「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

For example, when it is detected that an operator has performed an ON operation to a switch displayed on a display (step S11), and an ON pattern is plotted on the display (step S12), and ON operation information is transmitted to a PLC 1 side (step S13).例文帳に追加

例えば図２に示すスイッチに対してオペレータがＯＮ操作を行ったことを検出すると（ステップＳ１１）、まずＯＮパターンをディスプレイ上に描画し（ステップＳ１２）、当該ＯＮ操作情報をＰＬＣ１側に送信する（ステップＳ１３）。 - 特許庁

The image management device decides similarity of the candidate image by the pattern matching, divides the candidate images into groups each comprising the similar images (step S54), decides image quality in each the group (step S55), and determines the image having the highest image quality as the representative image (step S56).例文帳に追加

候補画像をパターンマッチングにより類似度を判定し、類似する画像ごとのグループに分け（ステップＳ５４）、かかるグループごとに画質を判定し（ステップＳ５５）、最も高画質の画像を代表画像として決定する（ステップＳ５６）。 - 特許庁

According to the temperature detected by a temperature sensor 2 fitted to the robot, an operation pattern of the operating speed and acceleration of the robot is automatically varied to change the background color of a display 6 step by step corresponding to the magnitude of correction amount of the operation pattern.例文帳に追加

ロボットに取り付けた温度センサ２で検出した温度により、ロボットの動作速度や加速度の動作パターンを自動的に変化させ、動作パターンの補正量の大きさに応じてディスプレイ６の背景色を段階的に変化させる。 - 特許庁

The method of manufacturing the metal wiring includes, for example, a step (1) of forming a second polymer layer (alkylsilane fluoride) on a part except the desired pattern on a silicon substrate by a photolithogaphy method, and a step of then forming selectively a first polymer layer (octadecyltrimethoxysilane) on a desired pattern part.例文帳に追加

例えば、（１）．シリコン基材上において前記所望パターン以外の部分に第二高分子層（フッ化アルキルシラン）をフォトリソグラフィ法により形成し、次いで所望のパターン部分には第一高分子層（オクタデシルトリメトキシシラン）を選択的に形成する。 - 特許庁

To provide a resin composition for an ion implantation process which is high in the uniformity of resist pattern dimension in a step part of a substrate and is excellent in an embedding property in the step part, and to provide a method of forming a pattern using the resin composition for the ion implantation process.例文帳に追加

基板の段差部におけるレジストパターン寸法の均一性が高く、段差部の埋込性が良好である、イオン注入工程用の樹脂組成物及び該イオン注入工程用の樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A printed board 5 having a conductor layer 2 and a resist layer 3 is formed through the first step of forming a pattern to make an identification mark on the conductor layer 2 and the second step of forming a pattern to make an identification mark on the resist layer 3.例文帳に追加

導体層２とレジスト層３とを備えるプリント基板５は、導体層２に識別マークを構成するパターンを形成する第一の工程と、レジスト層３に識別マークを構成するパターンを形成する第二の工程とによって形成される。 - 特許庁

In reading processing, a feature portion is detected from an image imaged by a light-receiving sensor 23 (step S1), and it is tried to match a pattern of the detected feature portion with the feature pattern of which correspondence relationship is stored in the memory 35 (step S2).例文帳に追加

読み取り処理においては、受光センサ２３により撮像された画像から特徴部分を検出し（ステップＳ１）、検出した特徴部分のパターンとメモリ３５に対応関係が記憶されている特徴パターンとのマッチングを試みる（ステップＳ２）。 - 特許庁

Contrarily, a separation region 36 is provided between the electrode pattern 43 for grounding and a precursor of the step absorption layer 34, and a separation region 26 is provided between the electrode pattern 43 for grounding and a precursor of a step absorption layer 24.例文帳に追加

その一方、接地用電極パターン４３と段差吸収層３４の前駆体との間に離間領域３６を設けると共に、接地用電極パターン４３と段差吸収層２４の前駆体との間に離間領域２６を設けている。 - 特許庁

The printing method forms a pattern of different contrasts on a fabric by using both a step for ink jet printing a transparent pattern by using an UV ink having transparency on a fabric comprising a synthetic fiber and a dyeing step for dyeing the whole fabric by a dyestuff.例文帳に追加

合成繊維を用いた布帛に透明性を有するＵＶインクを用いて透明模様をインクジェット印刷する工程と、布帛の生地全体を染料により染色する染色工程とを併用して布帛にコントラストの異なる模様形成する。 - 特許庁

A recording sheet P is carried in the subscanning direction Y (step S4), and a rectangular pattern TP2 is recorded at the same position as the rectangular pattern TP1 in the main scanning direction X by ejecting ink only when the recording head moves rightward (step S5).例文帳に追加

記録紙Ｐを副走査方向Ｙへ搬送し（ステップＳ４）、記録ヘッドが右方向へ移動するときのみインクを吐出して、主走査方向Ｘにおいて矩形パターンＴＰ１と同一の位置に矩形パターンＴＰ２を記録する（ステップＳ５）。 - 特許庁

As the hard mask layer 12 is composed of a material which has high etching selectivity with respect to a substrate 11, the step of the second step portion 19 corresponding to the three-dimensional structural pattern can be formed so as to be smaller in depth than that of a desired three-dimensional structural pattern.例文帳に追加

また、ハードマスク層１２は基板１１に対してエッチング選択比が高い材料であるため、形成する３次元構造パターンに対応する２段目の段差部１９の段差は、所望する３次元構造パターンよりも、深さを小さく出来る。 - 特許庁

A user selects the color distribution of a test pattern in a color distribution selection picture (step S5) to thereby change calculation methods and parameters for use in calculating an image quality evaluation value in accordance with the selected color distribution of the test pattern (step S6).例文帳に追加

色分布選択画面において、テストパターンの色分布をユーザが選択することにより（ステップＳ５）、選択されたテストパターンの色分布に応じて画質評価値を算出する際に用いられる計算方法やパラメータを変更する（ステップＳ６）。 - 特許庁

The whole image in an image surface is calculated in the case that an actual spot image is to be present on the position of the estimated pattern image at that time (step 122), and a comparing pattern position is calculated from the calculated whole image by using the specified algorithm (step 123).例文帳に追加

そのときの推定パターン像位置に実際のスポット像があるとしたときの像面における全体像を算出し（ステップ１２２）、算出されたその全体像から、特定アルゴリズムを使用して比較パターン位置を算出する（ステップ１２３）。 - 特許庁

Then, after developing processing (step S3) and etching processing (step S4) are performed, image data of a real circuit pattern formed on the substrate are acquired by an imaging apparatus, and changed into predetermined data, and the circuit pattern is divided into a plurality of predetermined regions.例文帳に追加

その後、現像処理（ステップＳ３）およびエッチング処理（ステップＳ４）を施した後に、基板上に形成された実回路パターンの画像データを撮像装置で取得して所定のデータに変換し、回路パターンを所定の複数領域に分割する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern including a lower resist pattern, an upper resist pattern and a separator pattern laid between the lower resist pattern and the upper resist pattern includes a step of forming the lower resist pattern from a positive resist material, a NQD (naphthoquinone diazide) novolac resist material, an integrated NQD novolac resist material, a hydrophobic integrated NQD novolac resist material or a resist material essentially comprising a polyhydroxystyrene resin.例文帳に追加

下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、ＮＱＤノボラックレジスト材料、一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、疎水性一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 - 特許庁

The method for making a superconducting circuit comprises a step for writing a circuit pattern by coating one side or both sides of a dielectric substrate or an insulator substrate directly with coating solution for forming a superconducting film using an ink jet printer or a bubble jet (R) printer, a step for calcining the circuit pattern thus written, and a step for firing the calcined circuit pattern.例文帳に追加

誘電体基板もしくは絶縁体基板の片面又は両面上に、超電導膜形成用の塗布溶液をインクジェットプリンター又はバブルジェットプリンターで直接塗布して回路パターンを描画する工程と、該描画された回路パターンを仮焼する工程と、前記仮焼した後本焼する工程とを有することを特徴とする超電導回路作製方法である。 - 特許庁

A thin film transistor manufacturing method comprises a first step in which an auxiliary conductor pattern is provided so as to connect conductor patterns which are electrically insulated from each other, a second step in which impurity ions are implanted using the conductor patterns and the auxiliary conductor pattern as an ion implantation mask, and a third step in which the auxiliary conductor pattern is removed.例文帳に追加

本発明は、薄膜トランジスタの製造方法において、電気的に孤立した複数の導体パターンを相互に連結する補助導体パターンを設ける段階と、前記導体パターン及び前記補助導体パターンをイオン注入マスクとして利用して不純物イオン注入を実施する段階と、前記補助導体パターンを除去する段階とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The dry etching process comprises a step of disposing a semiconductor substrate where the photoresist pattern is formed on an etched membranous object in a reactor, a step of selectively depositing polymer on an upper section of the photoresist pattern by supplying the CO gas into the reactor to form a polymer layer, and a step of etching the etched membranous object with the photoresist pattern and polymer layer as the masks.例文帳に追加

乾式エッチング方法は、被エッチング膜質上にフォトレジストパターンが形成された半導体基板を反応器内に配置する段階と、反応器内にＣＯガスを供給してフォトレジストパターンの上部にポリマーを選択的に蒸着してポリマー層を形成する段階と、フォトレジストパターン及びポリマー層をマスクとして被エッチング膜質をエッチングする段階と、を含む。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming resist patterns without using a photolithography step and to provide a method of fabricating a liquid crystal display element capable of simplifying a patterning step.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程を使用せずに、レジストパターンを形成し得るパターン形成装備を提供し、且つ、パターニング工程を単純化し得る液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Character recognition is applied by comparing the extracted features with a standard pattern (step S4), and the characters are outputted to the format or the like of word processor software for post-processing (step S5).例文帳に追加

次いで、抽出された特徴を使って標準パターンと比較して文字認識を行い（ステップＳ４）、ワープロソフトのフォーマット等へ出力する等の後処理を行う（ステップＳ５）。 - 特許庁

The branches 110, 120 include concentric pattern forming parts respectively having radii increasing step by step from the center of the concentric patterns and coupling parts 112, 122 coupling the forming parts.例文帳に追加

ブランチ１１０、１２０は、同心パターンの中心から段階的に増加する半径を有する同心パターン形成部と、同心パターン形成部を連結する連結部１１２、１２２を含む。 - 特許庁

Continuously, when it is decided that a number U2 of special pattern start memories is '4' (step A84: Yes), the LED of an increase start memory number display device 37 is turned on (step A86).例文帳に追加

続いて、特別図柄始動記憶数Ｕ２が「４」であると判定すると（ステップＡ８４：Ｙｅｓ）、増加始動記憶数表示装置３７のＬＥＤを点灯させる（ステップＡ８６）。 - 特許庁

When this flag is set (Y in step S12) in the case of carrying out copying, a control program existing in a ROM acting like a memory to detect the dot pattern or the like (step S14).例文帳に追加

複写を行う際に、このフラグが立てられているときは（ステップＳ１２のＹ）、メモリのＲＯＭに存在する制御プログラムを用いて、ドットパターンなどの検出を行う（ステップＳ１４）。 - 特許庁

It is checked (step 201) whether all the patterns of a term pattern rule 21 are all matched against and when not, the patterns of matching are matched (scanned) in the object document (step 202).例文帳に追加

そして、用語パタンルール２１の全パタンを照合しているかどうか調べ（ステップ２０１）、照合していなければ照合のパタンを対象文書中で照合（走査）する（ステップ２０２）。 - 特許庁

Then, an 'end' button is depressed on the sub-screen to return to an initial picture (a step 3), and a registered object is added with a registration name (a step 4), and the print set-up work of the first pattern is ended.例文帳に追加

サブ画面で、「終了」ボタンを押圧して初期画面に戻り（ステップ３）、登録したオブジェクトに登録名を付け（ステップ４）、第１のパターンの印刷設定作業を終了する。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel includes a step laminating a dielectric layer and a green sheet with an electrode pattern formed on a substrate, and a step calcinating a substrate.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、誘電体層と電極パターンが形成されたグリーンシートを基板上にラミネートするステップと、基板を焼成するステップとを含む。 - 特許庁

Additionally, the method for manufacturing the plate made of the resin has a step for forming a metal structure and a step for forming the plate made of the resin, by transferring the pattern of the metal structure.例文帳に追加

また、金属構造体を形成するステップと、金属構造体のパターンを転写して樹脂製プレートを形成するステップを備えた樹脂製プレートの製造方法も提供する。 - 特許庁

In a three-dimensional entity reconstruction step, a three-dimensional entity rendered with the triangular meshes is reconstructed for each of the subpatterns divided by the profile pattern division step.例文帳に追加

三次元実体再構成ステップは、前記輪郭図形分割ステップによって分割された子図形毎に、それぞれが三角形メッシュで表現される三次元実体を再構成する。 - 特許庁

Further, the step (A) comprises a step (a1) wherein the liquid drop is discharged so as to hit a position apart from the bank pattern by at least 1/2 times of the diameter ϕ by the center of the drop.例文帳に追加

そして、ステップ（Ａ）は、バンクパターンから少なくとも直径φの１／２倍離れた位置に液滴の中心が当たるように、液滴を吐出するステップ（ａ１）を含んでいる。 - 特許庁

Then musical performance information of a part 2 stored in a step that a current step CS indicates is read out of the automatic musical performance pattern 50a and sent to the sound source 30 (S49).例文帳に追加

次にカレントステップＣＳが示すステップに記憶されているパート２の演奏情報を自動演奏パターン５０ａから読み出し、この演奏情報を音源３０へ送る（Ｓ４９）。 - 特許庁

An edge position of a pattern P2 is detected from a shape information of the pattern (a step S1), and an irradiation range Ri2 as a range for irradiation of the charged particle beams is set at an edge and its adjacent spaces of the pattern 2.例文帳に追加

パターンＰ２の形状情報からこのパターンのエッジ位置を検出し（ステップＳ１）、荷電ビームを照射する領域としての照射領域Ｒｉ２をパターンＰ２のエッジおよびその周辺領域に設定する（ステップＳ２）。 - 特許庁

The pattern forming device calculates drawing data based on the measurement data (measurement data of the elongation and contraction of the base material length, the measurement data of the position of the previous process pattern) and performs the formation of the fresh pattern based on the drawing data (step 905).例文帳に追加

パターン形成装置は、測定データ（基材長の伸縮の測定データ、前工程パターンの位置の測定データ）に基づいて描画データを算出し、当該描画データに基づいて新たなパターンの形成を行う（ステップ９０５）。 - 特許庁

When the drawn pattern is determined from the preliminarily registered patterns, the determined pattern is displayed on the display surface, and a signal corresponding to the determined pattern is outputted (step 404).例文帳に追加

ステップ４０４が、あらかじめ登録してあるパターンの中からの描画されたパターンを判別したとき、その判別したパターンを表示面に表示するとともに、その判別したパターンに対応する信号を出力する（ステップ４０４）。 - 特許庁

As to the pattern matching, the Fourier transformation data of a reference pattern are compared with target Fourier transformation data, so that the classification of the curve represented by dot data can be executed based on the result of the pattern matching (a step S8).例文帳に追加

ここで、パターンマッチは、基準パターンのフーリエ変換データと対象となるフーリエ変換データとを比較することによって行い、このパターンマッチの結果に基づいて、ドットデータで表された曲線の分類を行う（ステップＳ８）。 - 特許庁

The method for regenerating the pattern of a photomask, for regenerating a pattern 2 formed by using chromium or molybdenum silicide on the substrate 1 of a photomask 10, includes an exposure step of exposing the pattern 2 to an argon fluoride laser beam 3.例文帳に追加

フォトマスク１０の基板１上にクロム又はモリブデンシリサイドを用いて形成されたパターン２を再生するためのフォトマスクのパターン再生方法は、パターン２にフッ化アルゴンレーザ３を露光する露光工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

When the internal first command is received (step 152), a main CPU starts the advance reading of pattern data concerning both demonstration patterns for introduction and for a round from a main ROM to a main RAM (step 157) before a step 160 where an internal fourth command based on a fourth command for instructing the display of the first demonstration pattern is received.例文帳に追加

メインＣＰＵは、内部第１コマンドを受領すると（ステップ１５２）、最初のデモ図柄の表示を指令する第４コマンドに基づく内部第４コマンドを受領するステップ１６０の前に、導入用、ラウンド用双方のデモ図柄に係る図柄データの、メインＲＯＭからメインＲＡＭへの先行読み込みを開始する（ステップ１５７）。 - 特許庁

This method comprises a mortar filling step of filling a mortar 2 into the defective portion 1b formed on a fair-face concrete surface 1a, a form pattern forming step of forming a form trace pattern on the portion to be restored and a gradation step of stippling a gradation coating material moderated to a desired color with an inorganic pigment.例文帳に追加

打放しコンクリート表面１ａに生じた欠損部１ｂにモルタル２を充填するモルタル充填工程と、修復箇所に型枠跡模様を形成する型枠模様形成工程と、無機質顔料により所望の色に調整されたぼかし用塗材を叩き塗りするぼかし工程と、を有するものである。 - 特許庁

The method has a step of detecting a pattern matching each lane based on a specific pit string, a step of determining a delay quantity to be added to one or more lanes which have detected the pattern matching, and a step of reading a received signal from a received signal buffer of one or more lanes according to the delay quantity.例文帳に追加

当該方法は、前記レーン毎に特定のビット列に基づきパターンマッチングを検出する段階、前記パターンマッチングが検出された１又は複数のレーンに付加すべき遅延量を定める段階、及び前記遅延量に従い、前記１又は複数のレーンの受信信号バッファから受信信号を読み出す段階、を有する。 - 特許庁

When a certain condition to switch images (for example, a Pachinko ball enters into a prize winning hole) is set (Step 101), an image pattern of the background images to be displayed next is randomly selected from among plural image patterns (Step 102) and the background images are switched over to the selected image pattern (Step 103).例文帳に追加

そして、所定の画像切換条件（例えばパチンコ球が入賞口に入賞すること等）が成立したときに（ステップ１０１）、次に表示する背景画像の画像パターンを複数の画像パターンの中からランダムに抽出し（ステップ１０２）、背景画像を抽出した画像パターンに切り換える（ステップ１０３）。 - 特許庁

This method includes a step of preparing a pattern forming material having a wettability pattern composed of lyophilic areas and liquid repellent areas on the surface of a substrate, a step of applying an inspection liquid to the lyophilic areas, and a step of inspecting the inspection liquid applied to the lyophilic areas.例文帳に追加

基材表面に親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを有するパターン形成体を準備する工程と、上記親液性領域に検査液を付着させる工程と、上記親液性領域に付着した検査液を検査する工程とを有するパターン形成体の検査方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the oxide microstructural body includes: a step of arranging an anodized layer on a substrate; a step of arranging a solid electrolyte layer with a recessed pattern formed on a surface thereof on the anodized layer; and a step of oxidizing the anodized layer at a bottom part of the recessed pattern by an anodizing method.例文帳に追加

基板上に被陽極酸化層を配置する工程と、表面に凹状パターンを形成した固体電解質層を該被陽極酸化層上に配置する工程と、陽極酸化法により凹状パターン底部の該被陽極酸化層を酸化する工程を含む酸化物微細構造体の製造方法。 - 特許庁

The method includes an imprinting step of pressing a mold 5 formed with a rugged pattern in the lower clad layer 2 after coating of the lower clad layer 2 and transferring the rugged pattern to the lower clad layer 2, and a printing step of printing the core layer 3 in a recessed part 6 formed on the surface of the lower clad layer 2 by the imprinting step.例文帳に追加

下部クラッド層２の塗工後に、下部クラッド層２に凹凸パターンが形成されたモールド５をプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層２表面に転写するインプリント工程と、インプリント工程により下部クラッド層２表面に形成された凹部６内に、コア層３を印刷する印刷工程と、を含む。 - 特許庁

Tread patterns for a plurality of pitches are individually prepared to prepare a three-dimensional model of the tread patterns for the plurality of pitches (Step 102), the mesh division is performed (Step 104), the mesh is developed in the circumferential direction of a tire to prepare a tread pattern model (Step 106), and the tread pattern model is synthesized with the tire body model to prepare the tire model (108).例文帳に追加

複数ピッチ分のトレッドパターンを個々に作成して複数ピッチ分のトレッドパターンの３次元モデルを作成し（ステップ１０２）、メッシュ分割し（ステップ１０４）、これをタイヤの周方向に展開してトレッドパターンモデルを作成し（ステップ１０６）、トレッドパターンモデルとタイヤ本体モデルとを合成してタイヤモデルを作成する（１０８）。 - 特許庁

This method includes the step of forming a concave/convex pattern in the surface of a 2P resin layer formed on a flat substrate, the step of forming a recording layer on the concave/convex pattern, and the step of peeling the flat substrate from the 2P resin layer after the 2P resin layer and the recording layer are bonded to the support substrate of an optical recording medium.例文帳に追加

平坦基板上に塗布された２Ｐ樹脂層の表面に凹凸パターンを形成し、前記凹凸パターン上に記録層を形成し、前記２Ｐ樹脂層及び前記記録層を光記録媒体の支持基板上に接着した後に、前記平坦基板を前記２Ｐ樹脂層から剥離する光記録媒体の製造方法。 - 特許庁

A method for deciding the optical quality of a reflecting product 12 includes a step of reflecting a first gray scale pattern 26 from the product 12, a step of picking up the first image of the pattern 26 by means of an image pickup device 24, and a step of deciding the optical quality of the product 12, based on the data obtained from the image.例文帳に追加

反射製品の光学品質を決定する方法が、第１のグレースケール・パターン26を製品12から反射させる工程、第１パターンが製品から反射した後、撮像装置24で第１パターン26の第１画像を得る工程及び、第１画像から得られたデータに基き、製品の光学品質を決定する工程、を含む。 - 特許庁