「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A peak position having the highest correlation value is regarded as the area for aligning of the pattern to be measured, and the positions of the areas for aligning of the master pattern and the pattern to be measured are adjusted (step 110).例文帳に追加

最も相関値が高いピーク位置を被測定パターンの位置決め用領域と見なし、マスタパターンと被測定パターンの位置決め用領域の位置を合わせる（ステップ１１０）。 - 特許庁

Due to such dummy pattern insertion, fluctuations in the pattern density within the connection wiring layer can be suppressed and fluctuations in a pattern width in an etching step can be suppressed.例文帳に追加

かかるダミーパターンを挿入することにより，接続配線層におけるパターンの疎密度の変動を抑えることができ，エッチング工程によるパターン幅の変動を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern free from a flaw such as a crack by controlling the release direction of a mold with respect to the pattern to reduce stress in a releasing step of a nanoimprint process, to reduce stress.例文帳に追加

ナノインプリントの剥離工程において、パターンに対してモールドの剥離方向を制御することにより、応力を低減し、欠けなどの欠陥のないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

On the contrary, When it is discriminated that the transition pattern is the specific pattern (step S24, YES), phase error information is calculated conforming to the calculation means corresponding to the specific pattern.例文帳に追加

これに対して、その推移パターンが特定パターンであると判定された場合（ステップＳ２４ＹＥＳ）、特定パターンに対応する演算手法に従って位相誤差情報が算出される。 - 特許庁

In an extraction pattern registering process in a step S101, extraction pattern data for use in a retrieval process is registered in an extraction pattern information database based on an input from a user.例文帳に追加

ステップＳ１０１における抽出パターン登録処理では、ユーザからの入力に基づいて、検索処理で利用する抽出パターンデータが抽出パターン情報データベースに登録される。 - 特許庁

The method for forming a thin film pattern comprises a step for forming a bank B on a substrate P, a step for arranging functional liquid L in a region sectioned by the bank B, and a step for forming a film pattern F by drying the functional liquid L arranged on the substrate P.例文帳に追加

基板Ｐ上にバンクＢを形成する工程と、バンクＢによって区画された領域に機能液Ｌを配置する工程と、基板Ｐ上に配置された機能液Ｌを乾燥させて膜パターンＦを形成する工程とを有する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the semiconductor device, a step of finely working a resist pattern, formed in a lithography step by isotropic etching using ozone and another step of etching a work by using the finely worked resist pattern as a mask are performed by means of the same etching system EM1.例文帳に追加

オゾンを用いた等方性エッチングによってリソグラフィ工程で形成されたレジストパターンを細く加工する工程と、細く加工されたレジストパターンをマスクとして被加工材をエッチングする工程とを同一のエッチング装置ＥＭ１で行う。 - 特許庁

The step 3 for curing the address electrode pattern repeats a step for irradiating the address electrode pattern with UV-rays while conveying the rear glass substrate, and a step for subsequently cooling the region of the rear glass substrate irradiated with UV-rays at least twice.例文帳に追加

アドレス電極パターンをキュアするステップ３は、背面ガラス基板を搬送しつつアドレス電極パターンに紫外線を照射するステップと、その後、背面ガラス基板の紫外線が照射された領域を冷却するステップとを少なくとも２回繰り返す。 - 特許庁

The stopping step stops data processing of this database control system 1 on the basis of the SQL determined that the sending-out pattern is different from the sending-out pattern of the registered SQL in the SQL determining step.例文帳に追加

停止ステップでは、ＳＱＬ判定ステップにおいて、登録されたＳＱＬの送出パターンと、送出パターンが相違すると判定されたＳＱＬに基づくデータベース管理システム１のデータ処理を停止する。 - 特許庁

When a start key indicating the start of the copying of the original is depressed (step S12; YES), a dot pattern detection part detects the dot pattern composed of a predetermined period from image data (step S14).例文帳に追加

原稿のコピー開始を指示するスタートキーが押下されたら（ステップＳ１２；ＹＥＳ）ドットパターン検出部は画像データから予め定められた周期からなるドットパターンを検出する（ステップＳ１４）。 - 特許庁

Accordingly, because the pattern of the conversation of the step-up notice 3 and the pattern 123 of the conversation of the step-up notice 2 can be simultaneously visually recognized, a player becomes easy to visually comprehend a difference between two sides.例文帳に追加

このため、ステップアップ予告３の会話の絵柄およびステップアップ予告２の会話の絵柄１２３が同時に視覚的に認識可能となるので、両者の違いを遊技者が視覚的に把握し易くなる。 - 特許庁

In the step 3, in case that the hot water supply switch 42 is pressed in condition that the pattern No.n is set to 1, this changes the pattern No.n to 6 (S6), and returns to the step 2, and afterward this repeats the same.例文帳に追加

ステップ３において、パターン番号ｎが１に設定されている状態で給湯スイッチ４２が押される場合には、パターン番号ｎを６に変えて（Ｓ６）、ステップ２に戻り、以降同様に繰り返す。 - 特許庁

After the tilt β1 around the X axis in all regions wherein the first irradiation pattern is directed is calculated (the determination of the step S12 is "Yes"), a second irradiation pattern is directed (step S4).例文帳に追加

第一の照射パターンを照射した全ての領域でＸ軸周りの傾きβ１を算出できたら（ステップＳ１２の判定が“Yes”）、今度は第二の照射パターンを照射する（ステップＳ４）。 - 特許庁

the coordinate G of a remarkable region at the object to be measured is calculated (step S8), and the change degree (dα/dθ) in the reflection pattern to the spatial frequency of the irradiation pattern is calculated (step 9).例文帳に追加

そして、計測対象における注目領域の座標Ｇを算出し（ステップＳ８）、照射パターンの空間周波数に対する反射パターンの変化度合（ｄα／ｄθ）を算出する（ステップＳ９）。 - 特許庁

When the first photomask is used in the first step and the second photomask is used in the second step, such a positional relation is set that the light shielding pattern 14 covers the pattern 140 for monitoring element dimensions.例文帳に追加

第１フォトマスクを第１工程において用い、第２フォトマスクを第２工程において用いるとき、素子寸法をモニタするパターン１４０を、遮光パターン１４が覆うような位置関係にある。 - 特許庁

The first ink jet step includes a step of discharging a functional liquid containing a first conductive material with good adhesion to the first conductive pattern onto the first insulation pattern.例文帳に追加

そして、前記第１のインクジェット工程は、前記第１の導電パターンに対して密着性のよい第１の導電材料を含有した機能液を前記第１の絶縁パターンへ吐出する工程を含んでいる。 - 特許庁

This correction value determination method comprises a step of making a head record a first pattern for checking the amount of the conveyance of the medium, and a step of determining a first correction value on the basis of the first pattern.例文帳に追加

提供される補正値決定方法は、媒体の搬送量を確認するための第１パターンをヘッドに記録させるステップと、第１パターンに基づいて、第１の補正値を求めるステップと、を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing an electronic component comprises a step for forming a photoresist layer on the surface of a substrate and the inner wall face of through-holes, and a step for obtaining a photoresist pattern by pattern exposing and developing the photoresist layer.例文帳に追加

この方法は、基板表面およびスルーホール内壁面に、フォトレジスト層を形成する工程と、フォトレジスト層をパターン露光して現像することによりフォトレジストパターンを得る工程とを有する。 - 特許庁

The pattern forming method includes the step of heat-expanding the template by irradiating the optical absorption part with irradiating light before or during the step of transcribing the element pattern to the nanoimprint material layer, to displace the position of the element pattern.例文帳に追加

ナノインプリント材料層に素子パターンを転写する工程の前又は最中に、前記光吸収部に照射光を照射して前記テンプレートを熱膨張させることで前記素子パターンの位置を変位させることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

Concerning the game machine such as pachinko machine, the reach state is displayed by stopping varying left and right picture pattern strings on a special picture pattern display (display part) (step S83) and afterwards, the left and right picture pattern strings are varied again (step S86).例文帳に追加

パチンコ機等の遊技機に関し、特別図柄表示器（表示部）の左図柄列及び右図柄列の変動を停止してリーチ状態になったことを表示（ステップＳ８３）した後、左図柄列及び右図柄列を再変動させる（ステップＳ８６）。 - 特許庁

When the pattern is found variable during the high probability playing (steps S500-S510), the value of the frequency of varying the pattern is incremented (step S520) and it is judged whether the incremented frequency N of varying the pattern is above a specified value M or not (step S530).例文帳に追加

高確率中に図柄が変動すると判断されると（ステップＳ５００〜Ｓ５１０）、図柄変動回数Ｎの値がインクリメントされ（ステップＳ５２０）、インクリメントされた図柄変動回数Ｎが所定値Ｍ以上か否か判断される（ステップＳ５３０）。 - 特許庁

The metal mask is removed for forming a second opening pattern aligned with a first pattern after the multilayer hard mask is used in a first step, and the insulation mask is used for forming a first pattern structure in an insulation layer in a second step.例文帳に追加

第１パターンにアラインされた第２開口パターンを形成するために、第１ステップで多層ハードマスクが使用された後、金属マスクが除去され、絶縁マスクが、第２のステップで絶縁層中に第１のパターン構造を形成するために使用される。 - 特許庁

Also, in a pattern output process 24, there is found the output pattern of the processing step from the output pattern table, based on the step number stored in a memory, to generate an output signal (control output) to the stepping type processing unit.例文帳に追加

またパターン出力プロセス２４においてはメモリに記憶された工程番号に従って出力パターンテーブルから該当処理工程の出力パターンを求め、工程歩進形処理装置に対する出力信号（制御出力）を生成する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes a step of applying the resist pattern thinning material to cover the surface of a resist pattern formed on a base layer to form a mixing layer with the resist pattern thinning material on the surface of the resist pattern and developing to form a thinned resist pattern, and a step of patterning the base layer by etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

下地層上に形成したレジストパターンの表面を覆うように該レジストパターン薄肉化材料を塗布し、レジストパターンの表面に該レジストパターン薄肉化材料とのミキシング層を形成し現像処理し、薄肉化したレジストパターンを形成する工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

When the flag FG under varying is raised (step S350), an image display command is prepared from variation time and respective stop picture patterns determined in the step S330 (step S360), and transmitted to a picture pattern control board (step S370).例文帳に追加

変動中フラグＦＧがたてられると（ステップＳ３５０）、前記ステップＳ３３０において決定された変動タイム及び各静止図柄により画像表示コマンドが作成され（ステップＳ３６０）、図柄制御基板に送信される（ステップＳ３７０）。 - 特許庁

When a braking control device 2 is actuated by detecting unstable behaviors of a vehicle, a step-drive current setting part 150 selects a step-drive pattern suitable for stabilizing vehicle behaviors by steering of vehicle wheels based on its actuation signal S and a step-drive map 152, so as to output a step-drive current value Ist corresponding to the step-drive pattern.例文帳に追加

ステップ駆動電流設定部１５０は、制動制御装置２が車両の不安定挙動を検知して作動すると、その作動信号Ｓとステップ駆動マップ１５２に基づいて、車輪の操舵によって車両挙動を安定化するのに適切なステップ駆動パターンを選択して、そのステップ駆動パターンに対応するステップ駆動電流値Ｉｓｔを出力する。 - 特許庁

This manufacturing method includes a step of forming an emitter pattern by forming an electroluminescent carbon material on a glass substrate in a predetermined pattern; a step of forming an electrode layer of a predetermined height on the emitter pattern and the glass substrate; a step of applying the gel polymeric material over the entire electrode layer; a step for curig the gel polymeric material; and a step of removing the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板上に電界発光特性があるカーボン物質を所定のパターンで形成することによってエミッターパターンを形成するステップと、エミッターパターン及びガラス基板上に所定の高さに電極層を形成するステップと、電極層上にゲル状の高分子材料を全体的に塗布するステップと、ゲル状の高分子材料を硬化処理するステップと、ガラス基板を取り去るステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A wafer having a pattern formed thereon is rotated (step S1) and a coating solution containing a liquid coating forming component is applied to the center of the wafer (step S2).例文帳に追加

パターンが形成されたウェハを回転させ（ステップＳ１）、ウェハの中心に液体状の塗布膜形成成分を含む塗布液を塗布する（ステップＳ２）。 - 特許庁

When time is 'out' during the detection processing (step S405), it is determined that a specified pattern does not exist in the image (step S406).例文帳に追加

そして、検出処理が行われている最中にタイムアウトになった場合（ステップＳ４０５）、その画像中には特定パターン無しとして判定する（ステップＳ４０６）。 - 特許庁

Subsequently, the image of the image to be transmitted is composed with an created image pattern corresponding to the transmission destination (step ST8), and the composite image is coded and transmitted (step ST9).例文帳に追加

続いて、送信すべき画像のイメージと作成した送信先に対応するイメージパターンを合成し（ステップＳＴ８）、符号化して送信する（ステップＳＴ９）。 - 特許庁

In the case of the picture pattern image or the like (N in step S2), it is converted to a multilevel image as needed and converted to a JPEG code of a high picture quality (step S4).例文帳に追加

絵柄画像等なら（ステップＳ２のＮ）、必要に応じて多値画像に変換して、画質の良いＪＰＥＧ符号に変換する（ステップＳ４）。 - 特許庁

Then, in the step S1510, the CPU performs pattern fluctuation display at a speed corresponding to fluctuation display speed advance notification information displayed in the step S1500.例文帳に追加

次いで、ステップＳ１５１０において、ＣＰＵは、ステップＳ１５００にて表示した変動表示速度予告情報に応じた速度で図柄変動表示を行なう。 - 特許庁

The pattern data are corrected based on the positioning conditione computed at the Step S20 and on the sewing condition obtained at the Step S35 and S50, or S60 (S70).例文帳に追加

Ｓ２０で算出された配置条件と、Ｓ３５及びＳ５０，又はＳ６０で取得された縫製条件とに基づき、模様データが補正される（Ｓ７０）。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical element having a step pattern by which steps with high accuracy can be formed while preventing production of a peak or valley in a step portion.例文帳に追加

段差の部分に山や谷ができず、高精度な段差を形成することができる段差パターンを有する光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Each slave node receives a low speed command from the master node (step 33), establishes the communication state with the master node, and receives high speed pattern data (step 34).例文帳に追加

スレーブノードは、マスターノードから低速のコマンドを受信し（ステップ３３）、マスターノードとの通信状態を確立させたのち、高速のパターンデータを受信する（ステップ３４）。 - 特許庁

The average of pixel densities (step S14) and a pattern coincidence degree (step S15) included in windows are obtained by every pixel of picture data concerning all the windows.例文帳に追加

画像データの画素ごとに、ウィンドウに含まれる画素濃度の平均（ステップＳ１４）とパターン一致度（ステップＳ１５）を、すべてのウィンドウについて求める。 - 特許庁

A cut position of the defective part is calculated (an area is calculated) (step S7), and a scan pattern is generated based on the calculated coordinate data and a spot diameter (step S9).例文帳に追加

欠陥部のカット位置を計算（領域を計算）し（ステップＳ７）、計算した座標データとスポット径に基づきスキャンパターンを生成する（ステップＳ９）。 - 特許庁

The exposure step includes a step for removing resist residue which remains in association with the resist pattern, whereby the resist residue is removed.例文帳に追加

また、オゾンガス雰囲気に曝す工程が、レジストパターンに関連して残っているレジスト残渣が除去されるようにする工程を含み、もってレジスト残渣を除去する。 - 特許庁

To provide a coating forming method which enables no bubbles to develop even though a cabling pattern has a high step and a resist coating the step is baked.例文帳に追加

配線パターンが高段差であっても、当該段差内に塗布されたレジストをベークしても気泡の発生がない塗膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for adjusting the landing angle in the charged particle beam exposure system includes a step of disposing a minute point pattern 51 regarded as being substantially a point on a mask stage 11, and a step of disposing a minute first pin hole 61 on the surface of a wafer.例文帳に追加

マスクステージ１１上にほぼ点とみなせる微小な点パターン５１を配置し、ウェハ面上に微小な第１ピンホール６１を配置する。 - 特許庁

When there is a starting request for the internal combustion engine, the engine cooling water temperature is detected (Step 104), and is compared with the injection pattern switching water temperature (Step 106).例文帳に追加

内燃機関の始動要求が有った場合、機関冷却水温を検出し（ステップ１０４）、噴射パターン切り替え水温と比較する（ステップ１０６）。 - 特許庁

The method for manufacturing the diffusion sheet includes a step for preparing the base film and a step for forming the diffusion layer having the diffusion pattern on one side of the base film.例文帳に追加

拡散シートの製造方法は、ベースフィルムを準備する段階と、ベースフィルムの一面に拡散パターンを有する拡散層を形成する段階と、を含む。 - 特許庁

When a manipulation with a function key A is detected in a step S105, a mask pattern is read according to a photographic mode and superposed on the through image (step S106).例文帳に追加

また、ステップＳ１０５でファンクションキーＡの操作が検出されると、撮影モードに沿ってマスクパターンを読み出し、スルー画像に重畳表示する（ステップＳ１０６）。 - 特許庁

Thereafter, the semiconductor wafer is subjected to a lithography process in a step 15 for the formation of a required wiring pattern on the wafer.例文帳に追加

その後、ステップ１５においてリソグラフィ工程が行われ、所望の配線パターンが形成される。 - 特許庁

The method for manufacturing the wire grid polarization film comprises a step of preparing a substrate and applying the grid structure layer, where a minute pattern is formed onto the substrate; a step of forming a grid pattern on the grid structure layer; and a step of depositing a metal on the grid pattern.例文帳に追加

又、本発明のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法は、基板を設け、前記基板の上部に微細パターンが形成されるグリッド構造層を塗布する段階と、前記グリッド構造層の上部にグリッドパターンを形成する段階と、及び前記グリッドパターンの上部に金属を堆積する段階とを含む。 - 特許庁