subsequent first step and second step.例文帳に追加

目地２を有する基材１表面に色柄パターンをインクジェット塗装により塗装するインクジェット塗装方法であり、次の第一ステップ及び第二ステップを含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a step that is required for a mask alignment is secured in one pattern process, and the step serves as an alignment mark even after the step is substituted to a high temperature diffusion process.例文帳に追加

１回のパターン工程で、マスクアライメントに必要な段差を確保し、該段差が高温の熱拡散工程を経た後にもアライメントマークとして機能する半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Test recording is performed to a recording object medium by using a prescribed test recording pattern (step S500), a jitter margin is acquired by reproducing the test recorded result (step S502), and a β value is measured (step S504).例文帳に追加

所定のテスト記録パターンを用いて記録対象メディアにテスト記録を行い（ステップＳ５００）、このテスト記録結果を再生してジッタマージンを取得するとともに（ステップＳ５０２）、β値を測定する（ステップＳ５０４）。 - 特許庁

A CPU determines the types of variation pattern based on data for determining types of variation patterns set at the step S264, S270 or S271 and a random number value MR4 extracted at the step S272 (step S273).例文帳に追加

ＣＰＵは、ステップＳ２６４、Ｓ２７０、またはＳ２７１にてセットした変動パターン種別判定用データと、ステップＳ２７２にて抽出した乱数値ＭＲ４とに基づいて変動パターン種別を決定する（ステップＳ２７３）。 - 特許庁

This method has a step where a control network unit CTRL-NU captures permission information, a step where an approximated switching time is decided and a step where a network unit transmits a prescribed bit pattern PAT.例文帳に追加

この方法は、制御ネットワークユニット（ＣＴＲＬ−ＮＵ）が、許可情報を捕獲するステップと、近似された切替え時刻を決定するステップと、ネットワークユニットが、所定のビットパターン（ＰＡＴ）を送信するステップとを含む。 - 特許庁

When correcting the quantity of light based on the correction data of the EEPROM, a test pattern is printed (step 108), its density is measured (step 110), and correction data for making density distribution substantially flat is determined (step 112).例文帳に追加

ＥＥＰＲＯＭの補正データに基づいて光量補正を行いながら、テストパターンを印字させ（ステップ１０８）、この濃度を測定して（ステップ１１０）、濃度分布を略フラットにするような補正データを求める（ステップ１１２）。 - 特許庁

When the first step-up notice is selected, the number of step-ups to be executed in the step-up notice is selected by different selection ratios corresponding to the total number of times of re-variable display to be executed in a re-variable display pattern.例文帳に追加

第１ステップアップ予告を選択した場合、ステップアップ予告で実効されるステップアップ数を、再変動表示パターンで実行される再変動表示の合計回数に応じて異なる選択割合で選択する。 - 特許庁

Thus, the play step PS is set, musical performance information of a part 1 stored in a step that the play step PS indicates is read out of an automatic musical performance pattern 50a and sent to a sound source 30 (S48).例文帳に追加

こうしてプレイステップＰＳを設定すると、プレイステップＰＳが示すステップに記憶されているパート１の演奏情報を自動演奏パターン５０ａから読み出し、この演奏情報を音源３０へ送る（Ｓ４８）。 - 特許庁

The method includes a first step of forming a metal thin film for wiring lines on a glass substrate 11a, a second step of forming a resist pattern on the metal thin film by using a photomask 20 where a pattern for the wiring lines is formed, and a third step of forming the wiring lines by selectively removing the metal thin film by wet etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

ガラス基板１１ａ上に、配線用の金属薄膜を形成する第１ステップと、配線用のパターンが形成されたフォトマスク２０を用いて、金属薄膜上に、レジストパターンを生成する第２ステップと、レジストパターンをマスクとして、ウェットエッチングにより金属薄膜を選択的に除去し、配線を形成する第３ステップとを備える。 - 特許庁

The electrode paste 4 is repelled through the water repellency effect of the step eliminating pattern 3 and then a step between an electrode pattern 5 formed by leveling and the step eliminating pattern 3 is made small to prevent a defect such as cracking and delamination, thereby providing the multilayer ceramic electronic component of good quality which has superior reliability and productivity and is made smaller in decrease in electrostatic capacity.例文帳に追加

段差解消パターン３の撥水効果で電極ペースト４をはじかせることで、レベリングにより形成された電極パターン５と段差解消パターン３との段差を少なくし、クラックやデラミネーション等の欠陥を防止でき、信頼性、生産性に優れた、静電容量の低下を抑えた品質のよい積層セラミック電子部品を提供することができる。 - 特許庁

This invention includes a step of etching the object to be processed using the resist pattern as a mask, a step of irradiating the resist pattern through a photomask with light within a photosensitive wavelength region of the photosensitizer, and a step of removing the resist pattern on the object to be processed.例文帳に追加

また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

This method includes a step for forming, on a specified material layer 21, a photoresist pattern which exposes the part where the ions are implanted, a step for ion-implanting impurity elements into the specified material layer 21 with the photoresist pattern as an ion implantation barrier, and a step for stripping the photoresist pattern by using plasma of a mixed gas containing at least a hydrocarbon-based gas.例文帳に追加

所定の物質層２１上に、イオンを注入する部分を露出させたフォトレジストパターンを形成するステップと、フォトレジストパターンをイオン注入バリアとして、所定の物質層２１に不純物元素をイオン注入するステップと、少なくとも炭化水素系ガスを含む混合ガスのプラズマを用いて、フォトレジストパターンをストリップするステップとを含む。 - 特許庁

Alternatively, the method includes a step of irradiating the resist pattern with light in the photosensitive wavelength region of the photosensitive agent through a photomask, a step of etching the material worked by using the resist pattern as a mask, and a step of removing the resist pattern formed on the material.例文帳に追加

また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for forming the pattern comprises a lamination step of laminating multi layers of a photosensitive material 11L, 12L on the face to be treated, an exposure step of exposing a predetermined pattern P1 to the photosensitive material laminated in multi layers and a developing step of developing the exposed photosensitive material 11L, 12L to form the predetermined pattern P1.例文帳に追加

被処理面上に、感光性材料１１Ｌ、１２Ｌを複数層積層させる積層工程と、複数層に積層させた感光性材料１１Ｌ、１２Ｌに対して所定のパターンＰ１の露光をする露光工程と、露光された感光性材料１１Ｌ、１２Ｌを現像して所定のパターンＰ１を形成する現像工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

When a request to turn on an LED in a predetermined illumination pattern is received, the request and illumination pattern are stored (step S21b) and when a plurality of requests including the request meet predetermined conditions ("matching" at a step S21f), the LED is turned on in an illumination pattern different from illumination patterns of the plurality of requests (step S21g).例文帳に追加

ＬＥＤを所定の点灯パターンで点灯させる要求を受信すると、その要求とその点灯パターンとを記憶し（ステップＳ２１ｂ）、その要求を含む複数の要求が所定の条件に合致すると（ステップＳ２１ｆの「合致する」）、それらの複数の要求の点灯パターンとは異なる点灯パターンによってＬＥＤを点灯させる（ステップＳ２１ｇ）。 - 特許庁

When the counter value reaches the ceiling value (step B6: YES), '1' is set onto the ceiling flag (step B7) and when the subsequent start winning is done, a win pattern is determined (step B11) based on '1' of the ceiling flag (step B2: YES) to generate a big win.例文帳に追加

カウンタ値が天井値となったときは（ステップＢ６：ＹＥＳ）、天井フラグに「１」をセットし（ステップＢ７）、次のスタート入賞したときに、天井フラグが「１」であることに基づいて（ステップＢ２：ＹＥＳ）、当たり図柄を決定し（ステップＢ１１）、大当たりを発生させる。 - 特許庁

The coating method of the metal substrate comprises a step of applying a sol coating on the metal substrate, a step of converting the sol coating into a gel coating, a step of forming a pattern on or in the gel coating and a step of sintering the gel coating.例文帳に追加

一実施形態では、金属基材の被覆方法は、金属基材にゾルコーティングを塗工する段階、ゾルコーティングをゲルコーティングに転化させる段階、ゲルコーティング上又はゲルコーティング中にパターンを生じさせる段階、及びゲルコーティングを焼結する段階を含む。 - 特許庁

Then the line sensor is moved as shown by the arrow Y (step 122) to make a second scan (step 124), a test pattern read signal is analyzed to calculate the quantity of a position shift from the first scan (step 126), and the line sensor is finely adjusted and moved as shown by the arrow X (step 128).例文帳に追加

続いて、ラインセンサを矢印Ｙ方向に移動し（ステップ１２２）、第２のスキャンを行い（ステップ１２４）、テストパターン読取信号を解析し、前第１のスキャンとの位置ズレ量を算出し（ステップ１２６）、ラインセンサを矢印Ｘ方向に微調整移動する（ステップ１２８）。 - 特許庁

Using of the pattern can reduce an exposure step or a development step in a process for forming a conductive pattern (a gate wiring or a source wiring) and reduce the amount of used materials, and remarkable cost reduction can be achieved.例文帳に追加

前記パターンを用いることより、導体パターン（ゲート配線、またはソース配線など）を形成するプロセスにおいて、露光工程や現像工程などが短縮でき、材料の使用量の削減も図れるため大幅なコストダウンが実現できる。 - 特許庁

Then, a path to be inspected is selected if it is present in a step ST02, and the production of at least one pair of an initialization pattern and transition pattern necessary for inspecting the path to be inspected is attempted in a step ST03.例文帳に追加

次に、ステップＳＴ０２において、検査対象パスが存在すればそれを選択し、次のステップＳＴ０３において、検査対象パスの検査に必要な少なくとも１対からなる初期化パターン及び遷移パターンの生成を試みる。 - 特許庁

The method of forming a planar CMOS transistor divides the step of forming the gate layer into a first step of patterning a resist layer with a first portion of the gate layer pattern and then etching the polysilicon with the pattern of the gates.例文帳に追加

プレーナＣＭＯＳトランジスタを形成する方法は、ゲート層を形成する工程を、ゲート層パターンの第一の部分でレジスト層をパターン形成し、次にゲートのパターンで多結晶シリコンをエッチングする第一の工程に分割する。 - 特許庁

The step of forming the first and the second microlenses is a step of forming the first microlens and the second microlens with a height lower than that of the first microlens by performing heat treatment on the first resin pattern and the second resin pattern.例文帳に追加

第１、第２のマイクロレンズを形成する工程は、第１の樹脂パターンおよび第２の樹脂パターンを熱処理することにより、第１のマイクロレンズおよびこのレンズよりも低い第２のマイクロレンズを形成する工程である。 - 特許庁

Next, the insulation film 110 is removed; in a second etching step, a hard mask pattern is formed by using the first and second auxiliary patterns as an etching mask; and in a third etching step, the etching target film 101 is formed, by using the hard mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

続いて絶縁膜１１０を除去し、第２のエッチング工程で第１，第２補助パターンをエッチングマスクとしてハードマスクパターンを形成し、それをエッチングマスクとして第３のエッチング工程でエッチング対象膜１０１をエッチングする。 - 特許庁

A first step (a step 32) is to apply a shield to the vertical edge of a target pattern by using a model base OPC (Optical Proximity Correction) in order to delineate the lateral mask and to apply a shield to the lateral edge of the target pattern in order to delineate the vertical mask.例文帳に追加

第１ステップ（ステップ３２）は、横のマスクを画定するために、モデルベースＯＰＣを用いてターゲット・パターンの縦のエッジにシールドを施すこと、ならびに縦のマスクを画定するためにターゲット・パターンの横のエッジにシールドを施す。 - 特許庁

At the time of judging the probability variable pattern in this case, the drawing processing of the continuous performance is performed in a step S43, and the variation pattern for the continuous performance is set in a step S45 at the time of winning in the drawing processing of the continuous performance.例文帳に追加

ここで確率変動図柄を判断したときにはステップＳ４３で連続演出の抽選処理を行い、連続演出の抽選処理に当選したときにはステップＳ４５で連続演出用の変動パターンを設定する。 - 特許庁

By accompanying the step driving of the exposure stage in an initial period and a final period of the repetitive exposure of the exposure pattern, the control means makes the step driving of the mask stage 5 perform, and moves the mask by the amount of n times the array pitch of the mask pattern.例文帳に追加

制御手段は、露光パターンの繰り返し露光の初期と終期における露光ステージのステップ駆動に伴って、マスクをマスクパターンの配列ピッチのｎ倍の量移動させるマスクステージ５のステップ駆動を行わせる。 - 特許庁

Then, a solder resist layer is formed on the insulation layer so as to cover a part of the copper foil pattern (step S4), and water soluble heat resistant pre-flux is applied to the surface of the copper foil pattern when a metal film surface is exposed (step S5).例文帳に追加

次に、銅箔パターンの一部を被覆するように、ソルダーレジスト層を絶縁層上に形成し（ステップＳ４）、金属膜表面が露出した銅箔パターン表面に水溶性の耐熱性プリフラックスを塗布する（ステップＳ５）。 - 特許庁

In the first analysis, the changing quantity of a pattern and a stress concentration generated by the opening of a division pattern are analyzed based on a first analysis model (step ST13).例文帳に追加

第１の解析では、第１の解析モデルに基づいて分割パターンの開口により発生するパターン変位量および応力集中が解析される（ステップＳＴ１３）。 - 特許庁

In the first step, the pattern is projected onto a first sub-region 12 of the object 2, and a pattern reflected from the first sub-region 12 of the object 2 is photographed.例文帳に追加

第１ステップにおいて、物体２の第１サブ領域１２に対してパターンを投影し、物体２の第１サブ領域１２から反射されたパターンを撮影する。 - 特許庁

When a variable is also designated to an arbitrary character string with respect to the sub-pattern, the designated character string is replaced with the variable to make a translation pattern including the variable (step S35).例文帳に追加

サブパターンに対しても任意の文字列に対して変数が指定された場合は、指定された文字列を変数に置換し、変数を含む翻訳パターンとする（ステップＳ３５）。 - 特許庁

To start up a stepping motor in the exciting pattern after switching without causing a step-out no matter which position a rotor may stop in when the exciting pattern is switched.例文帳に追加

励磁パターンが切り替えられる際、ロータがどの位置に停止しても、脱調を生じさせることなく、切り替え後の励磁パターンでステッピングモータを立ち上げることを可能にする。 - 特許庁

As a result, the dry pattern PD formed on a green sheet 23 can be prevented from collapsing or deforming at the vacuum packaging step, and a pattern can be formed with high accuracy.例文帳に追加

その結果、減圧包装工程において、グリーンシート２３に形成された乾燥パターンＰＤの潰れや変形は防止でき、精度の高いパターンを形成することができる。 - 特許庁

In several embodiments, the method includes a step which can be repetitively operated and generate a halftone pattern for the repetition on the basis of a start position in the first halftone pattern.例文帳に追加

いくつかの実施形態では、当該方法は、反復して操作でき、第１ハーフトーンパターン内の開始位置に基づいて、反復のためのハーフトーンパターンを生成するステップからなる。 - 特許庁

The method for manufacturing the stamper includes a step of forming a conductive film on a surface of an uneven pattern of a quartzose substrate having the uneven pattern by the physical vapor deposition method.例文帳に追加

本スタンパの製造方法は、凹凸パターンを有する石英質基体の凹凸パターンの表面に物理蒸着法により導電性膜を形成する工程を備える。 - 特許庁

Furthermore, the method includes a step of forming a second dielectric film on the first dielectric film and a surface of the laminated semiconductor layers to which the first pattern and the second pattern have been transferred.例文帳に追加

また、前記第１および第２のパターンが転写された前記第一の誘電体膜と前記半導体層の上に、第二の誘電体膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

According to the image data, a gradation generating means comprising printing equipment 5 prints the gradation pattern on a filmy transparent substrate to form a gradation pattern sheet 7 (step S2).例文帳に追加

この画像データに基づき、印刷機器５から成るグラデーション形成手段で、フィルム状の透明基板にグラデーションパターンを印刷してグラデーションパターンシート７を形成する（ステップＳ２）。 - 特許庁

Every time the value of the step counter amounts to a multiple (12n : n=positive integer) of 12 (the number of steps corresponding to the movement of one pattern), the current display pattern data is incremented by one.例文帳に追加

そして、ステップ数カウンタの値が１２（１図柄の移動に応じたステップ数）の倍数（１２ｎ：ｎ＝正の整数）になる度に現在表示図柄データを＋１する。 - 特許庁

Subsequently, a varying notice pattern, based on the determined result of the varying notice pattern classification, is decided to be either one of those prepared beforehand in plural numbers (step S907).例文帳に追加

その後、変動中予告パターン種別の決定結果に基づき、変動中予告パターンが予め複数用意されたいずれかに決定される（ステップＳ９０７）。 - 特許庁

In a fifth step, the test pattern of the semiconductor memory in which reappearance of the occurrence of defective operation is confirmed is incorporated in the evaluation pattern of the semiconductor memory of the semiconductor memory tester.例文帳に追加

第５ステップでは、動作不良発生の再現が確認された半導体メモリへのテストパターンを半導体メモリテスタの当該半導体メモリの評価パターンに組み込む。 - 特許庁

To uniformly form a coating liquid layer on the entire main surface of a semiconductor wafer, where a large step or an uneven pattern having a large pattern is formed.例文帳に追加

段差が大きく或るいは大パターン部を有する凹凸パターンが形成された半導体ウェハに対して、主面全体に均一な厚みの塗布液層を形成する。 - 特許庁

To provide a mask pattern formation method by which the dimensional accuracy of the pattern of a photomask is enhanced and a photomask having no harmful effect on a wafer step and easy to put to practical use can be manufactured.例文帳に追加

フォトマスクのパタン寸法精度を向上させ、さらにウエハ工程への悪影響がなく、実用が容易であるフォトマスクを作製できるマスクパタン形成方法を提供 - 特許庁

To provide a means of inspecting function of logic circuit with a high detection capability at low cost by reducing the necessary amount of a pattern memory without reducing the number of step of a test pattern.例文帳に追加

テストパターンのステップ数を減少させずにパターンメモリの必要量を減らし、低コストで検出力の高い論理回路の機能検査手段を提供すること。 - 特許庁