「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(724ページ目) - Weblio英語例文検索

A surface layer 4, at least high in seed defect density, is removed in a first conductive silicon carbide epitaxial film 2 grown from the front surface of the first conductive silicon carbide single crystal substrate 1 by chemical vapor deposition method, and thereafter, a second conductive silicon carbide epitaxial film 3 is made to grow from the front surface of the silicon carbide epitaxial film 2, whose surface layer 4 is removed.例文帳に追加

化学気相蒸着法によって第１導電型の炭化珪素単結晶基板１の表面から成長させた第１導電型の炭化珪素エピタキシャル膜２における少なくとも種欠陥密度が高い表層４を除去した後、表層４を除去した炭化珪素エピタキシャル膜２の表面から第２導電型の炭化珪素エピタキシャル膜３を成長させる。 - 特許庁

An optical recording medium having a recording layer formed on a transparent substrate is characterized in that the recording material is composed of an organic metal complex and the residue of an uncomplexed organic ligand is less than 10% in terms of mass ratio.例文帳に追加

透明基板上に設けられた記録層を有する光記録媒体において、該記録材料が有機金属錯体からなり、かつ錯体化されていない有機配位子の残存量が質量比で１０％未満であることを特徴とする光記録媒体。 - 特許庁

In this micro-heater, an insulating layer 200 is constituted by layering on a surface 110 of a semiconductor substrate 100 the lower tensile stress film 211, the lower compressive stress film 212, the upper compressive stress film 221 and the upper tensile stress film 222 in this order.例文帳に追加

マイクロヒータにおいて、絶縁層２００は、下側引張応力膜２１１、下側圧縮応力膜２１２、上側圧縮応力膜２２１及び上側引張応力膜２２２を順次半導体基板１００の表面１１０に積層して構成されている。 - 特許庁

The layer consisting of the nano dots of the Fe oxide is formed by preparing Fe fine particles using a method and the like using an alcohol reduction method to an organic solvent mixed with a salt or a complex of Fe, arranging the Fe fine particles on a substrate and then oxidizing the fine particles.例文帳に追加

Ｆｅ酸化物のナノドットから成る層は、Ｆｅの塩または錯体を混和した有機溶媒に対してアルコール還元法を用いる方法等を用いてＦｅ微粒子を作製し、これを基板上に配列した後、酸化することにより形成する。 - 特許庁

An electromagnetic induction heating type organic electrically conductive layer 4 which generates heat by an eddy current loss is formed on the surface of a belt substrate 3 made of a heat resistance resin or rubber to obtain the objective heating belt 2 which is placed opposite to an electromagnetic induction heater 1 and heated.例文帳に追加

電磁誘導加熱装置１に対向配置されて加熱せしめられる加熱ベルト２であって、耐熱性樹脂又はゴム製のベルト基体３表面に、渦電流損失により発熱する電磁誘導発熱性有機導電層４を形成する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently manufacturing a thin semiconductor device having an excellent flexural strength by removing a crushed layer, which is generated on a ground surface of a semiconductor substrate due to grinding, in a simple method without accompanying generation of an out gas and elution of a pressure-sensitive adhesive.例文帳に追加

研削により半導体基板の研削面に生じる破砕層を、アウトガスの発生や、粘着剤の溶出を伴うことなく簡便な方法により除去し、優れた抗折強度を有する薄型半導体装置を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a copper alloy foil for laminate with small surface roughness, which can be directly bonded with a polyimide film without being roughened, because of adequate wettability with a varnish including polyamic acid, in a two-layer printing circuit board which makes the resin substrate from the varnish as a raw material.例文帳に追加

ポリアミック酸を含むワニスを原料として樹脂基板とする２層プリント配線板において、ワニスとのぬれ性が良好で粗化処理を施さずにポリイミドとの直接接合が可能な表面粗さの小さい積層板用の銅合金箔を提供すること。 - 特許庁

To provide a hologram optical element master disk by which the substrate thickness of a master disk and a recording layer for reproduction, and the diffracted angle of a hologram optical element can be freely designed, and in which, in the case of reproduction, a condenser lens is not required in front of the master disk.例文帳に追加

ホログラム光学素子原盤について、原盤や複製用記録層の基板厚、及びホログラム光学素子の回折角の自由な設計が可能であり、複製の際に原盤直前に集光レンズを必要としないホログラム光学素子原盤を提供する。 - 特許庁

Light beams emitted from the first region, second region, and third region and external light incident on the lighting device 106 from an observer side through a part which does not overlap the light shield layer 216 is emitted as illumination light through the second substrate 211.例文帳に追加

第１領域と第２領域と第３領域の各々から発光された光と、観察者側から遮光層２１６と重ならない部分を介して照明装置１０６に入射された外光とが、照明光として第２基板２１１を介して出射される。 - 特許庁

The ink jet recording medium, consisting of a recording layer provided by applying and drying a solution containing a thermoplastic fine particle and a binder on at least one side of a substrate, is characterized in that the binder is a soap-free type polymeric emulsified substance.例文帳に追加

支持体上の少なくとも片面に熱可塑性微粒子と結着剤を含有する液を塗工乾燥して記録層を設けてなるインクジェット記録媒体において、該結着剤がソープフリータイプの高分子乳化物であることを特徴とするインクジェット記録媒体。 - 特許庁

The light modulation element 30 includes an electrode 32 capable of generating mainly an electric field in a direction parallel to a surface intersecting with a normal line of a transparent substrate 31, and a light modulation layer 34 containing a bulk 34A and a fine particle 34B which have optical anisotropy.例文帳に追加

光変調素子３０は、透明基板３１の法線と交差する面と平行な方向に主たる電場を発生させることの可能な電極３２と、光学異方性を有するバルク３４Ａおよび微粒子３４Ｂを含む光変調層３４とを有する。 - 特許庁

The photoreceptor comprises a photosensitive drum 2 having a photosensitive layer containing a photoconductive material on the outer peripheral face of a cylindrical conductive substrate, and a gear flange 1 which is fitted to the open end of the drum and transmits the rotation driving force from the apparatus body to the photoreceptor drum 2.例文帳に追加

円筒状導電性基体の外周面に、光導電性材料を含む感光層が形成されてなる感光ドラム２と、その開口端部に嵌合されて、装置本体からの回転駆動力を感光ドラム２に伝達するギアフランジ１と、を備える。 - 特許庁

A selectively absorptive wire-grid polarizer 10a for polarizing incident light 12 comprises a thin film lamination layer 18 disposed on an upper side of a substrate 14, composed of a wire-grid array of elongated metal elements 26 having a period less than half of wavelength of the light.例文帳に追加

入射光１２を偏光するための選択吸収性ワイヤーグリッド偏光素子１０ａは、基体１４の上側に配設され、光の波長の半分よりも短い周期を有する延設金属素子２６のワイヤーグリッド配列からなる薄膜積層１８を備えている。 - 特許庁

In the film forming substrate 1 to be used in the process of manufacturing the large pellicle film 4 having ≥1,000 cm^2 pellicle area, a conductive layer 3 is formed by coating the back face of a large size glass sheet 2 with chromium at a predetermined thickness.例文帳に追加

ペリクル面積が１，０００ｃｍ^２以上を有する大型ペリクル膜４を製造する際に用いられる大型ペリクル用成膜基板１であって、大型のガラス板２の裏面に所定の厚さにクロムをコーティングして導電層３を積層した構造である。 - 特許庁

To improve uniformity in a dielectric film and control the composition along the thickness direction of the dielectric film by eliminating incubation time in forming the dielectric film by a CVD method on a Si substrate surface, that is covered by a thin molecular layer of an insulator.例文帳に追加

薄い絶縁物の分子層で覆われたＳｉ基板表面にＣＶＤ法により誘電体膜を形成する際のインキュベーション時間をなくし、得られる誘電体膜の均一性を向上させると同時に、誘電体膜の膜厚方向の組成を制御する。 - 特許庁

An III-family nitride-system compound semiconductor laser diode 100 is provided with a substrate 1, a III-family nitride-system compound semiconductor layer 3, and a resonator Rd in a rectangular parallelepiped shape being formed by etching by laminating a plurality of III-family nitride-system compound semiconductor layers at the upper portion.例文帳に追加

III族窒化物系化合物半導体レーザダイオード１００は、基板１と、III族窒化物系化合物半導体層３と、その上部に複数のIII族窒化物系化合物半導体層を積層しエッチングで形成された直方体状の共振器Ｒｄを有する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet containing inorganic filler in its adhesive layer, capable of imparting properties such as masking ability thereto without complicated treatment on one or both sides of the substrate and capable of being torn off without leaving the adhesive on a signboard when tearing the adhesive sheet off the signboard.例文帳に追加

無機フィラーを粘着層に含有させた粘着シートであって、支持体の片面または両面に煩雑な処理をしなくても隠蔽性などの性能を付与でき、粘着シートを看板から剥がす際に、看板に糊残りしない粘着シートを提供する。 - 特許庁

A predetermined area of multipart targets (3 and 4) formed of a plurality of members is preferably affected, the stoichiometric ratio of the target material sputtered on a substrate (15) to be covered is adjusted thereby, and the structural homogeneity of a layer can be improved.例文帳に追加

こうすることにより、複数部材からなるターゲット（３，４）の一定の領域が好ましくは影響を受け、それにより、被覆されるべき基板（１５）上のスパッタされたターゲット材料の化学量論比を調整し、層の構造の均質性を改善することができる。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal display panel without uneven threshold voltage and with high display quality in a method for its manufacturing containing a step to rub an alignment layer formed on a surface of a substrate with a rubbing roller to impart an aligning property to a liquid crystal.例文帳に追加

液晶に配向性をもたせるために、基板表面に形成された配向膜をラビングロールでラビングする工程を含む液晶表示パネルの製造方法において、しきい値電圧のむらのない表示品位の高い液晶表示パネルが得られるようにする。 - 特許庁

In the groove forming process, a plurality of props 24 for discharging ink droplets with parting the piezoelectric members 36, 37 by grinding the groove 35 with such a depth as to reach the second ceramic layer 23 of the laminated substrate 12 from the surface 33A of the piezoelectric members 36, 37.例文帳に追加

溝形成工程では、圧電部材３６，３７の表層３３Ａから積層基板１２の第２のセラミックス層２３に達する深さの溝３５を研削加工することにより、圧電部材３６，３７を分断してインク滴吐出用の支柱２４を複数個形成する。 - 特許庁

For a semiconductor device in a control system circuit region around a cell, an element isolation region 16 to isolate the element region 10 of a semiconductor substrate 11 is made, and a first conductive layer 13 is made through a first insulating film 12 in the element region 10.例文帳に追加

セル周辺制御系回路領域における半導体装置は、半導体基板１１の素子領域１０を分離する素子分離領域１６が形成され、素子領域１０に第１の絶縁膜１２を介して第１の導電層１３が形成されている。 - 特許庁

This nitride semiconductor laser device is provided with n-type nitride semiconductor layers 102-105 and p-type nitride semiconductor layers 107-110 formed on a substrate 100, and a light emitting layer 106 interposed between the n-type layers 102-105 and p-type layers 107-110.例文帳に追加

窒化物半導体レーザ素子は、基板１００上に形成された窒化物半導体からなるｎ型層１０２〜１０５およびｐ型層１０７〜１１０と、ｎ型層１０２〜１０５とｐ型層１０７〜１１０との間に配置された発光層１０６とを備える。 - 特許庁

To allow spacers to be stayed at prescribed positions in a semispherical dot of spacer carrier liquid 122 after the spacers are dried without being moved at random, in a stage for drying the spacer carrier liquid ejected onto an alignment layer of a glass substrate subjected to an alignment treatment.例文帳に追加

配向処理されたガラス基板の配向膜上に吐出されたスペーサーキャリア液の乾燥過程において、スペーサーがスペーサーキャリア液２１の半球状ドット内で、ランダムに移動することなく、乾燥終了後に所定位置に残留させるようにすることである。 - 特許庁

A predetermined circuit pattern 18, a through hole 24, and electrode pads 22 and 32 are formed on a substrate of each layer, and electrode pads for connection provided at positions opposed to the adjacent substrates 12, 24, and 34 are electrically connected through bonding members.例文帳に追加

各層の基板に所定の回路パターン１８とスルーホール２４、及び電極パッド２２，３２が形成され、それぞれ隣接する各基板１２，２４，３４に対向する位置に設けられた接続用の電極パッ同士が導電性の接合部材を介して電気的に接続される。 - 特許庁

The method for manufacturing a stimulable phosphor panel of this invention is provided with a humidifying process for humidifying a phosphor panel 4 where a stimulable phosphor layer 3 is formed by the vapor deposition method on a specific substrate 2 under a humidity environment of 30 to 60%.例文帳に追加

本発明に係る輝尽性蛍光体パネルの製造方法は、所定の基板２上に気相堆積法で輝尽性蛍光体層３が形成された蛍光体パネル４を相対湿度３０〜６０％の湿度環境下で加湿する加湿工程を備えている。 - 特許庁

The surface acoustic wave device and the manufacturing method thereof can be realized whereby the characteristic can be inspected in a wafer state while suppressing destruction by discharge through the adoption of a configuration wherein an oxygen deficient layer is included in a face of a piezoelectric substrate on which electrodes are formed.例文帳に追加

圧電基板の電極を形成する面に酸素欠乏層を有する構成とすることにより、放電破壊を抑制しながらウエハ状態で特性検査を可能とする弾性表面波デバイスおよびその製造方法を実現することができる。 - 特許庁

A protective insulating film 14 is deposited on a field effect transistor provided on a semiconductor substrate 10, and a contact plug 15 whose lower end is connected to the impurity diffused layer 13 is formed in the protective insulating film 14.例文帳に追加

半導体基板１０上に形成された電界効果型トランジスタの上には保護絶縁膜１４が堆積されており、該保護絶縁膜１４中には、下端部が電界効果型トランジスタの不純物拡散層１３と接続するコンタクトプラグ１５が形成されている。 - 特許庁

To provide an optoelectronic apparatus capable of preventing an element substrate from causing large difference in level thereon by making an anodizing film used as a dielectric layer in the retention capacitance thin in thickness, and to provide an electronic apparatus and a method for manufacturing the optoelectronic apparatus.例文帳に追加

保持容量において誘電体層として用いる陽極酸化膜を薄くすることにより、素子基板上に大きな段差が発生することを防止可能な電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A fuse element 31 for laser trimming, a breeder resistor 410, a complete depletion-type high-speed MOS transistor 201 and a partial depletion- type high breakdown strength-type MOS transistor 210 are formed of a single- crystal silicon device formation layer 103 on an SOI substrate.例文帳に追加

レーザトリミング用ヒューズ素子３１とブリーダー抵抗４１０と完全空乏型の高速ＭＯＳトランジスタ２０１、及び部分空乏型の高耐圧型ＭＯＳトランジスタ２１０は、ＳＯＩ基板上の単結晶シリコンデバイス形成層１０３で形成されている。 - 特許庁

The organic electroluminescent element is provided with an anode A located on an element substrate 10, an organic functional film F located on the anode and at least equipped with an organic light-emitting layer 14, and a cathode C as a transparent conductive oxide film located on the organic functional film.例文帳に追加

素子基板１０上に位置するアノードＡと、アノード上に位置し、少なくとも有機発光層１４を備える有機機能膜Ｆと、有機機能膜上に位置し、透明伝導性酸化膜であるカソードＣと、を備える有機電界発光素子である。 - 特許庁

A first resin layer 18 is provided on the active surface 10A of the semiconductor substrate 10, set thicker than the height of a part of the through-electrode 12 protruding from the active surface 10A, and openings that make, at least, parts of the through-electrodes 12 exposed to the outside.例文帳に追加

半導体基板１０の能動面１０Ａ側に設けられ、かつ能動面１０Ｂ側に突出した貫通電極１２の高さよりも厚く、貫通電極１２の少なくとも一部を露出する開口を有した第１の樹脂層１８を備える。 - 特許庁

The semiconductor device 1 has a metallic base substrate 2 for heat-dissipating, the wiring board 3, a MOSFET 4 as a semiconductor element, externally leading terminals 5A, 5B, 5C, a casing 6 formed of a synthetic resin, a fixing resin 7, and a gel-like resin layer 8.例文帳に追加

半導体装置１は、放熱用の金属ベース基板２と、配線基板３と、半導体素子としてＭＯＳＦＥＴ４と、外部導出端子５Ａ，５Ｂ，５Ｃと、合成樹脂製のケース６と、固定用樹脂７と、ゲル状樹脂層８とをそれぞれ備えている。 - 特許庁

The atomic-layer deposition method includes controlling the amount of the gases to be introduced into the inner channel 8A and the outer channel 8B when supplying the gases onto the substrate 6, so that one of the gases pass through the inner channel 8A constantly at the same flow rate as the other gas passing through the outer channel 8B.例文帳に追加

基板６に対するガス供給時に、内側流路８Ａを通過するガスの流量と外側流路８Ｂを通過するガスの流量が常に同じになるように、内側流路８Ａおよび外側流路８Ｂへのガス導入量を制御する。 - 特許庁

The arrangement intervals in the lateral direction of the slit portions 22 are optimized so as to compensate for optical positional deviation of the slit portions 22 caused by refraction index difference of two layers (an air layer 4 and a substrate 21) different in reflective index between the display unit 1 and the slit portions 22.例文帳に追加

スリット部１の横方向の配置間隔は、表示部１とスリット部２２との間の屈折率の異なる２つの層（空気層４および基材２１）の屈折率差によって生ずるスリット部２２の光学的な位置ずれを補償するように最適化する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a filler layer for a solar cell module and a reclaimable solar cell element or a reclaimable transparent front substrate, for making it possible to recover reusable resources such as transparent front substrates, solar cell elements, etc. from constituting members, and recycle or reuse them.例文帳に追加

構成部材のうち透明前面基板や太陽電池素子などの再利用可能な資源を回収し、リサイクルもしくはリユースすることを可能とすること、および再生太陽電池素子もしくは再生透明前面基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light-emitting element of which light extraction efficiency and heat dissipation are improved and prevents cracking on a surface of a growth layer during peeling of a substrate for growth to improve the yield.例文帳に追加

半導体発光素子の光取り出し効率及び放熱性の向上を図るとともに、成長用基板の剥離時における成長層表面でのクラック発生を防止して歩留まり向上を図ることができる半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer body capable of manufacturing a pigment intensified type solar battery of high performance free from short circuiting between a counter electrode and a power generation layer, with satisfactory yield, even when a substrate is bent, in a transfer body used when manufacturing the pigment intensified type solar battery.例文帳に追加

色素増感型太陽電池を製造する際に用いられる転写体において、基板が湾曲しても対向電極と発電層の短絡の無い高性能な色素増感型太陽電池を歩留まり良く製造することができる転写体を提供する。 - 特許庁

An inorganic material such as SiO2, TiO2 and ZrO2 is dissolved into a solvent including an alkoxide, methoxide, proxide, n-methylpropiden, or the like and a dissolution material of the solvent and an epoxy photosensitive resin is subjected to spin-coating on a metallic substrate 9 to be prebaked to form a first layer 10.例文帳に追加

まず、金属基板９上に、ＳｉＯ_2やＴｉＯ_2、ＺｒＯ_2などの無機物をアルコキシド、メトキシド、プロキシドをｎ−メチルプロピドン等の溶媒に溶解し、エポキシ系の感光性樹脂との溶解物をスピンコートし、プリベークすることで第１の層１０を形成する。 - 特許庁

In a semiconductor device in which a metal wiring layer arranged on the main surface of a semiconductor substrate via an interlaminar insulating film is covered with a protective insulating film, the side surface of the interlaminar insulating film is covered with the protective film in the chip end of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体基板主面上に層間絶縁膜を介して配置された金属配線層が保護絶縁膜によって被覆されている半導体装置において、半導体装置のチップの端部にて層間絶縁膜の側面を保護絶縁膜によって覆う。 - 特許庁

To provide a method for forming a protective film of dense film quality at a low temperature of ≤200°C on an upper part of a pixel controlling element and a wiring pattern for preventing mixing of impurities into a liquid crystal cell layer when the pixel controlling element is selectively transferred to a liquid crystal display substrate.例文帳に追加

液晶ディスプレイ基板に画素制御素子を選択的に転写するにあたり、液晶セル層への不純物混入を防止するため、画素制御素子及び配線パターンの上部に、緻密な膜質の保護膜を２００℃以下の低温で形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a conductive pattern forming substrate, a laser beam L of extremely short pulses with the pulse width being less than 1p second is irradiated in a given pattern on a transparent conductive layer A_1, made of an organic conductor formed on at least one surface of a transparent base material A_2.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明基材Ａ_２の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層Ａ_１に、パルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the formation of a multilayer thin film wherein a multilayer thin film product can be formed at high speed, by forming the film in such a way that the film thickness of a thin film at least on a specific layer being formed on a substrate is formed with an accuracy of 0.5 nm or less.例文帳に追加

基板上に製膜中の少なくとも特定の層の薄膜の膜厚を０．５ナノメーター以下の精度で製膜することによって多層薄膜製品の歩留りを高くすることができる多層薄膜形成方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

A light dispersion plate 3 is formed on the light emitting side of the chip type light emitting elements 1 through a fixed spacing d from the chip type light emitting elements 1, and a heat sink 4 is formed on the other side of the insulating substrate 2 so as for an air layer not to exist between them.例文帳に追加

このチップ型発光素子１の発光面側に、そのチップ型発光素子１から一定間隔ｄを介して光拡散板３が設けられると共に、絶縁性基板２の他面側に放熱板４が空気層が介在しないように設けられている。 - 特許庁

A magnetic head having a structure produced by laminating a substrate, ferromagnetic material 3, magnetic coil 1 embedded in an insulating material and transparent insulating protective layer is disposed in such a manner that the ferromagnetic material 3 is placed in the opposite side to the face of the magnetic coil 1 facing an optical disk medium.例文帳に追加

基板、強磁性体３、絶縁体中に埋設された磁気コイル１、及び、透明絶縁保護層の順で積層した構造からなる磁気ヘッドを、磁気コイル１の光ディスク媒体と対向する面と反対側に強磁性体３が位置するように配置する。 - 特許庁

A silicon layer, whose dissolved oxygen concentration is not higher than 8×10^17(atoms/cm^3) and whose impurity concentration which is to become the acceptor or donor is not higher than 1×10^15(atoms/cm^3) and on which an element is formed, is formed on the substrate 11.例文帳に追加

基板１１上には、溶解酸素濃度が８×１０^１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）以下で、アクセプタあるいはドナーとなる不純物濃度が１×１０^１５（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）以下であり、素子が形成されるシリコン層が形成されている。 - 特許庁