「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

Disclosed is the reinforcing plate for the organic EL display, the reinforcing plate having high surface heat conductivity and accumulating no heat inside and also having a peripheral portion formed by carrying out folding-back processing twice or more as bending processing.例文帳に追加

有機ELディスプレイ用補強板であって、表面の熱伝達率が高く、内部に熱を蓄積しない、かつ折り曲げ加工を折り返し加工により2回以上施された周辺部を有する。 - 特許庁

The image of the convex surface picked up by the image pickup apparatus 48 is subjected to image processing by an image processing device 49 whereby the geometrical center of the lens A and the position of its eye point, etc., are calculated.例文帳に追加

撮像装置４８によって撮像された凸面側表面の画像を画像処理装置４９によって画像処理することにより、被検レンズＡの幾何学中心、アイポイントの位置等を算出する。 - 特許庁

To reduce a waste material produced during lamination processing and to prevent a lamination film from sticking on the surface of a transportation roller and rolling-in during the lamination processing.例文帳に追加

ラミネート加工を行うことで発生する廃棄材料を少なくすることと、ラミネート加工中にラミネートフィルムが搬送用ローラーの表面に貼りついて巻き込んでしまったりすることを防ぐことを課題とする。 - 特許庁

The parking lock sleeve is shaped by bending (prebending and die drawing bending) the metal plate by a press machine, and after that, finish processing (shoulder shaving shaping and surface processing) is performed by the press machine.例文帳に追加

このパーキングロックスリーブは、金属板材をプレス機により曲げ加工（予備曲げ、成形絞り曲げ）し、その後、プレス機により仕上げ加工（肩部削ぎため成形、表面加工）することにより成形される。 - 特許庁

Then, a conductive film 51 is formed on almost entire region of the upper surface of the piezoelectric layer 42 (conductive film forming step) followed by cutting out a common electrode 44 from the conductive film 51 by laser processing (laser processing step).例文帳に追加

次に、圧電層４２の上面のほぼ全域に導電膜５１を形成し（導電膜形成工程）、続いて、レーザ加工により、導電膜５１から共通電極４４を切り出す（レーザ加工工程）。 - 特許庁

An operation sheet is formed with a plurality of processing instruction areas including at least a processing instruction area corresponding to a reproduction control function on a display surface on which the coded pattern indicating position coordinates are formed.例文帳に追加

操作シートは、位置座標を示すコード化パターンが形成された表示面に、少なくとも再生制御機能に対応する処理指示エリアを含む複数の処理指示エリアが形成されている。 - 特許庁

In this processing device 1, a specimen S is processed with a processing liquid R supplied to (existing on) the attached surface P1 of a plate-shaped support P where the specimen S is attached.例文帳に追加

本発明の処理装置は、被処理物Ｓを付着させた板状の支持体Ｐの付着面上Ｐ１に供給された（存在する）処理液Ｒによって、被処理物Ｓを処理する処理装置１である。 - 特許庁

The operation state display method of the processing machine is characterized by installing a planar illumination device for displaying a predetermined color according to an operation state on a cover surface covering the periphery of the processing machine.例文帳に追加

加工機の周囲を覆うカバー面に運転状態により、予め定められた色を表示する平面状の照明装置を設けたことを特徴とする加工機の運転状態表示方法とした。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of effectively removing surface roughness generated on a peripheral edge of a substrate and a film which adheres to the peripheral edge of the substrate and causes contamination and its substrate processing method.例文帳に追加

基板周縁部等に発生する表面荒れや基板周縁部等に付着し汚染源となる膜を効果的に除去することができる基板処理装置及びその基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To realize a bonding pad arrangement method that efficiently performs design processing using an arithmetic processing unit to arrange signal pads and ring pads in a balanced way on a substrate surface of a semiconductor package.例文帳に追加

シグナルパッドおよびリングパッドを半導体パッケージの基板面上において偏りのないように配置する設計処理を演算処理装置により効率的に実行するボンディングパッド配置方法を実現する。 - 特許庁

The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, and a part or all of one or both sides composing the outer surface of this glass substrate are processed at a processing rate of 0.5-10 μm/min.例文帳に追加

化学加工液中にガラス基板を浸漬し、このガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を０．５〜１０μｍ／分の加工速度で加工する。 - 特許庁

A sheet 30 with the scribed circle drawn thereon with ink is put on a processing object material 10 having a curved surface, and a solution 20 capable of dissolving the ink is supplied between the sheet 30 and the processing object material 10.例文帳に追加

スクライブドサークルをインクで描画したシート３０を、表面が曲面状の被加工材１０に被せ、前記シート３０と前記被加工材１０の間に前記インクを溶かす溶液２０を供給する。 - 特許庁

The stabilization processing liquid (STB) is sent in the cylindrical member 54 and then supplied to a photosensitive surface of a photographic paper P in contact with the roller 53 to carry on stabilization processing.例文帳に追加

筒状部材５４の内部に安定処理液（ＳＴＢ）を送り込むことにより、このローラ５３に接触する印画紙Ｐの感光面に安定処理液（ＳＴＢ）を供給して、安定処理を継続させる。 - 特許庁

This inspection device 100 is equipped with an imaging device 1 for imaging the printed matter P surface and an image processing device 2 for applying image processing to an imaged image by the imaging device 1.例文帳に追加

本発明に係る検査装置１００は、印刷物Ｐの表面を撮像する撮像装置１と、撮像装置１による撮像画像に画像処理を施す画像処理装置２とを備えている。 - 特許庁

To provide a moisture content measuring method suitable for measuring accurately the amount of moisture included in a resin film F under conveyance in a processing device applying a processing onto the surface of the resin film F.例文帳に追加

樹脂フィルムＦの表面に処理を施す処理装置内を搬送中の樹脂フィルムＦに含まれている水分の量を正確に測定するのに好適な水分量測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of performing prescribed plasma processing to each part of a surface to be treated in a workpiece, when a gap is formed at an area to the placement section in the backside of the workpiece.例文帳に追加

ワークの裏面側に載置部との間に隙間が形成されている場合において、ワークの被処理面の各部位に対して、所定のプラズマ処理を行うことのできるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

An image processing device 3 performs wavelet transformation, selects a scale parameter emphasizing periodic surface irregularity from an image decomposed into N frequency components, and removes it by mask processing.例文帳に追加

画像処理装置３は、ウェーブレット変換を行い、Ｎ数の周波数成分に分解された画像から周期的な表面凹凸を強調するスケールパラメータを選択し、マスク処理により除去する。 - 特許庁

A wafer W is carried in a plasma processing apparatus and the surface of a silicon layer 501 of the wafer W is subjected to plasma oxidation processing to form a silicon oxide film 503 having a film thickness T_1 on the silicon layer 501.例文帳に追加

ウエハＷをプラズマ処理装置に搬入し、ウエハＷのシリコン層５０１の表面をプラズマ酸化処理してシリコン層５０１の上に膜厚Ｔ_１で酸化珪素膜５０３を形成する。 - 特許庁

To provide an image processing method, along with an image processing apparatus, program and recording medium, capable of stabilizing inspection independently of the type of tire, the state of tire surface, and positional relationship of illumination.例文帳に追加

タイヤの種類、タイヤ表面の状態および照明の位置関係に依存することなく、検査の安定化を図ることができる画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁

An image of an end surface of an electric wire (A) held at a processing center is taken by a CCD camera 1, and image processing by an image processor 2 is performed and the quantities of vertical and transverse eccentricities of its core (a) are measured.例文帳に追加

加工中心に保持した電線Ａの端面をＣＣＤカメラ１で撮像し、画像処理装置２による画像処理を行って心線ａの上下、左右方向の偏心量を測定する。 - 特許庁

To provide a substrate processing equipment and a substrate processing method which can prevent a variation in feeding of a liquid to a substrate to be processed, and can process a whole surface of the substrate to be processed uniformly.例文帳に追加

被処理基板への液体の供給むらを防止して、被処理基板の表面を全面に亘って均一に処理することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which prevents spreading of chemical atmosphere that may occur during chemical processing and efficiently processes a pattern formation surface of a substrate with a heated fluid while heating the substrate.例文帳に追加

薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、基板を加熱しながら加熱流体により基板のパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, which are capable of nicely removing contamination from the peripheral rim part of a substrate without affecting to a device-forming region on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面のデバイス形成領域に影響を与えることなく、基板の周縁部から汚染を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To attain uniform intra-surface distribution of active seed and by-product gas which contribute to plasma process even in the conventional plasma processing apparatus in which evacuation is conducted only from the periphery of the processing object.例文帳に追加

従来のプラズマ処理装置では、被処理体周辺部からのみ排気を行っているため、プラズマ処理に寄与する活性種や副生成ガスの面内分布が必ずしも均一にはならない。 - 特許庁

Consequently, when the paper is the label surface, processing for restricting the appearance of a dot of a high-lightness color is applied to a pixel where a dot of a low-lightness color has already appeared, during halftone processing.例文帳に追加

その結果、用紙がレーベル面であれば、ハーフトーン処理時において、既に明度の低い色のドットが発生している画素については、明度の高い色のドットの発生を制限する処理を行う。 - 特許庁

To provide a compact recording medium processor for performing image processing to the surface of a recording medium while conveying the recording medium by shortening even a little processing time.例文帳に追加

記録媒体を搬送しながらその記録媒体表面に画像処理を施す記録媒体処理装置に関し、処理時間を少しでも短縮したコンパクトな記録媒体処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing liquid is supplied from the side upper part of the wafer W held by a spin chuck 1 to a predetermined processing liquid supply position on the upper surface of the wafer W at the same incident angle.例文帳に追加

スピンチャック１に保持されたウエハＷの斜め上方からウエハＷの上面の予め定める処理液供給位置に同じ入射角で処理液を供給できるようにされている。 - 特許庁

To provide a blank structure of ring members for bearings, which allows high precise cutting-processing by allowing the cutting objective surfaces after plastic-processing a stainless steel or a high carbon chromium steel to have uniform surface characteristics.例文帳に追加

ステンレス鋼および高炭素クロム鋼を塑性加工した後の切削対象面を均一な表面特性とし、高精度の切削加工を可能にするベアリング用リング部材のブランク構造を提供すること。 - 特許庁

To provide a mold clamping device sharply reduced in the number of processing processes, because a sawtooth tolerance becomes unnecessary and one saw tooth is only subjected to surface processing with high precision, and capable of achieving cost reduction.例文帳に追加

鋸歯ピッチ公差が不要となり、１つの鋸歯を高精度に面加工するだけで済むため、加工工数が大幅に低減され、コストダウンを図ることができる型締装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an emboss processing apparatus capable of certainly forming a pattern having an embossed shape on the surface of a base material and reducing the strain/stress remaining in the pattern, and an emboss processing method.例文帳に追加

基材表面に凹凸形状の絵柄を確実に形成することができ、かつこの絵柄にひずみ応力が残ることの少ないエンボス加工装置およびエンボス加工方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of an aluminum electrode foil for electrolytic capacitors, a cleaning process for cleaning an etching foil of each electrolytic capacitor by a cleaning liquid is performed, after an etching process for its aluminum foil and before an post-processing for forming a post-processing coating on the surface of its etching foil.例文帳に追加

アルミニウム箔に対するエッチング工程の後、エッチング箔表面に後処理皮膜を形成する後処理工程の前に、エッチング箔を洗浄液で洗浄する洗浄工程を行う。 - 特許庁

To provide a decorative sheet which can withstand the three- dimensional molding such as a lapping processing or vacuum forming processing to a three-dimensional shape of a base material and which is excellent in the surface physical properties such as a scratch resistance or the like.例文帳に追加

立体形状の基材へのラッピング加工や真空成形加工等の立体成形にも耐えることができ、しかも耐傷付き性等の表面物性にも優れた化粧シートを提供する。 - 特許庁

According to the present substrate processing method, when measuring a front surface profile before processing, a first feedforward computation is performed at first, and judgement is made as to a process chamber where a processed parameter value obtained thereby is within an allowable range (S140).例文帳に追加

処理前の表面プロファイルを測定したときに先ず第１回目のフィードフォワード計算を実行し，その結果得られた処理パラメータの値が許容範囲内となる処理室の判定を行う。 - 特許庁

To improve yield and reliability in substrate processing by inspecting the rear surface of a substrate and removing the one with a flaw in advance, during a process, or before/after processing of the substrate.例文帳に追加

基板の処理前、処理後等基板の処理過程で、基板裏面の検査を行って、傷があるものについては事前に除去等の処理を行い歩留りの向上、基板処理の信頼性を向上させる。 - 特許庁

A transistor 27, etc., of which a signal processing circuit is composed are formed in the upper surface layer part of the 1st silicon chip 15, and the electrical signals of the photodiodes DR and DL are processed by the signal processing circuit.例文帳に追加

第１のシリコンチップ１５における上面表層部に信号処理回路を構成するトランジスタ２７等が形成され、信号処理回路によりフォトダイオードＤR ，ＤL の電気信号が処理される。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for subjecting a small to large amount of powder to glow plasma processing at an atmospheric pressure uniformly to impart a useful functional group to a surface thereof.例文帳に追加

本発明は、少量から大量の粉体を均一に大気圧グロープラズマ処理して、その表面に有用な官能基を付与するプラズマ処理装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a processing method by which the microfabrication of a surface is carried out by a low energy, and to provide a polyacrylate processed product providing an optical device such as a diffraction grating and an optical waveguide by using the processing method.例文帳に追加

表面の微細加工が特に低エネルギーで行える加工方法と、この加工方法を用いて回折格子や光導波路等の光デバイスとすることができるポリアリレート成形体を提供する。 - 特許庁

In the method, a text structure including information on surface layer case and deep layer case is obtained with performances of a morpheme analysis, paragraph analysis, vocabulary processing, case frame processing, attribute adding, etc., to the natural text inputted by a user.例文帳に追加

ユーザから入力された自然文を形態素解析、文節解析、語彙処理、格フレーム処理、属性付与等を行って表層格、深層格の情報を含む文構造を取得する。 - 特許庁

To shorten a time necessary for the whole of erasing processing, while realizing the erasing processing which eliminates an unerased part of a thermal recording medium, even in the case of the thermal recording medium with a large surface area.例文帳に追加

表面積が大きい感熱記録媒体であっても、その感熱記録媒体に対して消去残りのない消去処理を実現しつつ、消去処理全体に要する時間を短縮することである。 - 特許庁

To correct surface inclination errors of an observation sample, in the installation of the sample on FIB processing sample stand, with high accuracy, in the manufacture of the sample for TEM for thinning a plate by the FIB processing.例文帳に追加

ＦＩＢ加工による薄板化を行うＴＥＭ用観察試料の作製において、ＦＩＢ加工試料台への試料設置における試料表面の傾斜誤差を精度高く補正する。 - 特許庁

To provide a function expansion device for an information processing apparatus that facilitates the operation of disconnecting and removing the information processing apparatus mounted on an upper surface.例文帳に追加

本発明は情報処理装置用機能拡張装置に係り、上面側に搭載されて実装された情報処理装置を切り離して離脱するときの操作性の向上を実現することを課題とする。 - 特許庁

To provide a top plate of desk or the like convenient not only for a business processing by a notebook-sized personal computer but also for a normal business processing or the like by securing a wide top surface in the case of housing the notebook-sized personal computer.例文帳に追加

ノート型パソコンによる事務処理はもとより、ノート型パソコンを収納した場合には、広い天面を確保できて通常の事務処理等に便利な机等の天板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for grinding in a vertical type double-disc surface grinding machine which efficiently feeds a grinding wheel for grinding in accordance with pre-processing precision in each workpiece even when there is large irregularity in pre-processing precision.例文帳に追加

前加工精度に大きなばらつきがあっても、各ワークの前加工精度に応じて、効率的に砥石を送り込み、研削できる竪型両頭平面研削盤の研削方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of surely and inexpensively preventing adhesion of foreign matter to an inside wall surface or the like of a chamber, and thereby capable of efficiently executing excellent plasma processing to a workpiece.例文帳に追加

チャンバーの内壁面等に異物が付着するのを確実かつ低コストで抑制し、これにより、ワークに対する良好なプラズマ処理を効率よく行い得るプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To make it possible to continue a correlation processing even when a probe or an object tissue moved in a direction orthogonal to a scan surface in the case of performing the correlation processing between frames in an ultrasonic diagnostic system.例文帳に追加

超音波診断装置において、フレーム間で相関処理を行う場合に、走査面と直交する方向にプローブ又は対象組織が運動しても相関処理をできるだけ継続できるようにする。 - 特許庁