「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent the peeling of a coating film in a baking step in a pattern forming method using a photosensitive paste.例文帳に追加

感光性ペーストを用いたパターン形成方法において、焼成工程で塗膜に剥離が生じる。 - 特許庁

The reflective exposure method includes a step for selecting a specific pattern, e.g. a pattern of smallest size, in a reflective mask, a step for calculating the electromagnetic field near the mask for the pattern, and a step for determining the propagation direction of highest intensity from the distribution of diffraction light which is determined from the electromagnetic field near the mask thus calculated.例文帳に追加

反射型露光方法は、反射型マスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、該パターンについてマスク近傍の電磁界を計算するステップと、計算されたマスク近傍の電磁界から求まる回折光の分布から最も強度が強い伝播方向を求めるステップを含む。 - 特許庁

An initial position of an estimated pattern image is calculated from an image sensing result by using a specified algorithm (step 121).例文帳に追加

撮像結果から特定アルゴリズムを使用して初期の推定パターン像位置を算出する（ステップ１２１）。 - 特許庁

The method may include a step of forming a fourth pattern by moving an isolated pixel by a Monte-Carlo method.例文帳に追加

モンテカルロ法により孤立したピクセルを移動させて第４のパターンを作成する工程を含んでもよい。 - 特許庁

Hereupon, in the aged-deterioration counteracting step 50, the initial-mask layout pattern 10 is modified based on the evaluated results.例文帳に追加

経年劣化対策ステップ５０では、評価結果に基づいて初期マスクレイアウトパターン１０を修正する。 - 特許庁

Thereafter, the control device projects a pattern image to the wafer in the adjusted formation condition (step S16).例文帳に追加

その後、制御装置は、調整された形成条件で、ウエハに対してパターン像を投影する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

In the step, a plurality of pattern matrixes corresponding to a plurality of gradation levels are prepared in advance.例文帳に追加

この工程では、まず、複数の階調レベルに対応する複数のパターンマトリクスが予め準備される。 - 特許庁

The rectangular pattern TP2 is detected and the recording position is operated in the main scanning direction X (step S6).例文帳に追加

矩形パターンＴＰ２を検出し、主走査方向Ｘにおける記録位置を演算する（ステップＳ６）。 - 特許庁

The rectangular pattern TP1 is detected and the recording position is operated in the main scanning direction X (step S2).例文帳に追加

矩形パターンＴＰ１を検出し、主走査方向Ｘにおける記録位置を演算する（ステップＳ２）。 - 特許庁

In a formation process of an absorption layer pattern of the method of manufacturing the laminated feedthrough capacitor 1, precursors of a step absorption layer 22 for grounding and a step absorption layer 24 for grounding are formed on an electrode pattern 43 for grounding, and a precursor of a step absorption layer 32 for grounding is formed on an electrode pattern 44 for grounding.例文帳に追加

積層貫通コンデンサ１の製造方法では、吸収層パターンの形成工程において、接地用電極パターン４３上に接地用段差吸収層２２及び接地用段差吸収層２４の前駆体を形成し、また、接地用電極パターン４４上に接地用段差吸収層３２の前駆体を形成する。 - 特許庁

In the next step, the position of the substrate table is corrected from the measured position of the extending pattern.例文帳に追加

次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 - 特許庁

The method of forming a fine pattern begins with a step of providing a c-plane hexagonal semiconductor crystal.例文帳に追加

微細パターンの形成方法は、ｃ面六方晶系半導体結晶を設ける段階から始まる。 - 特許庁

Geometric value of a pivotal characteristic pattern is measured (step S1) to detect exposure amount from the measurement.例文帳に追加

ピボタル特性パターンの形状値を計測し（ステップＳ１）、その測定値から露光量の変動を検出する。 - 特許庁

With a photoresist pattern 201 as a mask, anisotropic etching to silicon is performed (figure 1(f): groove forming step).例文帳に追加

フォトレジストパターン２０１をマスクとして、シリコンに対する異方性エッチングを行う（図１（ｆ）：溝形成工程）。 - 特許庁

In the second step, a pattern having patterns 3a, 3b, 3c and 3d is formed on the resist layer 3.例文帳に追加

第二の工程では、パターン３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄを有するパターンがレジスト層３に形成される。 - 特許庁

An insulation layer is formed on a metal base material, and a copper foil pattern is formed on it (step S3).例文帳に追加

金属ベース基材上に絶縁層を形成し、その上に銅箔パターンを形成する（ステップＳ３）。 - 特許庁

In the removal step, the swollen resist film pattern is removed using the chemical used for the swelling.例文帳に追加

除去工程では、膨潤したレジスト膜パターンが膨潤化に使用された薬液を用いて除去される。 - 特許庁

A visual sensing method includes: a pattern matching step for performing pattern matching by comparing a photographed image with a matching model; and a matching model update step for generating an updated matching model based on a part matched with the matching model in the photographed image used in the pattern matching step, and updating the matching model based on the updated matching model.例文帳に追加

撮影画像とマッチングモデルとを比較してパターンマッチングを行うパターンマッチング行程と、パターンマッチング行程で用いた撮影画像のうちマッチングモデルとマッチングした部位に基づいて更新マッチングモデルを生成し、更新マッチングモデルに基づいてマッチングモデルを更新するマッチングモデル更新行程とを含む。 - 特許庁

To macroscopically inspect a step structure such as a fine pattern, etc., so that its average information is provided with ease.例文帳に追加

微細なパターン等の段差構造をマクロ的に検査して、その平均的な情報を容易に得る。 - 特許庁

In step S409, a character is recognized from the bar interval pattern for one converted magnetic pattern based on a lookup table for bar interval patterns and characters.例文帳に追加

ステップＳ４０９において、変換した１つ分の磁気パターンのバー間隔パターンから、バー間隔パターンと文字の対応表に基づいて、文字を認識する。 - 特許庁

A game machine such as PACHINKO machine, after displaying a reach state on a special pattern display (display section), reciprocates a pattern to be stopped last (Step S92).例文帳に追加

パチンコ機等の遊技機に関し、特別図柄表示器（表示部）にリーチになったことを表示した後、最後に停止する図柄を往復変動させる（ステップＳ９２）。 - 特許庁

In a step S409, a character is recognized from the bar interval pattern of one converted magnetic pattern on the basis of a correspondence table between bar interval patterns and characters.例文帳に追加

ステップＳ４０９において、変換した１つ分の磁気パターンのバー間隔パターンから、バー間隔パターンと文字の対応表に基づいて、文字を認識する。 - 特許庁

When a character is designated in a step ST8, this designated character is set as a recognition character, and pattern data of this character is substituted with recognition pattern data.例文帳に追加

ＳＴ８で文字が指定されたときには、この指定された文字を認識文字として設定すると共に、この文字のパターンデータを認識パターンデータで置き換える。 - 特許庁

And the extracted local pattern is classified based on the coincidence of its graphic characteristic and the classification pattern number is calculated for every positional relationship (step S7).例文帳に追加

そして、抽出した局所パターンを図形的特徴の一致度に基づいて分類し、分類パターン数を位置関係毎に算出する（ステップＳ７）。 - 特許庁

A patch with a pattern wherein an area with dots on is increased by one pixel at a time is outputted to all threshold patterns in order to confirm a visual pattern (step S1).例文帳に追加

視認パターン確認のため、ドットオンの領域を１ピクセルずつ増加させたパターンのパッチを、全てのしきい値パターンに対して出力する（ステップＳ１）。 - 特許庁

Whether or not the pattern of standby system K bytes acquired in a standby system high-speed interface part 1-1 is a predefined pattern is judged (step S51).例文帳に追加

予備系高速インタフェース部１−１において取得した予備系Ｋバイトのパターンが、予め定義されたパターンであるか否かを判定する（ステップＳ５１）。 - 特許庁

When the predicted pattern is determined from the preliminarily registered patterns, the determined pattern is displayed on the display surface (step 407).例文帳に追加

ステップ４０６が、あらかじめ登録してあるパターンの中から予測されるパターンを判別したとき、その判別したパターンを表示面に表示する（ステップ４０７）。 - 特許庁

The input test pattern is inputted into the logic circuit prior to the replacement of the sequence circuit by the combination circuit, thereby generating an expectation value test pattern (step S3).例文帳に追加

そして、順序回路を組み合わせ回路で置換する前の論理回路に上記入力テストパターンを入力して期待値テストパターンを生成する（ステップＳ３）。 - 特許庁

In a video of the step-up notice 3, a pattern 131 of a window is displayed overlappingly in front of a semitransparent pattern 121 of the window in a semitransparent color.例文帳に追加

ステップアップ予告３の映像ではウィンドの絵柄１３１が半透明な色彩で半透明な色彩のウィンドの絵柄１２１の前方に重ねて表示される。 - 特許庁

The external wiring pattern and the spacer layer are formed on the back of the high-polymer-based base plate, whereby a step of the external wiring pattern can be apparently eliminated.例文帳に追加

高分子系ベース基板の裏面に外部配線パターンとスペーサ−層とを形成することにより、外部配線パターンの段差を見かけ上なくすことができる。 - 特許庁

A photo-mask 81 used in the formation of this photo-resist pattern 82 is provided with a recessed pattern 81f at the corner 81e of the step 81d in the width direction.例文帳に追加

このフォトレジストパターン８２の形成に用いるフォトマスク８１には、その幅方向の段差８１ｄのコーナー部８１ｅに、凹部パターン８１ｆを設ける。 - 特許庁

Subsequently the block-shaped resist 102A is irradiated with the electron beam 103 with a second pattern different from the first pattern as shown in Fig. 1(e) (second exposure step).例文帳に追加

そして、図１（ｅ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａに、電子ビーム１０３を第１のパターンとは異なる第２のパターンで照射する（第２の露光ステップ）。 - 特許庁

Layout pattern data 100 having the hierarchical structure are developed to flat layout pattern data 101 by hierarchical structure development processing in Step S1.例文帳に追加

ステップＳ１においてる階層構造展開処理により、階層構造を持つレイアウトパターンデータ１００が、フラットなレイアウトパターンデータ１０１に展開される。 - 特許庁

A direct exposure device directly exposes the circuit pattern to a resist on the substrate based on design data of a theoretical circuit pattern created beforehand (step S2).例文帳に追加

ダイレクト露光装置が、予め作成した理論回路パターンの設計データに基づいて、基板上のレジストに直接に回路パターンを露光する（ステップＳ２）。 - 特許庁

A conductive paste is gravure-printed in a frame formed by the step- eliminating ceramics pattern 3 and is dried to form an internal electrode pattern 2.例文帳に追加

この段差解消セラミック用パターン３により形成された枠内に、導電ペーストをグラビア印刷し、乾燥して、内部電極パターン２を形成する。 - 特許庁

In the second step, the pattern is projected onto a second sub-region of the object 2, and a pattern reflected from the second sub-region of the object 2 is photographed.例文帳に追加

第２ステップにおいて、物体２の第２サブ領域に対してパターンを投影し、物体２の第２サブ領域から反射されたパターンを撮影する。 - 特許庁

To compose a process of forming a pattern of an internal electrode and a pattern of a step cancellation dielectric where the leveling property of paste is excellent, and an entire path line length is short.例文帳に追加

ペーストのレベリング性が良く、全体のパスライン長が短い、内部電極用パターンおよび段差解消誘電体用パターンの形成工程を構成する。 - 特許庁

The image recognition apparatus then repeats operations from resolution reduction in the first step to the pattern matching determination until a threshold value is reached in the pattern matching determination.例文帳に追加

そして、画像認識装置は１段階目の低解像度化からパターン照合判定までの動作をパターン照合判定において閾値に達するまで繰り返す。 - 特許庁

The extracted area is matched with the area of a master pattern, and the run length data of each area is compared with the run length data of the master pattern (step 20 and 22).例文帳に追加

抽出した領域をマスタパターンの領域とマッチングさせたのち、各領域ごとのランレグスデータをパスタパターンのランレグスデータと比較する（ステップ２０、２２）。 - 特許庁

Thereby, in the server 20, retrieval pattern information 412 including the pattern name and the retrieval condition is generated and registered in a dimension registry 22 (step 411).例文帳に追加

するとサーバ２０では、パターン名と検索条件を含む検索パターン情報４１２が生成されてディメンション・レジストリ２２に登録される（ステップ４１１）。 - 特許庁

Additionally, preferably, a step for removing the mask pattern is performed by using an etching recipe having a selection ratio to the first gate insulating film pattern 115.例文帳に追加

また、マスクパターンを除去する段階は、第１ゲート絶縁膜パターン１１５に対して選択比を有するエッチングレシピを使用して実施することが望ましい。 - 特許庁

In the reverse demodulation step, channel bit strings up to the first synchronization pattern is demodulated based on the second synchronization pattern, and the second demodulation data string is output.例文帳に追加

逆向復調ステップでは、第２同期パターンを基点として第１同期パターンまでのチャネルビット列が復調され、第２復調データが出力される。 - 特許庁

The resist 3 at a position corresponding to the second deepest pattern in the step pattern to be formed in the quartz substrate 1 is removed by exposure and development.例文帳に追加

次に、石英基板１に形成される段差パターンのうち、２番目に深いパターンに対応する位置のレジスト３を露光と現像により除去する。 - 特許庁

In the demodulation step, channel bit strings up to the second synchronization pattern is demodulated based on the first synchronization pattern, and the first demodulation data string is output.例文帳に追加

復調ステップでは、第１同期パターンを基点として第２同期パターンまでのチャネルビット列が復調され、第１復調データ列が出力される。 - 特許庁

When an exposure process is carried out through the step and repeat exposure method, the circuit pattern and the discriminating mark pattern adjacent to it are exposed to light at the same time.例文帳に追加

ステップ・アンド・リピート露光方法により露光を行う際に、１回の露光で回路パターンと、隣接する回路の識別記号パターンと、を同時に露光する。 - 特許庁