「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD, DEVICE AND TOOL FOR PROCESSING SURFACE OF NON- FRAGILE MATERIAL WORK IN MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

光学要素の製造において非脆弱性の材料の工作物を表面加工するための方法及び装置並びにそのためのツール - 特許庁

A silicon nitriding oxide film 2b constituting a tunnel insulating film 2 is formed by processing a surface of silicon nitriding oxide film 2a in radical nitriding.例文帳に追加

トンネル絶縁膜２を構成するシリコン窒化酸化膜２ｂを、シリコン酸化膜２ａの表面をラジカル窒化することにより形成する。 - 特許庁

A first registration mode or a second registration mode is selected when registering a sheet P on a loading surface 24a of the processing tray 24.例文帳に追加

処理トレイ２４の積載面２４ａ上のシートＰを整合する際に第１の整合モードか第２の整合モードかが選択される。 - 特許庁

The cloth 4 is fixed to the base member by using the adhesive material or the like, transparent resin is coated on it and a surface processing is executed.例文帳に追加

この布地４を接着剤等を用いて台部材に固着し、その上を透明樹脂でコーティングし、表面処理を施している。 - 特許庁

To shorten processing time while stably realizing high in-plane uniformity of film thickness when a coating film is formed on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面に塗布膜を形成するにあたり、安定的に高い膜厚の面内均一性を得つつ、処理時間を短くすること。 - 特許庁

To enhance processing efficiency by a core drill and to make chippings generated on a rear surface side of a glass substrate small.例文帳に追加

本発明は、コアドリルによる加工効率を高めると共に、ガラス素基板の裏面側に発生するチッピングを小さくすることを課題とする。 - 特許庁

Thus, the liquid at the surface of the laminate to be processed is kept in a uniformly renewed state to permit etching processing of polyimide with high accuracy.例文帳に追加

これらにより、積層体加工面の液更新状態の均一化を図られ、高精度にてポリイミドエッチング加工を行うことが出来る。 - 特許庁

Vanishing processing is given to the surface of the valve seat by the same shaped member with the same size as the hemisphere section of the valve body.例文帳に追加

また前記弁座の着座面に前記弁体の半球形状部と同じ寸法で同形状の部材にてバニシング加工を施す。 - 特許庁

To provide a substrate processing method which minimizes charge-up damage on the substrate surface and facilitates high speed ashing of resist.例文帳に追加

基板表面のチャージアップダメージを抑制し、かつ、より高速度でレジストをアッシングすることが容易となる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To easily form a predetermined mold pattern to the surface of a member for a mold with high precision without requiring much processing time.例文帳に追加

多大な加工時間を要することなく、所定の成型パターンを金型用部材の表面に対して高い精度で容易に形成する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which is structured such that the inside surface of a discharge tube is effectively protected from plasma generated in the discharge tube.例文帳に追加

放電管に生成したプラズマから放電管の内壁が効果的に保護されるようにしたプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing method that can fast and evenly process a single crystal AlN substrate without causing damage to its surface.例文帳に追加

単結晶ＡｌＮ基板を表面にダメージを与えることなく高速かつ均一に加工可能なプラズマ加工方法を提供する。 - 特許庁

A surface imaging unit 10a and a backside imaging unit 10b are provided to read both faces of an original with one-time scanning processing.例文帳に追加

原稿の両面を１回のスキャン処理にて読み取るように、表面撮像ユニット１０ａと裏面撮像ユニット１０ｂとを設ける。 - 特許庁

Then, the flaw part of the processing surface is detected corresponding to the result and the size of the flaw part can be accurately detected.例文帳に追加

そして、その結果に応じて上記加工面の欠陥部を検出し、その欠陥部のサイズ等を正確に検出できるようにした。 - 特許庁

Based on the image obtained by the optical image pickup machine 11, the surface state of the Mg-based cast material 100 is inspected by an image processing-inspection unit 12.例文帳に追加

光学撮像機11により得られた像に基づいて画像処理検査部12により、Mg基鋳造材100の表面状態を検査する。 - 特許庁

The processing unit 4 detects an irregular flaw of the surface B to be inspected using an image photographed by the imaging unit 3.例文帳に追加

処理装置４は、撮像装置３で撮像された撮像画像を用いて被検査面Ｂの凹凸に関する欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a method capable of processing a surface of alloy by a simple process without discharging a substance which affects the environment.例文帳に追加

環境に影響のある物質を排出することなく、簡易な工程で合金の表面を加工可能な方法を提供すること。 - 特許庁

A suction base 10 is elevated and lowered by an elevation motor among a processing position, a lower surface rinse position, and a taking position.例文帳に追加

吸着ベース１０は昇降モータによって、処理位置と、下面リンス位置と、取合位置との間で昇降されるようになっている。 - 特許庁

A groove pattern 12 corresponding to a conductor pattern is formed on the surface 10A of an insulating board 10 by laser processing.例文帳に追加

絶縁性基板１０の基板面１０Ａ上に導体パターンに対応するパターン形状の溝条１２をレーザ加工等により形成する。 - 特許庁

After the joining step, a coating film for processing is applied over at least the weld member 54 on a surface 50a on one side of the base 50.例文帳に追加

接合工程の後、基材５０の一方面５０ａ側における少なくとも溶着部材５４上に加工用塗布膜を塗布する。 - 特許庁

A rubbing apparatus includes a stage 6 on which a substrate 5 can be placed and a rubbing roller 3 which performs rubbing processing on a surface of the substrate 5.例文帳に追加

基板５を載置可能なステージ６と、基板５の表面に対してラビング処理を行うラビングローラ３とを備えたラビング装置に係る。 - 特許庁

To provide a low-cost roller equipped with a raceway surface having a circular arc section allowing simple processing and with its outside diameter measurable accurately.例文帳に追加

加工が簡単でしかも外径を高精度に測定できる断面円弧状の転動面を備えた転動体を安価に提供する。 - 特許庁

To provide a power transmission shaft which reduces the cost of surface processing for decreasing occurrences of stick-slip.例文帳に追加

スティックスリップの発生を低減するために施される表面処理のコストを低減できるようにした動力伝達シャフトを提供する。 - 特許庁

To maintain a fitting face accuracy nearby a censoring flange part good and eliminate the need for a machining work when censoring C surface processing is performed.例文帳に追加

センサリングのフランジ部付近の嵌合面精度を良好に保つと共に、センサリングのＣ面加工に際し機械加工を不要とする。 - 特許庁

Further, dicing processing is performed from the surface of the wafer 1 , and the device structure 6 separated to individual tips 8 leaving the rib 2.例文帳に追加

また、ウェハ１のおもて面からダイシング処理がおこなわれ、リブ２を残したまま、素子構造６が個々のチップ８に区切られている。 - 特許庁

To effectively eliminate deposits even at a narrow place without damaging an exposure surface in a processing chamber by plasma.例文帳に追加

処理チャンバー内の露出面をプラズマで損傷することなく狭い場所でも効果的に堆積物を除去することができるようにする。 - 特許庁

In a third processing step, a part of the photoresist layer 9 is removed by development such that an initial surface pattern having sacrificial layer regions 25 is obtained.例文帳に追加

第３処理ステップにて、フォトレジスト層９の一部を現像除去し、犠牲層領域２５を有する初期表面パターンを得る。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for processing a substrate capable of efficiently and uniformly performing surface treatment of a plurality of substrates.例文帳に追加

複数枚の基板の表面処理を効率よく均一に行うことができる基板処理法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a fabrication method of a semiconductor element capable of processing a shape of different etching depth easily in the same wafer surface.例文帳に追加

同一ウエハ面内でエッチング深さが異なる形状を容易に加工することができる半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁

SURFACE PROCESSING METHOD OF WIRING BOARD, WIRING BOARD, CIRCUIT BOARD FOR MOUNTING ELECTRONIC COMPONENTS, AND PRECIPITATION TYPE SOLDER COMPOSITION FOR FORMATION OF SOLDER LEVELER例文帳に追加

配線基板の表面処理方法、配線基板、電子部品実装配線基板およびはんだレベラー形成用析出型はんだ組成物 - 特許庁

This surface processing device 1 is provided with means 4, 5a, 5b and 6 which form protective films on the edge surfaces of the liquid crystal display panels 16a-16c.例文帳に追加

面処理装置１は、液晶表示パネル１６ａ〜１６ｃの端面上に保護膜を形成する手段４、５ａ、５ｂ、６を備える。 - 特許庁

To provide a mobile computing system capable of effectively processing transmission data transmitted in a public space such as a wall surface of a building or a station.例文帳に追加

ビルの壁面や駅など公共のスペースで発信される発信データを有効に処理できるモバイルコンピューティングシステムなどを提供する。 - 特許庁

This flowerpot is prepared to have the commemorative label fitted with a memorial name, on the side surface by printing, relief, plate processing, or the like.例文帳に追加

植木鉢の側面に、印刷、浮き彫り、プレート加工などで記念名を設けたことを特徴とする記念の表示欄付き植木鉢。 - 特許庁

A surface processing of a semiconductor film is performed prior to the second irradiation, and after the oxide film is eliminated, the irradiation is made in vacuum.例文帳に追加

２回目の照射の前には半導体膜の表面処理を行い酸化膜除去をした後、照射を真空中にて行う。 - 特許庁

To provide a method for processing an insulating sheet to fit it to the surface shape of a heat sink without generating notches and scraps of the insulating sheet.例文帳に追加

絶縁シートの欠けや切り屑の発生なしに、ヒートシンクの表面形状に合わせて絶縁シートを加工する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heating device capable of performing the heating processing of a printing plate without forming a stripe or the like on the surface of the printing plate.例文帳に追加

印刷版表面にスジ等を形成することなく印刷版の加熱処理を行うことができる加熱装置を提供する。 - 特許庁

To execute a prescribed processing simply by inputting characters or character strings on a pad surface of a touch pad 5 by handwriting.例文帳に追加

本発明は、タッチパッド５のパッド面上で文字又は文字列を手書き入力するだけで所定の処理を実行できるようにする。 - 特許庁

This gas compressor is formed as a structure that the inner periphery of the cylinder 4 of a cylinder elliptic short diameter part 4a is composed of a surface refining layer 400 by nitrosulphurizing processing.例文帳に追加

シリンダ楕円短径部４ａのシリンダ４内周が浸硫窒化処理による表面改質層４００からなる構造とする。 - 特許庁

A showerhead 10A for introducing material gas into the chamber 1 is provided in a surface wave exiting plasma processing device 100.例文帳に追加

表面波励起プラズマ処理装置１００には、チャンバ１内へ材料ガスを導入するためのシャワーヘッド１０Ａが設けられている。 - 特許庁

To provide a ZnO-based substrate having a good quality surface suitable for crystal growth and to provide a processing method of a ZnO-based substrate.例文帳に追加

結晶成長に適した品質の良い表面を有するＺｎＯ系基板及びＺｎＯ系基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

To make a stage lightweight, processing costs low by reduction of necessary precision area of a guide surface, and the total weight of a positioning device small.例文帳に追加

ステージの軽量化、ガイド面の必要精度面積の緩和による加工コストの低減、位置決め装置全体重量の軽量化。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of etching a surface of a base by using plasma without causing discharge breakdown on the base.例文帳に追加

基板に、放電破壊を起すことなくプラズマを用いて基板表面のエッチングを行うことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Image information (57) relating to the original shape prior to processing of the perishable foods is displayed on the display surface of the information including the prices.例文帳に追加

価格を含む情報の表示面には、生鮮食品の加工前の原形状に関する画像情報（５７）が表示されている。 - 特許庁

Through the processing of this rewrite surface process part 1008, they are written to the medium number part and directory information part on the FD each time the recording contents of the FD are updated.例文帳に追加

そして、ＦＤに記録された媒体番号とディレクトリ情報とをＦＤのリライト面に夫々別々に可視的に記録する。 - 特許庁

To obtain a plasma processing apparatus which processes the surface of a sample with a plasma, where a pattern of a high aspect ratio can be processed at a high speed.例文帳に追加

プラズマを利用し、試料の表面処理を行なうプラズマ処理装置において、高アスペクト比のパターンを高速度で処理する。 - 特許庁