「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(774ページ目) - Weblio英語例文検索

The electro-optical device includes, on a substrate 10: a pixel electrode 9; and a capacitor electrode 71 which is disposed so as to face the pixel electrode via a dielectric film 72 on an under layer side of the pixel electrode and is formed in an area wider than the total area provided by summing opening areas of respective pixels over the total image display area.例文帳に追加

電気光学装置は、基板１０上に、画素電極９と、画素電極の下層側に誘電体膜７２を介して画素電極に対向するように設けられ、画素の各々における開口領域を、画像表示領域全体に渡って合計した合計面積よりも広く形成された容量電極７１とを備える。 - 特許庁

The method for film forming the organic semiconductor layer comprises the steps of forming an electrically-charged region having the desired pattern on a substrate, and making the electrically-charged region that has the desired pattern absorb the organic semiconductor material, by making the formed electrically-charged region, having the intended pattern contact an organic semiconductor material solution.例文帳に追加

基板の上に所望のパターンの帯電領域を形成する帯電領域形成工程と、形成された所望のパターンの帯電領域を有機半導体材料の溶液に接触させて、該有機半導体材料を該所望のパターンの帯電領域に吸着させる工程と、を含むことを特徴とする有機半導体層の成膜方法。 - 特許庁

The device arranges the lean NOx catalyst 3 which carries a catalyst layer purifying nitrogen oxide in exhaust gas on a metal honey comb (metal substrate) under an excess oxygen atmosphere along the direction of an exhaust gas flow to an exhaust passage 2 of the internal combustion engine, and a reaction catalyst (oxidation catalyst) 4 which performs the oxidation reaction of at least hydrocarbon (HC) in exhaust gas.例文帳に追加

内燃機関１の排気通路２に排気ガス流れ方向に沿って、排気ガス中の窒素酸化物を酸素過剰雰囲気下で浄化する触媒層をメタルハニカム（金属基体）に担持したリーンＮＯｘ触媒３と、排気ガス中の少なくとも炭化水素（ＨＣ）の酸化反応を行わせる反応触媒（酸化触媒）４とを配置する。 - 特許庁

The filler for ion chromatography is constituted by providing a monomolecular or bimorecular membrane, which is formed by arranging amphiphatic chain organic molecules each having an ion exchange group at least one end thereof and a hydrophobic part at the part other than the ion exchange group thereof by the hydrophobic interaction due to the hydrophobic parts, on a substrate as the uppermost layer.例文帳に追加

このイオンクロマトグラフィー用充填剤は、少なくとも一端にイオン交換基を有し、且つ、該イオン交換基以外の部分に疎水部分を有する両親媒性鎖状有機分子が、該疎水部分同士による疎水性相互作用によって配列してなる単分子膜又は二分子膜を最表層として基体上に有するものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film solar cells includes a first laser light irradiation step of forming first separation grooves by irradiating a transparent electrode layer formed on a transparent insulating substrate with laser light to separate the transparent electrode and forming alignment grooves on the right and left sides of a direction orthogonal to the longitudinal direction of each first separation groove.例文帳に追加

透明絶縁基板に形成された透明電極層にレーザ光を照射することによって透明電極層を分離する第１分離溝を形成するとともに、第１分離溝の長手方向と直交する方向の左右にアライメント用の溝を形成する第１のレーザ光照射工程を含む、薄膜太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

To provide a high density LTCC package structure for encapsulating electronic components which can solve the alignment problem by using a kovar ring created by forming a silver layer on the upper surfaces of side walls of a ceramic substrate by a printing method and also can reduce the size of a package structure, and a high density LTCC material therefor.例文帳に追加

印刷方式により、セラミック基体の側壁の上表面に銀層を形成させることにより、コバールリングを用いて発生する位置合わせの問題を解決することができる上、パッケージ構造を小型化することができる電子部品を封止するために用いる高密度ＬＴＣＣパッケージ構造及びその高密度ＬＴＣＣ材料を提供する。 - 特許庁

In the uppermost layer of a substrate including multilayer interconnection, i.e. a plurality of layers that are laminated via interlayer insulating films respectively and wirings formed in the respective layers, with a metal member formed in a region other than the region in which wirings are arranged, the metal member is electrically connected to a node, to which a prescribed electric potential is applied.例文帳に追加

本発明では、基板上の多層配線、即ち、それぞれが層間絶縁膜を介して積層された複数の層と、それぞれの層内に形成された配線とを有する多層配線の最上位の層内において、配線が配置された領域以外の領域に、定電位が与えられるノードに電気的に接続するメタル部材が形成される。 - 特許庁

A polyethylene resin coating layer 3 is disposed so as to sequentially coat an inside part beyond the notch ditch 15 of a bent streak 14 at the circumferential end of the hollow substrate 1 and a rising streak 26 beyond the notch groove 27 of a projected streak 25 at the circumferential end of the attached body 2, thereby coating the exposed surface of the circular support A through extrusion molding.例文帳に追加

中空基体１の周方向端部の折曲条１４のノッチ溝１５を超えた内側部分，付設体２の同じく周方向端部の突条２５のノッチ溝２７を超えた起立条２６をそれぞれ一連に被覆するようにポリエチレン樹脂の被覆層３を配置して円形支柱Ａの露出表面を押出成形によって被覆する。 - 特許庁

A step of forming a device (TFT layer 12) on a substrate 11 includes a step (S11) of forming a thin film, a step (S12) of forming a photoresist film on the thin film, a step (S13) of exposing the photoresist film using an exposure mask M1, and a step (S15) of etching the exposed photoresist film.例文帳に追加

基板１１上にデバイス（ＴＦＴ層１２）を形成する工程は、薄膜を形成する工程（工程Ｓ１１）と、薄膜上にフォトレジスト膜を形成する工程（工程Ｓ１２）と、露光マスクＭ１を用いてフォトレジスト膜に対して露光を行う露光工程（工程Ｓ１３）と、露光がなされたフォトレジスト膜をエッチングする工程（工程Ｓ１５）とを含んでいる。 - 特許庁

The light absorption layer is heated by a laser beam which has passed through the openings of the mask, and the organic compound at a position overlapped with the heated region is vaporized, and accordingly, the organic compound is selectively deposited on the deposited substrate.例文帳に追加

光吸収層、及び有機化合物を含む材料層を形成した被照射基板と、第１の電極が設けられた被成膜基板とを向かい合わせて配置し、マスクの開口を通過したレーザビームが光吸収層を加熱することによって加熱された領域と重なる位置の有機化合物を蒸発させることで被成膜基板の面上に選択的に成膜を行う。 - 特許庁

In this case, the substrate is heated in a hydrogen-containing atmosphere, after the step of forming the interlayer insulating film and prior to the step of forming the metallic wiring in which the barrier metal layer contains titanium.例文帳に追加

シリコン基板上に、層間絶縁膜を形成する工程と、バリアメタル層にチタンを含む金属配線を形成する工程有する半導体装置の製造方法において、前記層間絶縁膜を形成する工程の後で、かつ前記バリアメタル層にチタンを含む金属配線を形成する工程の前に、水素を含む雰囲気での熱処理を行うこととした。 - 特許庁

The method for fabricating a semiconductor device has processes of forming wiring 102 and 108 on the semiconductor device 100 formed a fixed circuit, forming a resin layer 112 whose surface is approximately flat, and processing the back surface of the semiconductor substrate 100.例文帳に追加

半導体装置の製造方法であって，所定回路が形成された半導体基板１００表面上に配線１０２，１０８を形成する工程と，前記配線上に，その表面が略平坦な樹脂層１１２を形成する工程と，前記樹脂層１１２を形成した後，前記半導体基板１００の裏面を加工する工程と，を有する。 - 特許庁

The electrochromic display element is formed by laminating a plurality of structural units each having an electrochromic layer containing at least one or more electrochromic dyes and an electrolyte, at least one or more transparent thin film transistors, transparent pixel electrodes disposed in a matrix shape and a transparent counter electrode on a substrate.例文帳に追加

基板上に、少なくとも１種以上のエレクトロクロミック色素と電解質とを含むエレクトロクロミック層と、少なくとも１個以上の透明な薄膜トランジスタと、マトリクス状に配置された透明な画素電極と、透明な対向電極と、を有してなる構造単位を複数個積層してなることを特徴とするエレクトロクロミック表示素子。 - 特許庁

The optical compensation sheet has an optically anisotropic layer, formed from a liquid crystalline composition, comprising a rod-like liquid crystalline compound having polymerizable groups, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator on a substrate, wherein the polymerizable compound has at least two polymerizable groups and at least two hydroxide groups per molecule.例文帳に追加

支持体上に、重合性基を有する棒状液晶性化合物、重合性化合物、および光重合開始剤を含む液晶性組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートにおいて、該重合性化合物が１分子中に２個以上の重合性基および２個以上の水酸基を有する光学補償シート。 - 特許庁

To provide an integrated thin film type of photoelectric converter which can change the area of a light-receiving section of each photoelectric conversion element according to the distribution of the film thickness of thin-film silicon, even when the film thickness of the thin-film silicon deposited as a photoelectric conversion layer is nonuniform, from the center to the peripheral part of a substrate.例文帳に追加

光電変換層として成膜した薄膜シリコンの膜厚が、基板の中央から周縁部に向かって不均一であった場合でも、薄膜シリコンの膜厚の分布に応じて各光電変換素子の受光部の面積を変化させることができる集積薄膜型の光電変換装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polishing medium for CMP capable of suppressing the occurrence of dishing, thinning and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and a method for polishing a substrate by using the same.例文帳に追加

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。 - 特許庁

A light emitting module 32 includes: a plurality of semiconductor light emitting element 42a to 42d; a substrate 34 supporting the plurality of semiconductor light emitting elements arranged; and a plate-shaped fluorescent layer 44, that is provided facing light emitting surfaces 43a to 43d of the plurality of semiconductor light emitting elements and converts the wavelength of light emitted from the semiconductor light emitting elements.例文帳に追加

発光モジュール３２は、複数の半導体発光素子４２ａ〜４２ｄと、配列された複数の半導体発光素子を支持する基板３４と、複数の半導体発光素子の発光面４３ａ〜４３ｄに対向するように設けられ、半導体発光素子が発する光の波長を変換する板状の蛍光体層４４と、を備える。 - 特許庁

In the process wherein the end surfaces 20B of the plurality of SiC substrates 20 are bonded to each other, a process for heating connection parts that is a region containing a surface of the supporting layer 10 facing a region where the end surfaces 20B of the adjacent SiC substrate 20 face each other, and a process for cooling the connection parts are carried out repeatedly.例文帳に追加

そして、複数のＳｉＣ基板２０の端面２０Ｂ同士を接合する工程では、隣接するＳｉＣ基板２０の端面２０Ｂ同士が互いに対向する領域に面する支持層１０の表面を含む領域である接続部が加熱される工程と、当該接続部が冷却される工程とが繰り返して実施される。 - 特許庁

The release sheet is produced by forming a resin composition containing a polylactic acid resin (A) and 0.5-15 pts.mass of an organopolysiloxane compound (B) based on 100 pts.mass of the polylactic acid resin (A), and the adhesive sheet is produced by laminating the release sheet on a tacky adhesive layer formed on at least one side of an adhesive sheet substrate.例文帳に追加

ポリ乳酸系樹脂（Ａ）と、ポリ乳酸系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．５〜１５質量部の有機ポリシロキサン化合物（Ｂ）とを含有する樹脂組成物を成形してなることを特徴とする剥離シート、及び、粘着シート基材の少なくとも一方の面に形成された粘着剤層に、前記剥離シートが積層されてなる粘着シート。 - 特許庁

The epitaxial wafer 1 has a silicon epitaxial layer 20 of 10^16 atoms/cm^3 order in phosphorous concentration and 0.5 to 20 μm in film thickness, on the silicon substrate 10 of 10^19 atoms/cm^3 order in phosphorous concentration and 0.8×10^18 to 1.3×10^18 atoms/cm^3 in oxygen concentration.例文帳に追加

本発明に係わるエピタキシャルウェーハ１は、リン濃度が１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーであり、酸素濃度が０．８×１０^１８〜１．３×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３であるシリコン基板１０上に、リン濃度が１０^１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーで、膜厚が０．５〜２０μｍのシリコンエピタキシャル層２０を有する。 - 特許庁

A substrate 10 of which at least the surface is non-conductive is prepared, the underlayer 11 including a plurality of fine particles 11p of at least one type with a conductive zinc oxide as a main constituent is formed on the surface by an application method, and a conductive zinc oxide thin-film layer 12 is formed on the underlayer 11 by a chemical bath deposition method.例文帳に追加

少なくとも表面が非導電性である基板１０を用意し、その表面に導電性酸化亜鉛を主成分とする少なくとも１種の複数の微粒子１１ｐを含む下地層１１を塗布法により形成し、下地層１１上に、導電性酸化亜鉛薄膜層１２を化学浴析出法により形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light emitting device, capable of suppressing the decline of reliability while suppressing the variations of chromaticity by arranging a phosphor in the vicinity of the bottom of a translucent resin material in the shape of a layer of a roughly uniform thickness without giving vibrations to a substrate filled with the translucent resin material containing the phosphor, and to provide the light emitting device.例文帳に追加

蛍光体を含有した透光性樹脂材を充填した基体に、振動を与えることなく、蛍光体を透光性樹脂材の底部付近に略均一な厚さの層状に配置することで、色度のばらつきを抑えつつ、信頼性の低下を抑止することが可能な発光装置の製造方法および発光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an insulating resin with excellent adsorptive properties to a plating catalyst or a precursor thereof and resistance to hydrolysis; an insulating resin layer-forming composition; a laminate easily forming a metal film or a metal pattern with excellent close adhesion to a substrate; and methods for producing a surface metal film material and a metal pattern material.例文帳に追加

めっき触媒又はその前駆体との吸着性及び加水分解に対する耐性に優れた絶縁性樹脂、絶縁性樹脂層形成用組成物、基板との密着性に優れた金属膜又は金属パターンを簡易に形成しうる積層体、表面金属膜材料及び金属パターン材料の作製方法を提供する。 - 特許庁

The thin film transistor has a structure including a gate electrode 20 formed on a substrate 10, a gate insulating film 30 on the gate electrode 20, an oxide semiconductor film 40 on the gate electrode 20 and the gate insulating film 30, a metal oxide film 60 on the oxide semiconductor layer 40, and a metal film 70 on the metal oxide film 60.例文帳に追加

薄膜トランジスタの構造を、基板１０上に形成されたゲート電極２０と、ゲート電極２０上のゲート絶縁膜３０と、ゲート電極２０およびゲート絶縁膜３０上の酸化物半導体膜４０と、酸化物半導体膜４０上の金属酸化物膜６０と、金属酸化物膜６０上の金属膜７０と、を有する構造とする。 - 特許庁

An electrostatic induction-type conversion element 100 includes an electret 10 having a substrate 11 made of insulating materials, a plurality of grid connection electrodes 12, a plurality of base electrodes 13, and an insulating material layer 14; a movable part 20 disposed facing the electret 10; and a resistor 30 in connection with the electret 10 and the movable part 20.例文帳に追加

静電誘導型変換素子１００は、絶縁材料からなる基板１１と、複数のグリッド接続用電極１２と、複数のベース電極１３と、絶縁材料層１４とを有しているエレクトレット１０と、エレクトレット１０に対向して配設されている可動部２０と、エレクトレット１０と可動部２０とに接続されている抵抗３０とを備えている。 - 特許庁

The apparatus exhibits alignment regulating force by disposing a wire grid polarizer 7 having a plurality of metal film slits 7a in an irradiation window 6 of a UV lamp box 1 that houses a plurality of UV lamps 2 composed of 172-nm excimer UV lamps employing a long-arc system, and by irradiating a substrate 5 to be exposed as an alignment layer, with polarized UV rays.例文帳に追加

ロングアーク方式の１７２ｎｍエキシマＵＶランプによるＵＶランプ２を複数本収容したＵＶランプボックス１の照射窓６に、金属膜スリット７ａを複数有するワイヤグリッド偏光子７を設置して、配向膜としての被露光基板５に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。 - 特許庁

The cubic effect forming exterior material includes a resin layer (140) formed on a substrate and having an uneven pattern and a metal film (150) and an opaque film (160) which are formed on a protrusion part or a recessed part in this order, wherein a light transmission part transmitting light is formed on the protrusion part or the recessed part.例文帳に追加

基板上に形成され、凹凸パターンを有する樹脂層（１４０）と、前記凹凸パターンの突出部または凹入部に順に形成される金属膜（１５０）及び不透明膜（１６０）と、を含み、前記突出部または凹入部には光が透過する光透過部が形成されることを特徴とする立体感形成外装材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

On a first active region 10a of a semiconductor substrate 10, a first transistor of a first conductivity type is formed which includes a first gate insulating layer 13a containing the high dielectric material and a first metal, a lower conductive film 15a, and a first gate electrode 30a which has a first conductive film 18a and a first silicon film 19a.例文帳に追加

半導体基板１０の第１の活性領域１０ａ上には、高誘電体材料と第１の金属とを含有する第１のゲート絶縁膜１３ａと、下層導電膜１５ａと第１の導電膜１８ａと第１のシリコン膜１９ａとを有する第１のゲート電極３０ａとを備えた第１導電型の第１のトランジスタが形成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing an organic EL light-emitting device includes a step of forming the common electrode, after forming a disconnection-proof structure which contacts with a part of the functional layer except a substrate, the bank, and a pixel electrode and strides across the pixel region along rows or columns, by injecting the liquid material into the pixel region surrounded by the bank.例文帳に追加

バンクで囲まれた画素領域に、液状材料を吐出することにより、基板、バンク及び、画素電極上を除く機能層の一部に接しており、かつ行方向又は列方向に沿って前記画素領域を跨る断線防止構造を形成した後、共通電極を形成することを特徴とする有機ＥＬ発光装置の製造方法。 - 特許庁

An epitaxial wafer 1 has an epitaxial layer 20 having a phosphorus concentration of a 10^16 atoms/cm^3 order and a film thickness of 0.5-20 μm on a silicon substrate 10 having a phosphorus concentration of a 10^19 atoms/cm^3 order and an oxygen concentration of 1.3×10^18 atoms/cm^3 or lower.例文帳に追加

本発明に係わるエピタキシャルウェーハ１は、リン濃度が１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーであり、酸素濃度が１．３×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であるシリコン基板１０上に、リン濃度が１０^１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーで、膜厚が０．５〜２０μｍのエピタキシャル層２０を有することを特徴とする。 - 特許庁

The nonuniform reflecting layer has a shape for reflecting an incident emitted light that is not captured by one photosensitive region at first to return it to the photosensitive area, whereas which does not reflect the incident emitted light that is not captured by the one photosensitive region, at first, to other photosensitive region provided adjacent to the one photosensitive region on the substrate.例文帳に追加

非平坦状の反射層は、感光領域により最初に捕獲されなかった入射放射光を反射して前記感光領域に戻し、一方１つの感光領域により最初に捕獲されなかった入射放射光を、上記１つの感光領域に隣接して基板に設けられている他の感光領域へ反射しないような形状を有する。 - 特許庁

In the perpendicular magnetic recording medium including at least the underlayer and the magnetic recording layer sequentially laminated on a nonmagnetic substrate, the underlayer is composed of crystal grains and an amorphous grain boundary and the crystal grain has a shape holding a relation (an area of a bottom region at an initial stage of growth)>(an area of a top region).例文帳に追加

非磁性基体上に少なくとも下地層および磁気記録層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体であって、前記下地層は結晶粒子と非晶質結晶粒界とからなり、該結晶粒子が、（成長初期の底面積）＞（上部の面積）である形状を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 特許庁

The diffusion agent composition used for forming an impurity diffusion layer into a semiconductor substrate contains: an impurity diffusion composition (A); a silicon compound (B); and a solvent (C) containing a solvent (C1) having a boiling point of 100°C or less, a solvent (C2) having a boiling point of 120-180°C and a solvent (C3) having a boiling point of 240-300°C.例文帳に追加

拡散剤組成物は、半導体基板への不純物拡散剤層の形成に用いられる拡散剤組成物であって、不純物拡散成分（Ａ）と、ケイ素化合物（Ｂ）と、沸点が１００℃以下である溶剤（Ｃ１）、沸点が１２０〜１８０℃である溶剤（Ｃ２）、および沸点が２４０〜３００℃である溶剤（Ｃ３）を含む溶剤（Ｃ）と、を含有する。 - 特許庁

The method for depositing thin films of metal oxides on a substrate in a reaction vessel of an atomic layer vapor deposition apparatus using plasma includes a step of supplying raw metal compounds into the reaction vessel, a step of supplying gaseous oxygen into the reaction vessel, and a step of generating oxygen plasma in the reaction vessel during the predetermined time.例文帳に追加

プラズマを用いる原子層蒸着装置の反応器内において基板上に金属酸化物膜を形成する方法であって、反応器内に金属原料化合物を供給する段階と、反応器内に酸素ガスを供給する段階と、反応器内に所定時間中に酸素プラズマを生じさせる段階と、を含む金属酸化物膜の形成方法。 - 特許庁

The purpose can be attained by forming a conductive surface nitride layer of hexagonal GaN system crystal using a GaP substrate so that thermal stability can be attained even at a temperature (1000°C or above) required for epitaxial growth of GaN and hexagonal GaN required for high efficiency element can be fabricated.例文帳に追加

ＧａＮを気相成長させるのに必要な温度（１０００℃以上）でも熱的安定性が獲得でき、また、高効率素子を作製するために六方晶のＧａＮが成長できるようにＧａＰ基板を用いて表面が六方晶ＧａＮ系結晶でなり、導電性を有する表面窒化層を形成することにより上記課題が解決できる。 - 特許庁

In the photoelectric conversion element having a structure wherein an electrolyte layer 7 made from electrolyte is filled up between a porous photoelectrode 3 and a counter electrode 6 formed on a transparent substrate 1, an ionic liquid having a functional group of electron pair receptiveness and an organic solvent having a functional group of electron pair supply nature are used as a solvent of the electrolyte.例文帳に追加

透明基板１上に形成された多孔質光電極３と対極６との間に電解液からなる電解質層７が充填された構造を有する光電変換素子において、電解液の溶媒として、電子対受容性の官能基を有するイオン液体と電子対供与性の官能基を有する有機溶媒とを含むものを用いる。 - 特許庁

There are provided a touch screen which includes: a first transparent electrode formed in a transparent substrate; a second transparent electrode formed in a transparent film; and a transparent adhesive layer positioned between the first transparent electrode and the second transparent electrode, and formed of a transparent adhesive containing conductive balls, and a method for continuously manufacturing the touch screen.例文帳に追加

透明基板に形成された第１透明電極、透明フィルムに形成された第２透明電極、および前記第１透明電極と第２透明電極との間に位置する、導電性ボールの含まれる透明接着剤で形成された透明接着層を含んでなるタッチスクリーン、およびその連続式製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of producing a multilayer coating film which has a step for multilayering a plurality of the aqueous coating liquids beforehand and transferring the multilayered aqueous coating liquid to a substrate, the following water-containing organic solvent is inserted between two kinds of aqueous coating liquids to be layered as an intermediate layer, thereby forming a multilayer.例文帳に追加

複数の水系塗工液をあらかじめ多層化し、多層化した水系塗工液を基材上に転移させる工程を有する多層塗工膜の製造方法において、積層しようとする２種の水系塗工液間に、下記の含水有機溶剤を中間層として挿入することにより、多層化することを特徴とする、多層塗工膜の製造方法。 - 特許庁

The optical image intensity distribution formed on a resist disposed on the side of a lower layer of a diffraction pattern by performing whole image exposure from the side of an upper surface of the diffraction pattern formed by lines L and spaces S on a substrate at a predetermined pattern pitch is calculated by using a multi-mode waveguide path analytic model or fractional Fourier transform for the diffraction pattern.例文帳に追加

ラインＬとスペースＳによって所定のパターンピッチで基板上に形成された回折パターンの上面側から全面露光を行なうことによって回折パターンの下層側に配置されたレジストに形成される光学像強度分布を、回折パターンに対してマルチモード導波路解析モデル又はフラクショナルフーリエ変換を用いることにより算出する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device nearly free from occurrence of distortion of a substrate of a liquid crystal panel in the vicinity of a boundary between adjacent display regions without increasing the number of manufacturing steps of a columnar spacer and capable of obtaining desired optical characteristics, in the liquid crystal display device wherein a plurality of display regions having liquid crystal layer thicknesses different from each other are independently disposed.例文帳に追加

液晶層厚が異なる複数の表示領域が独立して配置された液晶表示装置において、柱状スペーサの製造工程数を増やすことなく、隣接する表示領域の境界近傍で、液晶パネルの基板の歪みの発生が少なく、所望の光学特性が得られる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A phosphor having the lowest E/L ratio of the luminance (L) to the luminous efficiency (E) of each phosphor for obtaining a target chromaticity of white by using a plurality of phosphors which emit different colors on the light-emitting substrate is selected, and the light reflectance of the portion of the metal back layer formed on the phosphor is set to be higher than the portion formed on the other phosphors.例文帳に追加

発光基板上の異なる色を発光する複数の蛍光体から目的とする白白の色度を得る際の輝度（Ｌ）と、各蛍光体の発光効率（Ｅ）の比（Ｅ／Ｌ比）が最も低い蛍光体を選択して、その上に設けられたメタルバック層の部分の光反射率をその他の蛍光体上に設けられた部分より高くする。 - 特許庁

In the multi-exposure method for at least one substrate which is covered with a light sensitive layer, a first exposure is carried out in a first projection system (17) corresponding to an exposure parameter of a first group, and a second exposure is carried out in a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17) using an exposure parameter of a second group.例文帳に追加

感光層により被覆される少なくとも１個の基板の多重露光方法において、第１の露光は、第１組の露光パラメータにしたがって第１の投影系（１７）において行なわれ、第２の露光は、第２組の露光パラメータを用いて、前記第１の投影系（１７）から空間的に分離される第２の投影系（１８）において行なわれる。 - 特許庁

In addition, a third insulator film 11 that is thinner and stable is formed as a result of thermal oxidation of a surface of the light receiving portion 5, a p-type impurity ion is injected in a surface portion of the light receiving portion 5 of an n-type semiconductor substrate 1 through this third insulator film 11 that is thin and stable, and a high-concentration surface p+ layer is formed.例文帳に追加

さらに、受光部５の表面を熱酸化して膜厚が薄く安定した第３の絶縁膜１１を成膜し、この膜厚が薄く安定した第３の絶縁膜１１を通してｎ型半導体基板１の受光部５の表面部にｐ型不純物イオンの注入が為されて高濃度表面ｐ＋層を形成する。 - 特許庁

By employing a fluoride (one of CaF_2, BaF_2 and MgF_2) as a buffer layer on a diamond single-crystal substrate or an epitaxial thin film, an excellent ferroelectric PZT thin film having remnant polarization charge (68 μC/cm^2) twice as much as that of a conventional one while keeping a coercive electric field at the same value (33 kV/cm) is provided.例文帳に追加

ダイヤモンド単結晶基板またはエピタキシャル薄膜上にフッ化物（ＣａＦ_２、ＢａＦ_２、ＭｇＦ_２の内一つ）を緩衝層として用いることにより、抗電界を同じ大きさ（３３ｋＶ／ｃｍ）に保ちながら、従来の２倍の残留分極電荷（６８μＣ／ｃｍ^２）を持つ優れた強誘電性のＰＺＴ薄膜を提供する。 - 特許庁

A tempered glass substrate having a compression stress layer on the surface thereof, has a glass composition comprising, by mass%, 40 to 71% SiO_2, 3 to 21% Al_2O_3, 0 to 3.5% Li_2O, 10 to 20% Na_2O, and 0 to 15% K_2O and has 15 to 200 MPa inner tensile stress.例文帳に追加

本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、内部の引っ張り応力が１５〜２００ＭＰａであることを特徴とする。 - 特許庁