「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(772ページ目) - Weblio英語例文検索

A light-emitting diode includes a transparent substrate with an absorption coefficient less than 4 per centimeter, epitaxial layers having absorption coefficients of less than 500 per centimeter, in layers other than the active emission layers; and an ohmic contact and metallization layer on at least one of the epitaxial layers, with the ohmic contact and metallization layer, having a transmissivity of at least about 80 percent.例文帳に追加

発光ダイオードであって、４毎センチメートル未満の吸収係数を有する透明な基板と、複数の活性放射層以外の層において５００毎センチメートル未満の吸収係数を有する複数のエピタキシャル層と、該複数のエピタキシャル層上のうちの少なくとも１つの上のオーム接触および金属被覆層であって、該オーム接触および該金属被覆層は、少なくとも約８０パーセントの透過率を有する、オーム接触および金属被覆層とを備えている、発光ダイオード。 - 特許庁

A process of fabrication of keyboard switches wherein a masking layer, composed of material without affinity toward elastomer resin, is placed on a metal plate, coating the exposed metal surface with elastomer, followed by removal of the masking layer and forming the projections composed of elastomer resin and flat electrode portion with electrical contact members, and laminate the flat electrode with the substrate carrying membrane electrodes, while ascertaining that the electrical contact members and membrane electrode form oppose one another. 例文帳に追加

金属板の表面に、エラストマー樹脂に対して親和性のない材料からなるマスク層を形成し、次いで露出した金属板表面にエラストマー樹脂を被着し、その後該マスク層を除去してエラストマー樹脂からなる所定の突出絶縁部と、それ以外の電気接点部とを有する電極板を形成し、該電極板と薄膜電極を有する基板とを、電気接点部と薄膜電極とが対向するよう積層一体化させることを特徴とするキーボードスイッチの製造方法。 - 特許庁

To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加

本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁

The dielectric ceramic substrate 1 is obtained by burning the layered material which is prepared by layering a hardly chipping material layer 3 comprising the powder mixture of dielectric materials and glass consisting mainly of an amorphous one on both sides of a high-strength material layer 2 comprising the above powder mixture in which glass is mainly a crystalline one.例文帳に追加

誘電体粉末とガラス粉末の混合物を焼成することにより得られる誘電体セラミック基板１であって、ガラス粉末として結晶性ガラスを主成分として用いた誘電体粉末との混合物からなる高強度材料層２の両側に、ガラス粉末として非晶質ガラスを主成分として用いた誘電体粉末との混合物からなる低チッピング材料層３を配置して積層体とし、これを焼成することにより得られることを特徴としている。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor has a photosensitive layer on the substrate and the photosensitive layer contains at least one of a positive hole transferring compd. having two or more chain polymerizable functional groups in the same molecule and a compd. obtd. by hardening the positive hole transferring compd. by polymn. or crosslinking with heat or light.例文帳に追加

支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光層が、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物及び該正孔輸送性化合物を熱または光を用いて重合あるいは架橋することにより硬化した化合物の少なくとも一方を含有することを特徴とする電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ、電子写真装置及び該電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

The photodetector incorporated semiconductor device having a photodetector and a signal processing circuit for the insulated and separated photodetector formed on the same semiconductor is constituted by laminating a 1st semiconductor layer having a 1st photodetector; an insulating layer which varies in reflection factor with the wavelength of light, transmits light, and has a specified film thickness; a 2nd photodetector; and the signal processing circuit in order on the semiconductor substrate.例文帳に追加

受光素子と該受光素子の信号処理回路とが同一半導体基板上に絶縁分離して形成された受光素子内蔵半導体装置において、第１の受光素子を備える第１の半導体層と、光の波長により反射率が変わり、かつ光透過性を有する所定の膜厚の絶縁層と、第２の受光素子及び信号処理回路を備える第２の半導体層とが、順に半導体基板上に積層して形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The method for growing an indium nitride-containing semiconductor layer comprises the steps of: forming indium hydride by causing hydrogen atoms resulting from the decomposition by plasma to react with an indium source including indium metal or indium-containing compound; forming nitrogen atoms by decomposing nitrogen with plasma; and forming an indium nitride-containing semiconductor layer on a substrate by causing the indium hydride and the nitrogen atoms to react with each other.例文帳に追加

本発明のＩｎＮを含む半導体層の成膜方法は、プラズマで分解された水素原子と、Ｉｎ金属またはＩｎを含む化合物からなるＩｎ源とを反応させることによってＩｎ水素化物を形成するステップと、プラズマで窒素を分解することによって原子状窒素を形成するステップと、Ｉｎ水素化物と原子状窒素とを反応させることによって、基板上にＩｎＮを含む半導体層を形成するステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A light emitting element has a substrate, a plurality of lower electrodes disposed in a stripe shape, a plurality of transparent counter electrodes disposed in a stripe shape, and a luminescent layer disposed between the lower electrode and the transparent counter electrodes, and the display device has an auxiliary electrode disposed on the transparent counter electrodes and a first insulating layer below the auxiliary electrode and between the transparent counter electrode and the lower electrode.例文帳に追加

基板と、ストライプ状に配置される複数の下部電極と、複数の下部電極に交差し、ストライプ状に配置される複数の透明対向電極と、下部電極及び前記透明対向電極との間に配置される発光層と、を有する発光素子であって、透明対向電極上に配置される補助電極と、補助電極の下であって、透明対向電極と下部電極との間に設けられる第一の絶縁層とを有する表示装置。 - 特許庁

The manufacturing method of an optical semiconductor element comprises the steps of forming a substantially stripe-shaped protruded structure by selectively dry etching an InGaAlP layer formed on a substrate up to the middle of its thickness, forming a protective film on the upper surface and both side surfaces of the protruded structure, and forming the ridge including the protruded structure by etching the InGaAlP layer around the protruded structure with a solution containing fluorinated acid.例文帳に追加

基板上に形成されたＩｎＧａＡｌＰ層をその厚みの途中まで選択的にドライエッチングして略ストライプ状の凸状体を形成する工程と、前記凸状体の上面と両側面とに保護膜を形成する工程と、前記凸状体の周囲の前記ＩｎＧａＡｌＰ層をフッ酸を含有する溶液でエッチングすることにより、前記凸状体を含むリッジを形成する工程と、を備えたことを特徴とする光半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate in which a heavily doped layer having a resistance that is uniform within a lot is easily formed, and furthermore any protective film for inhibiting out-diffusion of the impurity from the heavily doped layer is not required.例文帳に追加

この発明は、低濃度の不純物を含有する低濃度不純物基板に高濃度不純物拡散層を形成し、更にその上層に前記高濃度不純物拡散層より低濃度の不純物を含有するエピタキシャル層を形成した構造とすることで、ロット内で均一な抵抗を有する高濃度不純物層を容易に形成することができ、しかも高濃度不純物層からの不純物の外方拡散を防ぐための保護膜を必要としない半導体基板を得ようとするものである。 - 特許庁

In this case, the first and second unit cells are connected in series by allowing the second impurity semiconductor layer to abut on the third one, an insulation layer is provided on a surface at a side opposite to the single crystal semiconductor layer of the first electrode, and the insulation layer is joined to a support substrate.例文帳に追加

単結晶半導体層の一方の面に第１電極と一導電型の第１不純物半導体層が設けられ、他方の面に一導電型とは逆の導電型の第２不純物半導体層が設けられた第１ユニットセルと、非単結晶半導体層の一方の面に一導電型の第３不純物半導体層が設けられ、他方の面に一導電型とは逆の導電型の第４純物半導体層と第２電極が設けられた第２ユニットセルとを有し、第１ユニットセルと第２ユニットセルは、第２不純物半導体層と第３不純物半導体層が接することで直列接続され、第１電極の単結晶半導体層とは反対側の面に絶縁層が設けられ、絶縁層が支持基板と接合している光電変換装置である。 - 特許庁

The manufacturing method of the group III nitride compound semiconductor light-emitting element includes a first process for forming a dielectric film on a SiC substrate or the group III nitride compound semiconductor in a pattern shape and a second process for causing the group III nitride semiconductor layer to selectively grow on the SiC substrate or the group III nitride compound semiconductor by an organic metal chemical vapor growth method, after a reactor is substituted for hydrogen atmosphere.例文帳に追加

本発明のＩＩＩ族窒化物系半化合物半導体発光素子の製造方法は、ＳｉＣ基板上またはＩＩＩ族窒化物系化合物半導体上に誘電体膜をパターン状に形成する第１工程と、リアクターを水素雰囲気に置換した後、有機金属化学的気相成長法により上記ＳｉＣ基板または上記ＩＩＩ族窒化物系化合物半導体の上にＩＩＩ族窒化物系半導体層を選択成長する第２工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The array substrate AR contains a light reflection part 9 which reflects ambient light incident from the counter substrate CT side per one pixel region of the liquid crystal layer LQ and a light transmission part 8, arranged in a position lower than that of the light reflection part 9, which transmits light of backlight per one pixel region.例文帳に追加

半透過型液晶表示装置はアレイ基板ＡＲ、対向基板ＣＴと、アレイ基板基板ＡＲおよび対向基板ＣＴ間に保持され液晶配向がアレイ基板ＡＲおよび対向基板ＣＴにより制御される液晶層ＬＱとを備え、アレイ基板ＡＲは液晶層ＬＱの一画素領域に対して対向基板ＣＴ側から入射する周囲光を反射する光反射部９、および光反射部９よりも低い位置に配置され一画素領域に対してバックライト光を透過させる光透過部８を含む。 - 特許庁

A second substrate 10B is stuck to the first substrate 10A at a prescribed interval between substrates, a liquid crystal is injected between the first and the second substrates 10A and 10B and a liquid crystal layer wherein liquid crystal molecules are aligned by alignment controlling force is formed.例文帳に追加

画素内に反射領域および透過領域とが並列に配置された第１基板１０Ａにフォトスペーサ２２を形成した後に配向膜１１を塗布し、配向膜１１に対し配向膜１１に吸収される波長帯域の紫外光を照射して、配向膜１１の配向処理を行い、第１基板１０Ａに対し第２基板１０Ｂを所定の基板間隔をもって貼り合わせ、第１基板１０Ａおよび第２基板１０Ｂの間に液晶を注入し、配向制御力により液晶分子が配向された液晶層を形成する。 - 特許庁

The resistance change element includes a substrate and a multilayer structure arranged on the substrate, wherein the multilayer structure includes an upper electrode, a lower electrode, and a resistance change layer arranged between the upper and lower electrodes.例文帳に追加

基板と基板上に配置された多層構造体とを含み、多層構造体が、上部電極および下部電極と、上部電極と下部電極との間に配置された抵抗変化層とを含み、上部電極と下部電極との間の電気抵抗値が異なる２以上の状態が存在し、上部電極と下部電極との間に駆動電圧または電流を印加することにより、上記２以上の状態から選ばれる１つの状態から他の状態へと変化する抵抗変化素子であって、抵抗変化層が式M(Fe_2-xA_x)O_4で示される酸化物を含む素子とする。 - 特許庁

In the luminance-uniformiazing sheet 1, a white diffusion layer 12 containing at least one kind of an ultraviolet absorbent from among cyanoacrylate base, oxalic acid anilide base, malonic ester base is formed in a pattern adjusted so as to equalize and emit an incident light having nonuniformized luminance distribution, on at least one surface of a translucent substrate 11.例文帳に追加

透光性基材１１の少なくとも片面に、不均一な輝度分布を有する入射光を均斉化して出射できるよう調整されたパターン状に、シアノアクリレート系、蓚酸アニリド系、マロン酸エステル系の内、少なくとも１種の紫外線吸収剤を含む白色拡散層１２が形成されていることを特徴とする輝度均斉化シート１である。 - 特許庁

The TEG chip has metal wiring including at least one metal layer buried in an insulating film 13 formed on a semiconductor substrate 1, at least two pad electrode for electric characteristic evaluation formed on an upper surface of the insulating film 13, and at least one pad electrode 3 for bonding evaluation formed on the insulating film surface.例文帳に追加

半導体基板１上に形成された絶縁膜１３に埋め込まれた少なくとも一層の金属層からなる金属配線と、絶縁膜１３表面に形成された少なくとも２つの電気特評価用パッド電極２と、絶縁膜表面上に形成された少なくとも１つのボンディング評価用パッド電極３とを具備している。 - 特許庁

The mask blank comprises a thin film formed on a substrate for forming a mask pattern, and a resist film formed above the thin film, and is characterized in that the patterned resist film is prevented from collapsing upon developing the resist film for patterning by inserting a deposition layer joined with the thin film and the resist film.例文帳に追加

基板上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜と、この薄膜の上方に成膜されたレジスト膜を備えるマスクブランクであって、 前記薄膜と前記レジスト膜とに接合した付着層を介挿することにより、前記レジスト膜をパターン形成する際の現像に際し、パターン形成されたレジスト膜の倒れを防止することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a film formation method and a wear-resistant member capable of obtaining hardness excellent in wear resistance and sufficient adhesiveness by forming, as an intermediate layer, the film of nitride or carbonitride of Ti which is a metal different from vanadium-based metals between a substrate and a vanadium carbide (VC) film coated on an outermost surface.例文帳に追加

基材と最表面層に被膜される炭化バナジウム（ＶＣ）膜との間に中間層としてバナジウム系金属とは異なる異種金属であるＴｉの窒化物膜又は炭窒化物膜を形成することにより、耐摩耗性に優れた硬度及び十分な密着性を得ることができる成膜方法及び耐摩耗性部材を提供する。 - 特許庁

A parallax barrier manufacturing method to solve the above problem manufactures a parallax barrier including a vertical grid in which a shading portion and a translucent portion are paired up and arranged at regular intervals, through selectively spraying a shading ink and a transparent ink over a silica microparticle layer previously formed on a transparent substrate using an ink jet method.例文帳に追加

遮光部と透光部とが対になって等間隔に並んだ縦格子からなるパララックスバリアを、透明基板上に予め形成したシリカ微粒子層上にインクジェット法で遮光インクと透明インクをそれぞれ選択的に噴霧することで形成することを特徴とするパララックスバリアの製造方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

The inkjet recording paper having a porous ink absorbing layer comprising an inorganic fine particle, a cationic polymer and a hydrophilic binder on a substrate, is characterized by that a mean primary particle diameter of the inorganic fine particle is 5-200 nm, and a surfactant with a carbon-carbon unsaturated bond in the molecule is incorporated.例文帳に追加

支持体上に、無機微粒子、カチオン性ポリマー及び親水性バインダーを含有する多孔質インク吸収層を有するインクジェット記録用紙において、該無機微粒子の平均一次粒径が５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であり、かつ分子中に炭素−炭素不飽和結合を有する界面活性剤を含有することを特徴とするインクジェット記録用紙。 - 特許庁

A heat sensitive layer, comprising at least one kind of micro-capsule including a thermoplastic micro-grain polymer having a functional group permitting mutual function between a hydrophilic surface or a micro-capsule including a compound having a functional group permitting the mutual function between the hydrophilic surface in a molecule, is provided on a substrate having the hydrophilic surface.例文帳に追加

親水性表面を有する支持体上に、分子内に、該親水性表面と相互作用しうる官能基を有する熱可塑性微粒子ポリマー或いは、分子内に、該親水性表面と相互作用しうる官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルの少なくとも１種を含む感熱層を設けることを特徴とする。 - 特許庁

The front substrate of the image display device comprises a metal back layer which is overlaid on the phosphor screen and composed of a plurality of divided electrodes 30, a common electrode 41 for supplying voltage to the divided electrode 30, and a connection resistance 43 which connects the divided electrode 30 to the common electrode 41.例文帳に追加

画像表示装置を構成する前面基板は、蛍光面に重ねて設けられているとともに分割された複数の分割電極３０によって構成されたメタルバック層、分割電極３０に電圧を供給するための共通電極４１と、分割電極３０と共通電極４１とを接続する接続抵抗４３と、を有している。 - 特許庁

To obtain an acrylic sol composition incinerable without generating hydrogen chloride gas and dioxins, having excellent storage stability, hardenable at a relatively low temperature and having excellent adhesivity of the coating film to a substrate, adhesive property to a top-coating layer, colorability of the coating film, cold-resistance of the coating film and coating film strengths.例文帳に追加

焼却時に塩化水素ガスやダイオキシンを発生することがなく、貯蔵安定性に優れ、かつ比較的低温においても硬化させることができ、また、塗膜の基材に対する接着性や、上塗り塗料に対する付着性、塗膜の着色性、塗膜の耐寒性、及び塗膜強度に優れたアクリルゾル組成物を提供すること。 - 特許庁

An optical printer head comprising a substrate 1 with a large number of light emitting elements 2a mounted, stored in a housing 3 with a lens 6 mounted such that the lens 6 is disposed above the light emitting elements 2a, wherein an optical catalyst layer 8 to be activated by a light beam emitted by the light emitting elements 2a, is provided on the outer surface of the lens 6.例文帳に追加

レンズ６が取着されているハウジング３の内部に、多数の発光素子２ａを搭載した基板１を、前記レンズ６が前記発光素子２ａ上に位置するようにして収納させてなる光プリンタヘッドにおいて、前記レンズ６の外表面に、発光素子２ａの発する光により活性化する光触媒層８を被着させる。 - 特許庁

After a cavity 11 with a desired product shape engraved on a mold substrate is subjected to carving processing, spherical particles are sprayed on the surface of the cavity 11 to grind the angular vertexes of the unevenness of the surface of the cavity formed by the carving processing to form a satin finish surface, and a plating layer 12 is formed on the surface of the satin finish surface.例文帳に追加

金型基材に所望の製品形状を象ったキャビティ１１の彫り込み加工をした後、キャビティ１１の表面に球状粒子を吹き付けて彫り込み加工によって生じたキャビティ１１の表面の凹凸の角張った頂点部を研削した梨地仕上げ面を形成し、該梨地仕上げ面の表面にメッキ層１２を形成した。 - 特許庁

In a resin injection molding apparatus for a resin molded article with a fine concavo-convex pattern on one side, a mold apparatus for molding a substrate for an optical disc characterized in that a multiple layer type stamper having plural heat insulating layers separated each other on a mold for forming an injected matter in contact with the fine concave-convex pattern face described above is installed, as a main construction.例文帳に追加

片面が微細な凹凸パターンを持つ樹脂射出品の樹脂射出成形装置において、前記微細な凹凸パターン面に接して射出品を形成する金型に互いに、隔離した複数層の断熱層を含む多層式スタンパを設置したことを特徴とする光ディスク用基板を成形する金型装置を主たる構成にする。 - 特許庁

Alternatively, in the lens protection transfer sheet, the substrate sheet has an approximately U-shaped cross section, the bottom part of the central crest part is lower than the apex parts of both side walls, the lower surface of the central crest part is in a shape corresponding to the outline of the lens, and the hard coat layer is formed at least on the lower surface of the central crest part.例文帳に追加

また、基体シートが断面大略Ｕ字状を呈し、中央の谷部の底部が両側壁の頂部より低く、かつ中央の谷部の下面はレンズ外形状に相応する形状を呈するレンズ保護転写シートであって、少なくとも中央の谷部の下面にハードコート層が形成されたことを特徴とするレンズ保護転写シートである。 - 特許庁

In a laminated film for metal surface coating 100A to manufacture screen board by coating on the metal surface, a substrate resin layer 10, a stratum 20 whereupon the embossing can be given, an adhesive polymer composition stratum 30 which consists of denaturation polyester-based elastomer, a stratum 40 which consists of ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, and a stratum 50 which consists of adhesive fluororesin are stacked in this order.例文帳に追加

金属表面に被覆してスクリーンボードとするための金属被覆用積層フィルムにおいて、基材樹脂層、エンボス付与可能層、変性ポリエステル系エラストマーからなる接着性重合体組成物層、エチレン-ビニルアルコール共重合体樹脂からなる層、及び、接着性フッ素樹脂からなる層をこの順に積層する。 - 特許庁

A gate insulating film 4 is formed so as to extend from the interior of the trench 8 to the surface of the p-base 2 of the semiconductor substrate by a thermal process, and also impurity ions of high concentration implanted to the front layer of the p-base 2 and the bottom part of the trench 8 are activated to form a source region 3 and a well region 10 at the same time.例文帳に追加

そして、熱処理によってトレンチ８内部から半導体基板のｐベース２表面にまで延在するようにゲート絶縁膜４を形成するとともに、ｐベース２の表層およびトレンチ８底部に注入された高濃度の不純物イオンを活性化させてソース領域３およびウェル領域１０を同時に形成するものである。 - 特許庁

To provide a polishing agent for CMP capable of suppressing occurrence of dishing, thinning, and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound, or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and to provide a method for polishing a substrate by using the agent.例文帳に追加

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。 - 特許庁

This recording paper is provided with a fine grained surface having a 60-degree specular gloss of 70% or less according to JIS-Z-8741 on at least one side surface of a substrate and a regular or irregular surface shape and a porous layer containing a hydrophilic binder and fine grains on the side having the fine grained surface.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の側の表面のＪＩＳ−Ｚ−８７４１による６０度鏡面光沢度が７０％以下であって、該表面が規則的又は不規則な形状を有する微粒面を有し、この微粒面を有する側に親水性バインダー及び微粒子を含有する多孔質層を有することを特徴とする記録用紙。 - 特許庁

A capacitance electrode 27 in the retention capacitance 17 is made of polycrystalline silicon having ruggedness formed on an upper surface part to be an inner surface side of the lower substrate 20, and the reflection layer 26 is disposed above the capacitance electrode 27 made of the polycrystalline silicon and has ruggedness to which the ruggedness of the capacitance electrode 27 made of the polycrystalline silicon is transferred.例文帳に追加

保持容量１７における容量電極２７が、下基板２０の内面側となる上面部に凹凸を形成した多結晶シリコンからなり、反射層２６が、多結晶シリコンからなる容量電極２７の上方に配置されて、容量電極２７の凹凸が転写されてなる凹凸を有して形成されている。 - 特許庁

The vertically aligned liquid crystal device having an over-layer structure is provided with: a data line on the element substrate side; a switching element such as TFD connected with the data line; an insulating film formed on the data line and switching element; a pixel electrode formed on the insulating film; and a contact hole which connects the switching element to the pixel electrode.例文帳に追加

オーバーレイヤー構造を有する垂直配向方式の液晶装置であって、素子基板側にデータ線と、データ線と接続されたＴＦＤなどのスイッチング素子と、データ線とスイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜の上に形成された画素電極と、スイッチング素子と画素電極とを接続するコンタクトホールとを備える。 - 特許庁

In an uppermost layer of the multi-layered wiring on a substrate, that is, having a plurality of layers each laminated with an interlayer insulating film provided therebetween, and having wiring formed in the respective layers; a metal member electrically connected to a node having a constant potential provided thereto is formed in a region other than regions having the wiring arranged therein.例文帳に追加

本発明では、基板上の多層配線、即ち、それぞれが層間絶縁膜を介して積層された複数の層と、それぞれの層内に形成された配線とを有する多層配線の最上位の層内において、配線が配置された領域以外の領域に、定電位が与えられるノードに電気的に接続するメタル部材が形成される。 - 特許庁

The coating liquid containing hydrophilic inorganic fine particles such as silica and preferably siliceous substance for binding and having 18 to 93 molar ratio of SiO2/alkali, is uniformly applied to a tile rear surface or a substrate structure surface, then is subjected to heat treatment or drying to form a hydrophilic layer in which the silica fine particles are bound by a siliceous binder.例文帳に追加

タイル裏面又は下地構造体表面にシリカ等の親水性無機質微粒子と好ましくは結合用珪酸質物質とを含有し、かつＳｉＯ_2／アルカリのモル比を１８〜９３とした塗布液を均一に塗付し、ついで熱処理又は乾燥することによりシリカ微粒子を珪酸質バインダーで結合した親水層を形成する。 - 特許庁

When an insulation layer 3 is formed between pixel electrodes 2 which is patterned on the substrate, and transport materials are printed by letterpress printing method and hole transport inks are printed on a pixel electrode 2 which exists between the insulation layers 3 from the convex parts 32 of letterpress printing 30, the convex parts 32 of letterpress printing 30 is made to have an inside-protruded shape.例文帳に追加

基板上のパターニングされた画素電極２の間に絶縁層３を形成し、凸版印刷法により正孔輸送材料を溶媒に溶解または安定に分散させた正孔輸送インキを凸版３０の凸部３２から絶縁層３の間にある画素電極２に印刷する場合、凸版３０の凸部３２を中凸形状にする。 - 特許庁

This sensor is an amperometric type enzyme sensor of which a working electrode 2 is a single coat applied layer made of a conductive paste containing at least an oxidoreductase, noble metal fine particulates, a conductive powder material and a binder, in an enzyme sensor having an electrode system comprising at least the working electrode 2 and a counter electrode 3 provided on an insulating substrate 1.例文帳に追加

絶縁性基板上に設けられた少なくとも作用極と対極とからなる電極系を有する酵素センサーにおいて、作用極が少なくとも酸化還元酵素、貴金属微粒子、導電性粉末材料及びバインダーを含む導電性ペーストから作られた単一塗着層であることを特徴とする、アンペロメトリック型酵素センサーが作製された。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive substrate, a vinyl chloride resin is used which is obtained by subjecting a vinyl chloride polymer having hydroxyl groups, epoxy groups and sulfur-containing strong acid radicals as substituents to esterification treatment with an acid to provide a structure in which the epoxy groups and the hydroxyl groups are partly converted into ester groups.例文帳に追加

導電性基体上に感光層を備えた電子写真感光体において、水酸基、エポキシ基、および硫黄を含む強酸根を置換基としてもつ塩化ビニル系重合体に酸によるエステル化処理が施され、エポキシ基および前記水酸基が部分的にエステル基となっている構造を持つ塩化ビニル系樹脂を用いた。 - 特許庁

To obtain a unit cell structure suited to a highly integrated device and a high speed operation in a semi-customized conductor integrated circuit device wherein the degree of freedom about the substrate design of transistors is improved and the wiring layer conversion for processing input/output signals of unit cells which would obstruct the layout of other wiring layers is possibly reduced.例文帳に追加

セミカスタム半導体集積回路装置において、トランジスタの下地の設計に関する自由度を向上させ、更に、他の配線層敷設の妨げとなるような、ユニットセルの入出力信号を処理するための配線層変換を極力低減した、設計自由度が高く、高集積化および高速動作に適したユニットセルの構造を実現する。 - 特許庁

In an organic electroluminescence element, having a cathode and an anode on a substrate and having a plurality of organic layers between them, the organic electroluminescence element is a layer, obtained by coating and polymerizing a compound in which at least one of the organic layers has at least one polymerizable group, and containing organic molecules having repeating units of 10 or smaller.例文帳に追加

基板上に陰極と陽極を有し、その間に複数の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも１つが重合性基を少なくとも一つ有する化合物の塗布、重合により得られる、繰り返し単位１０個以下である有機分子を含有する層であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁

When the photo mask is manufactured by forming a light shielding film pattern on one side of a light transmitting substrate and demarcating a light transmitting part by the light shielding film pattern, a fluorine-containing photocatalyst active layer containing a photocatalyst and a fluorine-based compound is formed in a manner that it can be overlapped on the light transmitting part on the plane view.例文帳に追加

光透過性基板の片面に遮光膜パターンが形成され、この遮光膜パターンによって光透過部が画定されているフォトマスクを作製するにあたり、光透過部と平面視上重なるようにして、光触媒とフッ素系化合物とを含有するフッ素含有光触媒活性層を形成することによって、上記課題を解決した。 - 特許庁

To provide a halftone type phase shift mask adaptable to the shortening of the wavelength of light for exposure and the enhancement of transmittance and to provide a blank having a translucent film layer obtained by disposing a region which is transparent to light for exposure and a translucent film region having controlled phase and transmittance on a glass substrate and used in the production of the halftone type phase shift mask.例文帳に追加

ガラス基板上に露光光に対して透明な領域と、位相および透過率が制御された半透明膜領域を設けたハーフトーン型位相シフトマスクの製造に用いられる半透明膜層を有するブランクに於いて、露光波長の短波長化や高透過率化に対応できるハーフトーン型位相シフトマスク及びブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an array substrate for a liquid crystal displaying apparatus that can form a low molecular organic semiconductor material with very weak moisture resistance, without using a shadow mask, by a micro pattern that is adjustable up to several μm, and then utilizes the low molecular organic semiconductor material without damaging a micro patterned low molecular organic semiconductor layer.例文帳に追加

本発明は、水分に非常に弱い特性を有する低分子有機半導体物質をシャドーマスクを利用しないで数μｍまで調節可能な微細パターンで形成することができ、微細パターンされた低分子有機半導体層の損傷なしに低分子有機半導体物質を利用した液晶表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加

基板５表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域１３に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層２をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁