「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(726ページ目) - Weblio英語例文検索

This information-recording paper is characterized by laminating an aqueous emulsion pressure-sensitive adhesive layer 2 not sticking in an usual state but showing a peelable sticking property by compression on at least one side of a paper substrate 1 having temperature dependent water absorbing property.例文帳に追加

この情報記録用紙は、吸水温度依存性を有する紙基材１の少なくとも片面に、通常の状態では接着せず加圧により剥離可能な接着性を示す水性エマルジョン感圧接着剤層２が積層されていることを特徴とする。 - 特許庁

In the gas barrier laminated film, a gas barrier layer of a composition comprising an ethylene/vinyl alcohol copolymer (b1) having an ethylene content of 1-19 mol% and a (meth)acrylic acid polymer (b3) is laminated at least on one surface of a substrate film.例文帳に追加

基材フィルムの少なくとも片面に、エチレン含有量が１ないし１９モル％のエチレン・ビニルアルコール共重合体（ｂ１）と（メタ）アクリル酸系重合体の組成物（ｂ３）の層からなるガスバリア層が積層されてなることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 - 特許庁

Exhaust gas from the CVD furnace 2 is bubbled into the pure water 33 in the bubbler 3, metals contained in the exhaust gas is captured as an analytic sample and the density of metals in the exhaust gas is analyzed thus determining whether a semiconductor substrate having an epitaxial layer can be used or not.例文帳に追加

ＣＶＤ炉２からの排気ガスをバブリング装置３の純水３３中にバブリングさせ、排ガス中に含まれる金属を捕捉して分析試料とし、排気ガス中の金属濃度を分析してエピタキシャル層を有する半導体基板の使用の可否を判定する。 - 特許庁

An image forming layer, containing infrared ray absorbing agent having at least one kind of surface orientating group in the molecule of the same and changing the solubility to alkaline water solution by the effect of radiation in a near infrared area, is provided on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、分子内に表面配向性基を少なくとも1種有する赤外線吸収剤を含有し、近赤外領域の放射線の作用により、アルカリ水溶液に対する可溶性が変化する画像形成層を有することを特徴とする。 - 特許庁

The random copolymer including a phosphonic acid group having a plurality of hydroxy groups has a covalent bond formed through a dehydration reaction between a substrate or particles and the plurality of hydroxy groups, and thereby, the process time for forming a neutral layer is reduced.例文帳に追加

複数のヒドロキシ基を有するホスホン酸基を含む本発明のランダム共重合体は、基板又は粒子と複数のヒドロキシ基との脱水反応により形成される共有結合を有するため、中性層を形成するための工程時間が短縮される。 - 特許庁

The manufacturing method of the EL element includes a process to laminate a first electrode 12 of ITO thin film or the like, an insulating thin film 13 of aluminum oxide or the like, a high dielectric layer 14 and MG metal thin film on an arbitrary solid substrate successively.例文帳に追加

本発明のＥＬ素子の製造方法は，任意の固体基板上に，ＩＴＯ薄膜等の第一電極１２，酸化アルミニウム等の絶縁薄膜１３，高誘電体層１４，ＭＧ金属薄膜を順次積層する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Also, an inductor and a capacitor configuring the bias circuit are arranged vertical to the face of the semiconductor substrate so that the inductance and the capacitor can be overlapped with each other to form the bias circuit, and the wiring layer of the high frequency circuit is formed on the bias circuit to realize miniaturization.例文帳に追加

また、バイアス回路を構成するインダクタとコンデンサとが重なるようにインダクタとコンデンサとを半導体基板の面に対して垂直方向に配設してバイアス回路を形成し、このバイアス回路上に高周波回路の配線層を形成することで小型化を図る。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a high quality organic EL device by positively avoiding a harmful effect by organic matter or the like when forming an organic layer on the surface of an electron hole injection electrode of a substrate formed with the electrode on a surface.例文帳に追加

正孔注入電極を表面に形成した基板の当該電極の表面に有機層を形成する際、有機物などによる悪影響を確実に回避することで高品質な有機ＥＬ素子を安定に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photocatalyst-coated plate which surely restrains rupture of a layer containing a photocatalytic semiconductor and delamination during bending process of a substrate while keeping a high photocatalytic activity, thereby improving industrial productivity, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

高い光触媒活性を保持しつつ、基板の曲げ加工時における光触媒性半導体を含む層の断裂及び層間剥離を確実に抑制し、工業上生産性を向上させることを可能とした光触媒塗装板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the ferroelectric memory element 1 includes: forming an electrode 3 on a substrate 2; preparing a laminated body in which a ferroelectric layer 4 is laminated on an electrode 3; and carrying out heat treatment to the laminated body under a gas atmosphere containing moisture ≥23 g/m^3.例文帳に追加

基板２上に電極３が形成されており、電極３上に強誘電体層４が積層されている積層体を用意し、水分を２３ｇ／ｍ^３以上含むガス雰囲気下で積層体を熱処理する、強誘電体メモリ素子１の製造方法。 - 特許庁

To provide an electron beam curing conductive paste capable of forming a conductive layer which is excellent in hardness and bendability and also excellent in adhesion to a plastic substrate even if used under high temperature environment, and also to provide a method of manufacturing a circuit board using the conductive paste.例文帳に追加

高温環境下で使用されても硬度及び折曲性に優れ且つプラスチック基材に対する密着性に優れる導電層を形成できる電子線硬化用導電性ペースト及びこれを用いた回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The reflective electrode layer 14 has a conductive base film 14a laminated on the top surface of the film substrate 13 and formed of Cu or a Cu alloy, and a conductive reflection film 14b laminated on the top surface of the conductive base film 14a and containing Ag.例文帳に追加

反射電極層１４は、フィルム基板１３の上面に積層されＣｕ又はＣｕ合金により形成された導電性ベース膜１４ａと、この導電性ベース膜１４ａの上面に積層されＡｇを含む導電性反射膜１４ｂとを有する。 - 特許庁

The first substrate has a scribe mark 50 arranged at a part positioned at the panel peripheral edge of the outside of the seal 40, and a plurality of pixel electrodes formed of a transparent conductive oxide film and an electrode line formed of a metal material, respectively, on the display medium layer side.例文帳に追加

第１基板は、表示媒体層側に、シール４０の外側のパネル周縁に位置する部分に設けられたスクライブマーク５０と、各々、透明導電性酸化膜で形成された複数の画素電極と、金属材料で形成された電極線とを有する。 - 特許庁

The nano carbon material 16 is deposited onto a surface of the catalyst layer 12 left on a surface of the protruded part 15 and hence the nano carbon material 16 is position-selectively deposited on the surface of the protruded part 15, that is, a protruded part on the substrate 11.例文帳に追加

ナノ炭素材料１６は凸部１５の表面に残存させられた触媒層１２の表面に成膜されることから、ナノ炭素材料１６は凸部１５の表面、すなわち基板１１上の突出した部位に位置選択的に成膜されることとなる。 - 特許庁

To provide a surface-emitting semiconductor laser which can reduce an increase in a threshold current affected by the separation of In, and is provided with at least one semiconductor layer containing Al, In, and P as main components on a GaAs substrate.例文帳に追加

ＧａＡｓ基板上にＡｌ、Ｉｎ、Ｐを主成分として含む半導体層が少なくとも１層設けられている面発光型半導体レーザにおいて、Ｉｎの分離の影響による閾値電流増加を抑制できる面発光型半導体レーザを提供する。 - 特許庁

In an electrophotographic photoreceptor, resin containing polycarbonate copolymer represented by the following formula is used as binder resin contained in a photosensitive layer on a conductive substrate, and the silica content in a toner should be 2.5-6 mass% in the mass of the toner.例文帳に追加

電子写真感光体において導電性基体上の感光層に含まれるバインダ樹脂として下式の共重合ポリカーボネートを含む樹脂を用い、トナーにおけるシリカの含有量をトナーの質量中２．５質量％以上６質量％以下とする。 - 特許庁

A binder resin containing polycarbonate copolymer resin represented by the following general formula (I), and a charge transport material containing amine stilbene derivatives and butadienylbenzene amine derivatives as hole transport material are used for a photosensitive layer formed on a conductive substrate.例文帳に追加

導電性基体上に形成された感光層について、下記一般式（Ｉ）で表される共重合ポリカーボネート樹脂を含むバインダ樹脂を用い、アミンスチルベン誘導体、及び／ブタジエニルベンゼンアミン誘導体を正孔輸送材料として含む電荷輸送材料を用いる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display device that hardly causes peeling of a drain electrode and a source electrode even when the drain electrode and source electrode using copper are exposed on a substrate when performing hydrogen termination processing of a semiconductor layer.例文帳に追加

半導体層の水素終端処理をする際に、銅が用いられたドレイン電極及びソース電極が基板上に露出する場合であっても、ドレイン電極及びソース電極の剥離が生じにくい表示装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then, at least one main surface of the SiGe epitaxial film 11 on which an ion implantation layer is formed and a support substrate 20 is subjected to plasma treatment and ozone treatment for purposes of surface cleaning, surface activation, or the like, and both main surfaces are laminated for bonding.例文帳に追加

続いて、イオン注入層を形成したＳｉＧｅエピタキシャル膜１１と支持基板２０の少なくとも一方の主面に、表面清浄化や表面活性化などを目的としたプラズマ処理やオゾン処理を施し、主面同士を密着させて貼り合わせる。 - 特許庁

The semiconductor device 10 includes: a fin 11 formed on a substrate; a plurality of semiconductor layers 14 and 16 constituting the fin 11; an insulating layer 15 interposed between the plurality of semiconductor layers 14 and 16; and a gate electrode 12 covering the fin 11.例文帳に追加

基体上に形成されているフィン１１と、フィン１１を構成する複数の半導体層１４，１６と、複数の半導体層１４，１６間に介在する絶縁層１５と、フィン１１を覆うゲート電極１２とを備える半導体装置１０を構成する。 - 特許庁

The self-supported III-V group nitride semiconductor substrate does not have clear boundaries betweem high-brightness regions and low-brightness regions in a fluorescence microscopy image of its surface layer existing from the top surface to a depth of at least 10 μm.例文帳に追加

自立したIII−V族窒化物系半導体基板であって、表面から少なくとも10μmの深さまでの表面層の蛍光顕微鏡像に、高明度領域と低明度領域が境界をもって存在しないことを特徴とするIII−V族窒化物系半導体基板。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a group III nitride semiconductor light emitting device having superior light emission characteristics, the method being capable of forming a buffer layer on a substrate using a reactive sputter method and growing a group III nitride semiconductor superior in crystallinity thereon.例文帳に追加

基板上に、反応性スパッタ法を用いてバッファ層を形成し、その上に結晶性の良好なＩＩＩ族窒化物半導体を成長させることができ、優れた発光特性を有するＩＩＩ族窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The electrooptical device includes pixel electrodes (9a) each of which is provided for every pixel on the element substrate (10), semiconductor elements (30) provided corresponding to the pixel electrodes and a microlens part (200) provided on a lower layer side of the semiconductor elements and having a plurality of microlenses (210).例文帳に追加

電気光学装置は、素子基板（１０）に、画素毎に設けられた画素電極（９ａ）と、画素電極に対応して設けられた半導体素子（３０）と、半導体素子より下層側に設けられており、複数のマイクロレンズ（２１０）を有するマイクロレンズ部（２００）とを備える。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet which is excellent in the adhesion of an adhesive layer to a substrate and an adherend, and which expels conveniently the air caught between the adhesive sheet and the adherend surface to thereby permit the prevention or removal of air banks; and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

粘着剤層と基材及び被着体との密着性に優れ、かつ、粘着シートと被着体表面との間に巻き込まれた空気を簡便に追い出し、空気溜りを防止又は除去することができる粘着シート、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat insulation waterproof structure and a method of heat insulation waterproofing which are used for laying down a heat insulating material and a waterproof layer on a metal roof substrate such as a deck plate and which provide a high reliability of wind resistance when strong wind blows.例文帳に追加

デッキプレート等の金属製屋根下地材に、断熱材および防水層を敷設する断熱防水構造および断熱防水工法において、強風時の耐風荷重に対して、より信頼性の高い断熱防水構造および断熱防水工法を提供する。 - 特許庁

In the hard coat film, a hard coat layer which is made of a cured material of an ionizing radiation sensitive resin composition and surface-treated with an alkaline aqueous solution so that the contact angle of the surface with water is 70° or below is formed on at least one side of a transparent substrate film.例文帳に追加

透明基材フィルムの少なくとも片面に、電離放射線感応型樹脂組成物の硬化物からなり、かつ表面の水の接触角が７０°以下になるようにアルカリ性水溶液で表面処理されてなるハードコート層を設けたハードコートフィルムである。 - 特許庁

On an Si substrate 1, a Cr-Ta film 2 as a diffusion preventive layer, a lower electrode composed of a Pt film 3, a ferroelectric film 4 composed of PZT and an upper electrode composed of a Pt film 5 are laminated in this order to compose a ferroelectric capacitor 10.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上に拡散防止層としてＣｒ−Ｔａ膜２と、Ｐｔ膜３からなる下部電極と、ＰＺＴからなる強誘電体膜４と、Ｐｔ膜５からなる上部電極とをこの順に積層して強誘電体キャパシタ１０を構成する。 - 特許庁

On a first conductive semiconductor layer formed on a first conductive semiconductor substrate so as to be isolated by an insulating film by a gate pre-production process, a NAND cell unit is formed to have a memory cell formed by laminating a floating gate and a control gate, and a select gate transistor.例文帳に追加

第１導電型半導体基板上に絶縁膜で分離されて形成された第１導電型半導体層に、ゲート先作りプロセスによって、浮遊ゲートと制御ゲートが積層されたメモリセルと選択ゲートトランジスタとを有するＮＡＮＤセルユニットを形成する。 - 特許庁

The color filter equipped with pixels in a plurality of colors on a transparent substrate is characterized in that the dielectric loss factor tangent (tan δ) of the colored layer constituting at least the pixel of one color is 0.03 or below in the frequency range of 10-100 Hz.例文帳に追加

透明基板上に複数色の画素を備えるカラーフィルタにおいて、少なくとも１色の画素を構成する着色層の誘電正接（ｔａｎδ）が周波数１０Ｈｚ〜１００Ｈｚの範囲で０．０３以下であることを特徴とするカラーフィルタとする。 - 特許庁

The adhesive force of the adhesive sheet 1 is changed in a fixed direction, a bonded state as a whole is kept and peel is facilitated by gradually increasing or decreasing the area ratio of the projected parts 3 of the an adhesive layer laminated to a sheetlike substrate 2.例文帳に追加

粘着シート１の粘着力を、シート状基材２に積層した粘着剤層の凸部３の面積率を漸増もしくは漸減することにより、一定方向に向かって変化させ、全体として貼った状態の維持ができ、剥離を容易にすることができた。 - 特許庁

In the light emitting element mounting substrate, an enameled layer 23 whose thickness is in the range of 50 to 200μm is provided to the surface of a core metal 22 provided with a reflection cup 28 which reflects light emitted from a mounted light emitting element 24 toward a prescribed direction.例文帳に追加

実装した発光素子２４から発する光を所定方向に向けて反射する反射カップ部２８が設けられたコア金属２２の表面に、厚さが５０μｍ〜２００μｍの範囲のホーロー層２３が設けられたことを特徴とする発光素子実装用基板。 - 特許庁

To provide a light exposure mask capable of forming a photoresist layer in a semi-transmissive portion with uniform thickness and to provide a method for manufacturing a semiconductor device in which the number of photolithographic steps (the number of masks) necessary for manufacturing a TFT substrate is reduced by using the exposure mask.例文帳に追加

半透過部のフォトレジスト層の膜厚を均一に形成できる露光マスクを提供し、それを用いてＴＦＴ基板を製造するために必要なフォトリソグラフィ工程の回数（マスク枚数）を削減した半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

In a semiconductor device, the thin-film resistor 49 shown in a Fig. 4(b) forms aluminum electrodes 45a, 45c, and forms a trench 50 on a silicon substrate 33 so that the formation region of a CrSi film 41 is surrounded simultaneously when the aluminum electrode of a first layer is formed.例文帳に追加

図４（ｂ）の薄膜抵抗体４９は、アルミ電極４５ａ、４５ｃを形成すると共に、第１層のアルミ電極を形成する際に、同時にＣｒＳｉ膜４１の形成領域を囲むようにシリコン基板３３にトレンチ５０を形成した構成としている。 - 特許庁

The optical filter for display device comprises an anti-reflection film part, a transparent substrate, a mesh film part and a color correction film part, wherein an inorganic adhesive layer is formed on a surface of at least one of the respective film parts.例文帳に追加

ディスプレイ装置用光学フィルタは、反射防止フィルム部、透明基板、メッシュフィルム部、およびカラー補正フィルム部を含むディスプレイ装置用光学フィルタであって、各フィルム部のうちの少なくとも１つの一面に非有機酸粘着層が形成されることを特徴とする。 - 特許庁

A bare chip 10 is incorporated in insulating resin layers 31 and 32 built up on both surfaces of a multilayer substrate 30, respectively, with wiring layers 40 and 41 on both sides of the bare chip 10 as ground layer, while wiring layers 36 and 39 as power-source line.例文帳に追加

多層基板３０の両面にそれぞれビルドアップされる絶縁樹脂層３１、３２内にベアチップ１０を内蔵するとともに、これらのベアチップ１０の両側の配線層４０、４１をグランド層とし、配線層３６、３９を電源ラインとしたものである。 - 特許庁

A prescribed potential is applied by a potential apply part 4 to the conductive layer 91, and the photoreceptor 312 is uniformly electrified by an auxiliary electrifier 35 just before a transfer position, and a transfer voltage works between the glass substrate 9 and the photoreceptor drum 31 at the transfer position.例文帳に追加

電位付与部４により導電層９１には所定の電位が付与され、補助帯電器３５により転写位置直前にて感光体３１２が均一に帯電し、転写位置においてガラス基板９と感光ドラム３１との間に転写電圧が作用する。 - 特許庁

To provide mask blanks for a charged-particle beam exposure by which a deformation by the stress of an intermediate silicon oxide film is removed using an SOI substrate having excellent quality and composed of a thin-film silicon layer, and the mask blanks for the charged-particle beam exposure and a mask.例文帳に追加

薄膜シリコン層の品質に優れたＳＯＩ基板を用いながら、中間シリコン酸化膜の応力による変形を取り除いた荷電粒子線露光用マスクブランクスと、その荷電粒子線露光用マスクブランクスおよびマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

This substrate for a culture medium for cultivating plants is obtained by laminating (A) a water holding layer 1 selected from a porous material holding a highly water absorbing resin, a fibrous material laminate and a laminate of the porous material together with the fibrous material laminate onto (B) a root- impenetrable sheet 2 having water permeability.例文帳に追加

（Ａ）高吸水性樹脂を保持した多孔質体、繊維状物積層体、多孔質体と繊維状物積層体との積層体から選ばれる保水層と（Ｂ）透水性を有する不透根シートとを積層してなる植物栽培培地用基体。 - 特許庁

To provide a semiconductor element member and semiconductor device in which electric resistance values of the semiconductor element member and the entire semiconductor device can be reduced even when an electric resistance value of a functional layer or a semiconductor substrate is large, and to provide their manufacturing method, an electrooptical device, and an electronic apparatus.例文帳に追加

機能層や半導体基板の電気抵抗が高くても、半導体素子部材や半導体装置全体の電気抵抗を低減できる半導体素子部材及び半導体装置並びにそれらの製造方法、電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

A disposal substrate 8 for eliminating the oxide layer having a division guidance part 7 is formed at a position that is set to the front of soldering when passing on a flow soldering bath 9, and at the same time allows solder to first come into contact with fluxing solder flow 22.例文帳に追加

フロー半田槽９上を通過する際に半田付けの先頭部となる位置であって且つ、溶融半田流２２と最初に半田が接触する部分に、分割誘導部７を備えた酸化被膜除去用捨て基板８を形成するようにしたものである。 - 特許庁

A bipolar transistor small in collector resistance can be made without forming a region called sinker, by arranging a region 102 where impurities are not introduced, in one part of an embedded layer region 106 for separating a collector region 109 and a substrate from each other.例文帳に追加

コレクタ領域１０９と基板を分離するための埋込み層領域１０６の一部に不純物導入されない領域１０２を配置することで、シンカーと呼ばれる領域を形成することなくコレクタ抵抗の小さいバイポーラ・トランジスタを形成できる。 - 特許庁

In the antifouling sheet, an antifouling agent layer 6 of a hydrophilic resin composition having a contact angle with water of 45° or below is formed on at least one side of a sheet-like substrate 5 in which a cloth-like body 3 formed from uniaxially oriented thermoplastic resin threads 2 is made a constituting material.例文帳に追加

熱可塑性樹脂製の一軸延伸糸によって形成された布状体を構成材とするシート状基材の少なくとも片面に、水の接触角が４５°以下の親水性樹脂組成物からなる防汚剤層を形成してなる防汚性シート。 - 特許庁

The transmissive liquid crystal device comprises a birefringent structural body 9 equipped with light reflection bodies 9a aligned in stripes with a pitch shorter than the wavelength of the light incident on the liquid crystal layer 50 formed on a TFT(thin film transistor) array substrate 10 on the observer's side.例文帳に追加

本発明の透過型液晶装置は、視認側のＴＦＴアレイ基板１０に、液晶層５０に入射する光の波長よりも小さいピッチでストライプ状に配列された光反射体９ａを具備する構造複屈折体９が形成されている。 - 特許庁

A plurality of almost tabular piezoelectric element 1 are formed by the hydrothermal synthesis method on a titanium material layer 4 formed on a surface of an upright plate parts 3 almost perpendicular to a surface of a substrate 2 so that each surface of the elements is arranged in a almost parallel position.例文帳に追加

略平板状の複数の圧電素子１は、基板２の表面に対して略垂直に立設された立板部３の表面に形成されたチタン材層４上に、互いの表面が略平行な位置関係となるように水熱法により形成される。 - 特許庁

A first electrode and a second electrode separated from each other are formed on a substrate and after stacking a silicon layer in which amorphous silicon and polycrystalline silicon exist mixedly by the sputtering method or the chemical vapor deposition method, a semiconductor is formed by patterning the silicon film.例文帳に追加

基板上に互いに分離されている第１及び第２電極を形成し、非晶質と多結晶シリコンとが混在するシリコン膜をスパッタリング法または化学気相蒸着法で積層した後、前記シリコン膜をパターニングして半導体を形成する。 - 特許庁