「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(730ページ目) - Weblio英語例文検索

This semiconductor device 202 is provided with concave portions 118 formed in a first region 104, a second region 106 and separation regions 108 respectively; and a dielectric layer 120 for backing the concave portions 118 so as to have a uniform thickness, on a substrate 102.例文帳に追加

本発明の半導体装置２０２は、基板１０２上に、第１領域１０４、第２領域１０６、及び分離領域１０８に形成された凹部１１８と、上記凹部１１８を均一な厚さで裏打ちする誘電体層１２０とを備えた半導体装置。 - 特許庁

In the buffer layer 3, the entire Al composition of one pair of the first buffer region 331 and the adjacent second buffer region 332 at the nitride-based compound semiconductor 4 side is set to be larger than the Al composition of one pair of the regions at the substrate side.例文帳に追加

バッファ層３において窒化物系化合物半導体４側の第１のバッファ領域３３１とそれに隣接する第２のバッファ領域３３２との１組の全体のＡｌ組成は基板側の１組のＡｌ組成に対して大きく設定されている。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor which can operate with low voltage and which is easy to commercialize by forming a gate dielectric layer on a plastic or glass substrate, in a low-temperature process with a thickness of several nanometers, and to provide a fabrication method thereof.例文帳に追加

プラスチック基板やガラス基板などに低温工程で形成するものの、数ｎｍの厚みでゲート絶縁膜を形成することによって、低電圧で動作が可能であり、且つ商用化が容易な有機薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A nonlinear resistance film 13, in which a resistance value falls off if an electric field gets high, is formed in an electric field relaxation region of a high breakdown voltage semiconductor device comprising a semiconductor substrate 1, an epitaxial layer 2, and a semiconductor region 4, and further, a passivation film 12 is formed.例文帳に追加

半導体基板１、エピタキシャル層２および半導体領域４からなる高耐圧半導体装置の電界緩和領域に、電界が高くなると抵抗値が低下する非線形抵抗膜１３を形成し、さらに、パッシベーション膜１２を形成する。 - 特許庁

Then, a liquid-repellent layer 25c which repels the droplets D is formed on an ejection surface 25a of the sheet substrate 25, thereafter, the droplets D of lens forming material F are ejected, and the droplets D struck to the ejection surface 25a are cured to form microlenses.例文帳に追加

そして、シート基板２５の吐出面２５ａに、液滴Ｄを撥液する撥液層２５ｃを形成した後に、レンズ形成材料Ｆの液滴Ｄを吐出し、吐出面２５ａに着弾した液滴Ｄを硬化させてマイクロレンズを形成するようにした。 - 特許庁

To provide a mask for forming a thin film pattern, which prevents the occurrence of a display failure in a liquid crystal display and provides uniform film characteristics, by inhibiting a substrate from being bruised, and preventing the peeling of a protective film and a white spot on a black matrix layer.例文帳に追加

基板へのキズの発生を抑制し、保護膜の剥離、ブラックマトリックス層の白ヌケを防止することで、液晶表示装置の表示不良発生を防止することができ、かつ均一の膜特性を得ることができる薄膜パターン形成用マスクを提供する。 - 特許庁

Sets of wiring 1a-4a are designed so that a composite wiring pattern formed by superimposing the multilayer wirings 1a-4a configuring a package substrate 10 can completely cover a gap s generated between wiring of each layer to be moisture permeating routes R1, R2 and a through-hole 5.例文帳に追加

パッケージ基板１０を構成する多層配線１ａ〜４ａを重畳した合成配線パターンが、水分侵入経路Ｒ１、Ｒ２となる各層の配線間に生ずる隙間ｓやスルーホール５を完全に被覆するように配線１ａ〜４ａを設計する。 - 特許庁

This electric heat surface heating unit is formed by stacking plural electric heat surface heating elements, having an electrode wire through an insulating layer on a metal substrate, and has fracture parts in the electric heat surface heating element, having a size which does not adversely affect uniform heating.例文帳に追加

金属基体上に、絶縁層を介して、複数の電極線を有する電熱面発熱体を積層してなる電熱面発熱ユニットにおいて、均熱性に悪影響を及ぼさない大きさの電熱面発熱体の欠損部を有する電熱面発熱ユニット。 - 特許庁

In the first process, a paste for an air electrode is produced by mixing a Pt-holding carbon catalyst, a Nafion (R) solution and carbon black, and after coating the paste for the air electrode on a conductive substrate, the paste is dried to form an air electrode reactive layer 3a.例文帳に追加

第１工程において、Ｐｔ担持カーボン触媒とナフィオン（登録商標）溶液とカーボンブラックとを混合して空気極用ペーストを作製し、この空気極用ペーストを導電性のある基材に塗布した後、乾燥させて空気極反応層３ａを形成する。 - 特許庁

A semiconductor substrate 1 which has a connection electrode 2 and is provided with a first metal film 4 and a second metal film 5, and an electrical connection projection 10 on the connection electrode 2 is provided with a metal protection layer 6 adjacently to an outer circumferential part of the electric connection projection 10.例文帳に追加

接続用電極２を有し、接続用電極２の上に第１金属膜４と第２金属膜５と電気接続突起１０を設けた半導体基板１において、電気接続突起１０の外周部に隣接するように、金属保護層６を設ける。 - 特許庁

A predetermined part of a photosensitive material layer having a predetermined thickness formed on the surface of a substrate W is irradiated with a laser beam while controlling the beam intensity and the scanning speed so as to expose while locally controlling the reaction time constant of the photosensitive material.例文帳に追加

基板Ｗの表面に形成された所定厚さの感光性材料の層の所定箇所にビーム強度と走査速度を制御しながらレーザビームを照射することにより感光性材料の反応時定数を局所的に制御しながら露光を行う。 - 特許庁

To provide a polishing pad wherein a global step is small and the number of dusts to a wafer is small, and a polishing device and a polishing method using it in a polishing pad for mechanically flattening the surface of an isolation layer or a metallic wiring formed on a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、グローバル段差が小さく、ウェハへのダスト数が少ない研磨パッド、およびこれを用いた研磨装置、研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for the production of an SOI structure which allows a high flexibility to adjust the lattice dimensions of an insulator layer for the lamination of either fully relaxed or strained semiconductor layers including a variety of materials with high crystalline quality.例文帳に追加

高い結晶品質を有する、多様な材料からなる、完全に緩和した、又は歪んだ半導体層を積層するために絶縁体層の格子寸法を調整するための高い柔軟性を許容する、ＳＯＩ構造の作製のための基板を提供する。 - 特許庁

The photomask blanks have on a substrate a photosensitive composition layer containing (A) at least one of optical brighteners represented by formulae (I-1) to (I-3), etc., (B) a polymerization initiator, (C) a compound having an ethylenically unsaturated bond, (D) a binder polymer, and (E) a light blocking material.例文帳に追加

基板上に、（Ａ）下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）等で表される少なくとも１つの光学増白剤、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、および、（Ｅ）遮光材料を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。 - 特許庁

This positive electrode for lithium secondary cell is equipped with a collector forming a carbonaceous material membrane on the surface of a conductive substrate and the positive electrode material layer, that is held and contacted on the carbonaceous material membrane side of the collector and contains organic sulfide compounds as the main active material.例文帳に追加

導電性基板の表面に炭素系材料膜で形成してなる集電体と、この集電体の炭素系材料膜側に担持され、主活物質として有機スルフィド化合物を含む正極材料層とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The surface substrate has a perforated cutting line 20 including multiple cuts 201, 202, 203 formed to be arranged intermittently at intervals and in a line along the cutting line 20, and can be peeled off from the pseudo adhesive layer by being divided into label parts 21, 22.例文帳に追加

表面基材には、断裁線２０に沿って一列に断続的に間隔を置いて形成された複数の切れ目２０１、２０２、２０３を有するミシン目状の断裁線２０を設け、ラベル部２１、２２として分離して擬似接着層から剥離可能にする。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive composition containing a polyester resin which can form an adhesive layer and excel in tackiness, cohesiveness with a substrate, heat-resistance, moist heat-resistance, and transparency, and further has a high refractive index, and to provide a laminate using the pressure-sensitive type adhesive composition.例文帳に追加

タック、基材との密着性、耐熱性、耐湿熱性及び透明性に優れ、更に屈折率の高い接着剤層を形成し得るポリエステル樹脂を含む感圧式接着剤組成物、及び該感圧式接着剤組成物を用いてなる積層体の提供。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium which has both satisfactory heat stability and recording and reproducing characteristics by reducing exchange coupling in an in-plane direction of a substrate of a main recording layer and achieves high density recording and reproducing of information, its manufacturing method and a magnetic recording and reproducing device.例文帳に追加

主記録層の基板面内方向の交換結合を低減することで、良好な熱安定性と記録再生特性をともに有し、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁

This surface acoustic wave filter is constituted by electrically connecting the surface acoustic wave chip 1 and a planar ceramic substrate 3 by Au bumps 2 and covering the surface acoustic wave chip 1 with a thin internal cap 6 of 20 μm in thickness, before coating the chip 1 with an adhesive resin layer 5.例文帳に追加

Ａｕバンプ２により弾性表面波チップ１と平板セラミック基板３を電気的に接続し、樹脂層５を弾性表面波チップ１に塗布する前の状態で、この弾性表面波チップ１に厚さ２０μｍの薄い内キャップ６を被せるようにする。 - 特許庁

To provide a high moisture resistance surface protection material for solar cell including a transparent moisture-proof film having an inorganic thin film layer on one surface of a substrate and steam permeability of less than 0.1[g/m^2/day], and in which the moisture resistance does not deteriorate for a long term.例文帳に追加

基材の一方の面に無機薄膜層を有し水蒸気透過率が０.１[ｇ／ｍ^2・日]未満である透明防湿フィルムを有する高防湿性太陽電池用表面保護材において、長期に防湿性が劣下しない優れた表面保護材を提供する。 - 特許庁

A light shielding layer 106 provided with a function to absorb the blue light or the light in the ultraviolet rays region contained in light from a light source is formed on a peripheral picture frame region 102c of a glass substrate 101 so as to overlap with a part of the black color filter 107 in plane therewith.例文帳に追加

ガラス基板１０１上の周辺額縁領域１０２ｃに、光源光に含まれる青色乃至紫外線領域の光を吸収する機能を備えた遮光層１０６を、黒色カラーフィルタ１０７の一部と平面的に重なり合うように形成した。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive film excellent in flexibility and thermal shock resistance of a resin layer contributing to adhesiveness between the conductive film and a substrate, to provide a method of manufacturing a printed wiring board including the conductive film forming method in a step, and to provide a material of the conductive film.例文帳に追加

導電膜と基板との密着性に寄与する樹脂層の柔軟性、耐熱衝撃性に優れた導電膜の形成方法、該導電膜の形成方法を工程中に含むプリント配線板の製造方法及び導電膜材料を提供する。 - 特許庁

Each of the luminous panels 2A has a light emitting element 3 having a luminous layer 32 held by an anode 31 and cathode 33, a transparent substrate 4 carrying the light emitting element 3, and a cover member 5 forming both right and left end surfaces 2a, 2b of the luminous panel 2A.例文帳に追加

各発光パネル２Ａは、陽極３１と陰極３３とで発光層３２を挟持してなる発光素子３と、この発光素子３を支持する透明基板４と、当該発光パネル２Ａの左右の両端面２ａ，２ｂを構成するカバー体５とを有している。 - 特許庁

This manufacturing method for the inkjet recording material is characterized as follows: a substrate is coated with a coating liquid for an ink absorbing layer, which is an aqueous solution containing a polymer with at least inorganic particulates and an acetoacetyl group; and the aqueous solution is irradiated with an electron beam before the drying.例文帳に追加

少なくとも無機微粒子とアセトアセチル基を有するポリマーを含有している水溶液であるインク受容層用塗液を支持体に塗布し、乾燥前に該水溶液を電子線照射することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor devices to form IPO capacitors, bipolar transistors and CMOSFETs on a substrate, in which a thermal oxide film of the polycrystal silicon film as a lower side electrode is formed as an insulating layer of the IPO capacitor to reduce the number of manufacturing processes.例文帳に追加

ＩＰＯキャパシタとバイポーラトランジスタとＣＭＯＳＦＥＴを一つの基板上に形成する半導体装置の製造方法において、下側電極をなす多結晶シリコン膜の熱酸化膜をＩＰＯキャパシタの絶縁層とし、製造工程数を少なくする。 - 特許庁

There are provided the electrophotographic photoreceptor in which a photosensitive layer containing an electron transport agent, a charge generating agent and a binder resin is laid on a substrate, and the image forming apparatus using the same, wherein the electron transport agent is a diphenoquinone compound represented by general formula (1) or the like.例文帳に追加

基体上に、電子輸送剤、電荷発生剤及び結着樹脂を含む感光層が設けられた電子写真感光体及びそれを用いた画像形成装置であって、電子輸送剤が、下記一般式（１）等で表されるジフェノキノン化合物である。 - 特許庁

To provide a substrate for a PGA type electronic component capable of contributing to an improvement in adhesive strength of a pad with a resin of its lower layer and hence connecting reliability, by enhancing a mounting strength of a pin at the pad, a method for manufacturing it and a semiconductor device.例文帳に追加

ＰＧＡ型電子部品用基板、及びその製造方法に関し、特にビルドアップ基板等のプラスチック性基板の外部接続端子となるピンが該基板の面に多数立設されたＰＧＡ型配線基板において、ピンの取り付け強度を高める技術に関する。 - 特許庁

An n-type ZnTh layer 2 doped at a high concentration of 1×10^17 cm^-3 or higher is grown on a substrate 1 by using molecular-beam epitaxy for the crystal growth method, wherein Al is used for the dopant, and growth condition for the ZnTh is optimized.例文帳に追加

基板１上に結晶成長法として分子線エピタキシを用い、不純物としてＡｌを用い、前記ＺｎＴｅの成長条件の最適化を行うことによって、１×１０^17ｃｍ^-3以上の高濃度ｎ型ＺｎＴｅ層２の成長を行う。 - 特許庁

The optical recording medium D is provided with an information layer D2 formed by layering at least a first protective film 8, a second protective film 9, a third protective film 10 and a recording film 11 in this order on a first substrate 1 having an incidence surface 1A in which laser light L is made incident as a bottom surface.例文帳に追加

光記録媒体Ｄは、レーザ光Ｌが入射する入射面１Ａを底面とした第１基板１上に、少なくとも第１保護膜８、第２保護膜９、第３保護膜１０、記録膜１１をこの順に積層した情報層Ｄ２を備えている。 - 特許庁

An optical disk provided with four recording layers causing no ghost spot is provided by sequentially forming a transparent layer having 0.025 to 0.3 mm thickness, at least two recording layers, a transparent substrate having 0.4 to 1.2 mm thickness and at least two recording layers other than the two recording layers.例文帳に追加

0.025mm以上0.3mm以下の透明層と、少なくとも2層の記録層と、0.4mm以上1.2mm以下の透明基板と、該記録層とは別の少なくとも2層の記録層を順次形成することで、ゴーストスポットの発生しない４層の記録層を備えた光ディスクが提供される。 - 特許庁

A laminated structure formed of GaN crystal layers is formed on an Al_xGa_1-xN (0.5≤x≤1) crystal layer (it may be a single crystal substrate) which has a dislocation density of 1×10^11 cm^-2 or below and a thickness of 0.1 μm or above for the formation of a GaN semiconductor laser.例文帳に追加

転位密度１×１０^11ｃｍ^-2以下、厚さ０．１μｍ以上のＡｌ_xＧａ_1-xＮ（０．５≦ｘ≦１）結晶層（単独の結晶基板であってもよい）上に、ＧａＮ系結晶層からなる積層構造を形成し、ＧａＮ系半導体レーザを構成する。 - 特許庁

In forming the luminescence layer, a mask 20 with a stripe-shaped opening 22 (22a, 22b) is provided, and as to the opening 22 in the mask 20, the opening part 22a on the substrate 10 side is formed larger in width than the opening part 22b on the side of evaporation sources for the organic EL materials.例文帳に追加

発光層の形成に際して、ストライプ状の開口部２２を有したマスク２０を設け、このマスク２０の開口部２２は、基板１０側の開口部２２ａの幅が有機ＥＬ材料の蒸着源側の開口部２２ｂよりも広く形成されている。 - 特許庁

A resin dropped between the protrusion 1b and the clamping region is applied on at least the information signal part 2 by a spin coat method, and a light transmissible sheet 3b is stuck to the substrate 1 by using the applied resin to form the protective layer 3.例文帳に追加

保護層３が、突起１ｂとクランピング領域との間に滴下された樹脂をスピンコート法により少なくとも情報信号部２上に塗布し、塗布された樹脂により光透過性シート３ｂを基板１に対して貼り合わせることにより形成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a semiconductor element and a circuit substrate jointed together, using Pb-free solder in the form of a flip chip, which can realize a highly reliable solder junction, eliminate thickness control of an electrode/barrier metal layer, and contribute to reduction of the manufacturing cost.例文帳に追加

Ｐｂフリーはんだで半導体素子と回路基板をフリップチップ接合してなる半導体装置において、信頼性の高いはんだ接合を実現すると共に、電極／バリヤメタル層の膜厚の制御を不要とし、製造コストの削減に寄与することを目的とする。 - 特許庁

In an substrate for an ink jet recording head, an edge section at a side of a heating section 8 of the electrode 4 is formed of a vertical face 4a roughly perpendicular to the surface of the heating resistor layer 3 and an inclined section 4b which is continuous from the vertical face 4a to the top face 4c of the electrode 4.例文帳に追加

インクジェット記録ヘッド用基体では電極４の熱作用部８側のエッジ部が、発熱抵抗層３の表面に略垂直な垂直面４ａと、この垂直面４ａから電極上面４ｃに連続する傾斜部４ｂとで形成されている。 - 特許庁

In the method to manufacture an epitaxial wafer for a nitride semiconductor light-emitting element, an Al_X2Ga_1-X2N (0≤X2≤1) layer 19 is grown on a substrate 11, having the surface made of In_X1Ga_1-X1N (0<X1≤1), at a first temperature T1.例文帳に追加

窒化物系半導体発光素子のためのエピタキシャルウエハを作製する方法では、Ｉｎ_Ｘ１Ｇａ_１−Ｘ１Ｎ（０＜Ｘ１≦１）からなる表面を有する基板１１上に、第１の温度Ｔ１でＡｌ_Ｘ２Ｇａ_１−Ｘ２Ｎ（０≦Ｘ２≦１）層１９が成長される。 - 特許庁

A monomolecular layer like optical recording film (2) wherein a group of chemically adsorbed molecules are chemically bonded by a covalent bond to the surface of a substrate (1) has the property that the major axis direction of the chemically adsorbed molecules is changed into the direction of polarized light irradiation.例文帳に追加

化学吸着分子群が基体(1)の表面に共有結合により化学結合されている単分子層状の光記録膜(2)であって、前記光記録膜は、偏光が照射される方向に化学吸着分子の長軸方向が変化する特性を有する。 - 特許庁

In the optoelectronic device such as a liquid crystal display device, metal reflecting films corresponding to a reflective region are formed on a transparent substrate and an insulating layer is formed so as to surround each of the reflecting films, made of a metal such as aluminum, around the metal reflecting films.例文帳に追加

液晶表示装置などの電気光学装置は、反射領域に対応する金属反射膜が透明基板などの上に形成され、その金属反射膜の周囲にはアルミなどの金属による反射膜の周囲を囲むように絶縁層が形成される。 - 特許庁

The reflection layer 7 reflects the light which travels in an opposite direction of light extraction direction A to the light extraction direction A, and is formed in a bottom face 2a of the substrate 2 which is opposed to a light extraction face 4a for extracting the light.例文帳に追加

反射層７は、光取出方向Ａとは反対方向へ進行する光を光取出方向Ａへと反射するためのものであり、光を取り出すための光取出面４ａとは反対側の面である基板２の底面２ａに形成されている。 - 特許庁

The analyzing element comprises a plurality of films 3, 4 having at least a metal film 4 and laminated on a substrate 2, and the diffraction grating 5 which can induces the evanescent wave by irradiating with an exciting light and which is formed on a boundary surface or a surface of a front layer between the layers 2 and 3 except the film 4.例文帳に追加

基板２上に少なくとも金属膜４を含む複数の膜３，４を積層し、励起光の照射によりエバネッセント波を誘起しうる回折格子５を金属膜４以外の層２，３間の境界面或いは表層の表面に形成する。 - 特許庁

The photochromic surface layer part of the optical substrate is coated with an ultraviolet ray absorbing film with a thickness of 0.1-100 μm, where a ratio of transmitted light ray with a wavelength of 360 nm is 50% or more and where a ratio of transmitted light ray with a wavelength of 320 nm is 10% or less.例文帳に追加

上記光学基板のフォトクロミック表層部を、３６０ｎｍの光線透過率が５０％以上であり、且つ３２０ｎｍの光線透過率が１０％以下である、厚さが０．１〜１００μｍである紫外線吸収膜により被覆する。 - 特許庁

To provide a polishing device which is capable of polishing the required layer of a target substrate at a sufficiently high polishing rate as defects caused by corrosion or scratches are reduced to the utmost while a slurry is kept high in stability and long in service life without providing an annexed feed unit.例文帳に追加

供給付帯設備を設けることなくスラリの安定性および寿命を維持しつつ、エロージョンやスクラッチといった欠陥を極力低減し、しかも十分に大きな研磨速度で被処理基板の所望の層を研磨可能な研磨装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the tendency to form whiskers in a method for electrodepositing a layer of tin or tin alloy on a copper or copper-containing alloy substrate in an electrical device such as a printed wiring board, a lead frame, a semiconductor package, a chip capacitor, a chip resistor, a connector, and a contact.例文帳に追加

プリント配線板基体、リードフレーム、半導体パッケージ、チップコンデンサ、チップ抵抗、コネクタまたは接点である電子デバイスにおいて、銅または銅含有合金基体の上にスズまたはスズ合金層を電着する方法において、ウィスカー形成の傾向を抑制する。 - 特許庁

Banks 13 for partitioning pixels are formed on a substrate 11, the part where the aperture part 21a is to be formed is subjected to liquid repellent treatment and then a liquid material for forming the semitransmission reflection layer 21 is ejected into the pixel by an ink jet method to form the semitransmission reflection later 21.例文帳に追加

基板１１上に、画素を仕切るバンク１３を形成し、開口部２１ａが形成される部位に撥液処理を施した後、画素内に半透過反射層２１を形成する液体材料をインクジェット法により吐出して半透過反射層２１を形成する。 - 特許庁

The gold plating layer has an end face extending toward the first end face, which is located in a range between the first end face of the semiconductor substrate and a middle position relevant to one half of a length A of the light non-absorbing area along the optical axis.例文帳に追加

この金メッキ層は前記第１端面に向かって延びた端面を有し、この金メッキ層の端面が、半導体基体の第１端面と、光軸に沿った前記光非吸収領域の長さＡの１／２に相当する中間位置との間の範囲に位置する。 - 特許庁