「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

In the hydroxyl group developing step, a treatment for developing hydroxyl group is applied onto the surface of the nozzle plate base 11A.例文帳に追加

水酸基発現工程では、ノズルプレート基材１１Ａの表面に水酸基を発現させる処理が行われる。 - 特許庁

In a fifth processing step, energy is applied to the initial surface pattern in order to destabilize the sacrificial layer regions 25.例文帳に追加

第５処理ステップにて、犠牲層領域２５を不安定化させるため初期表面パターンにエネルギーを適用。 - 特許庁

To prevent the fracture of glass in a curing process step in a surface treatment method for the came portion of beveled glass.例文帳に追加

ベベルドガラスのケーム部分の表面処理方法において、硬化工程におけるガラスの破壊を防止すること。 - 特許庁

After heating, surface of a CNT is coated with a metal salt solution and a catalyst is supported (step 110).例文帳に追加

そして、加熱後に、ＣＮＴの表面に上記金属塩溶液を塗布等して触媒を担持させる（ステップ１１０）。 - 特許庁

A surface electrode 33 of the touch sensor 30 is fabricated simultaneously with a pixel electrode 6 using the same material and in the same step.例文帳に追加

タッチセンサ30の表面電極33を画素電極６と同じ材料で同一工程で同時に作製できる。 - 特許庁

The method further comprises the step of forming a III-V compound semiconductor growth layer having a finally flat surface (e).例文帳に追加

最終的に平坦な表面を有するＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体成長層を形成する（ｅ）。 - 特許庁

In step 104, flux of etching agent precursor gas is supplied to a partial portion of a substrate surface to be etched.例文帳に追加

ステップ１０４では、エッチングする基板表面の一部分に、エッチング剤前駆体ガスの流束を供給する。 - 特許庁

From the outer end 5a of the step 5 to the nozzle outlet 7, a diameter increases while the inside surface swells outward.例文帳に追加

ステップ部５の外側端５ａからノズル出口７側にかけて、その内面が外側に膨らみつつ拡径している。 - 特許庁

In the plating step, the chromium plating film 21 is formed on the surface of the base material 3 by chromium plating.例文帳に追加

めっき工程においては、基材３の表面にクロムめっきを施して、クロムめっき膜２１を形成する。 - 特許庁

To prevent resist pattern collapse due to a surface tension during drying rinse liquid in a step for developing a photomask substrate.例文帳に追加

フォトマスク基板の現像工程において、リンス液乾燥時の表面張力によるレジストパターン倒れを防止する。 - 特許庁

In the third step, the mask is used to etch the silicon oxide film and the main surface of a semiconductor thereunder.例文帳に追加

第３工程は、上記マスクを用いて上記酸化シリコン膜及びその下の半導体主面をエッチングする。 - 特許庁

The method includes a step for forming an SiGe alloy layer on a surface of a first single crystal Si layer.例文帳に追加

方法が、第１の単結晶Ｓｉ層の表面上にＳｉＧｅ合金層を形成するステップを含む。 - 特許庁

A sealing material 114 for preventing the intrusion of an etching solution is formed on the deposition surface of the thin film 112 (step S12).例文帳に追加

エッチング液の侵入を防ぐためのシール材１１４を薄膜１１２成膜面に形成する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

The method further includes a step of coating a resist 105 on a lower surface in Fig. of a silicon layer 101, and patterning this resist 105(B).例文帳に追加

次に、シリコン層１０１の図中下面にレジスト１０５を塗布し、このレジスト１０５にパターニングを行う（Ｂ）。 - 特許庁

Thus, a step in an axial direction is formed on a wall surface (3a) of an inner peripheral side of the resin filling part (213).例文帳に追加

これによって、樹脂充填部（213）における内周側の壁面（3a）に軸方向の段差が形成されている。 - 特許庁

The method includes a step of grinding the outer peripheral surface of the elastic layer by a rotary grinding wheel 10 moving along the roller longitudinal direction.例文帳に追加

弾性層の外周面を、ローラ長手方向に沿って移動する回転砥石１０により研磨する。 - 特許庁

A tip portion of the metal bump 16 is exposed if a surface portion is etched at the coating step.例文帳に追加

被膜の段階で、表面部分をエッチングしておくと、金属バンプ１６先端部分を露出させることができる。 - 特許庁

This method for etching a nitride silicon layer on the surface of a substrate includes a fist step S1 of exposing the substrate surface to a oxidizing solution, to form an oxide film on the surface of the nitride silicon layer and a second step S2 of exposing the substrate surface to a fluorine- containing solution for etching the oxide film.例文帳に追加

基板表面の窒化シリコン層をエッチングする方法であって、基板表面を酸化性溶液に晒すことによって、前記窒化シリコン層表面に酸化膜を形成する第１ステップＳ１と、基板表面をフッ素含有溶液に晒すことによって、酸化膜をエッチングする第２ステップＳ２とを行うことを特徴としている。 - 特許庁

In the solid-state image pickup element, a step is formed in the vicinity of a boundary between both parts that a front surface of a light receiving plane of the pixel part area is positioned lower than the upper surface of the multilayer wiring part area, and a sloped transparent resin layer whose surface protrudes downward is provided on a surface ranging from the step to the pixel part.例文帳に追加

固体撮像素子において、画素部領域の受光面表面が多層配線部領域の上面より低い位置となるように両部の境界付近に段差が形成され、段差から画素部にいたる表面上に、その表面が下に凸なスロープ状の透明樹脂層を設けた。 - 特許庁

The method of manufacturing the members having the antireflection function includes a step of spraying an etching solution to a surface of a substrate having a metallic layer on at least a surface thereof to form an etched layer on the surface of the substrate and a step of transferring a fine rugged structure of the etched layer formed on the substrate, to a surface of a resin material.例文帳に追加

少なくとも表面が金属層をなす基板の表面にエッチング液を吹き付けて該基板の表面にエッチング層を形成する工程と、該基板上に形成された該エッチング層の微細凹凸構造を樹脂材料の表面に転写する工程とを含む反射防止機能を有する部材の製造方法である。 - 特許庁

A protruded surface part 19 is formed on a step part surface 14d of an inner peripheral diameter enlargement step part 14b of the bearing member side annular member 14 in equal intervals to the peripheral direction while having a minute space between a diameter enlargement part inner peripheral surface 14c and it, and a reflux groove of the lubricating oil is formed around the protruded surface part 19.例文帳に追加

軸受部材側環状部材１４の内周拡径段部１４ｂの段部表面１４ｄには、拡径部内周面１４ｃとの間に微小隙間を残し、周方向に等間隔に凸面部１９が形成され、該凸面部１９の周囲には、潤滑油の還流溝が形成されている。 - 特許庁

A manufacturing method includes a Cu coating forming step of forming CU coating on the surface of a transparent resin film (1) by vapor deposition or sputtering; a coloring step of coloring the surface in black or brown, by performing treatment using a solution of ammonium sulfide after the Cu coating forming step; and a wiring forming step of forming wiring (2), according to screen printing or photoresist after the coloring step.例文帳に追加

蒸着法またはスパッタリング法により透明樹脂フィルム（１）の表面にＣｕ被膜を形成するＣｕ被膜形成工程と、該Ｃｕ被膜形成工程の後、硫化アンモニウムの水溶液で処理をすることにより、表面を黒色または褐色に着色させる着色工程と、該着色工程の後、スクリーン印刷法またはフォトレジスト法により配線（２）を形成する配線形成工程とを有する。 - 特許庁

This method includes the step of performing sand paper polishing the outer surface of an aircraft part by a mechanical sand paper polishing machine to remove most of defects, the step of removing the defects not removed in the sand paper polishing step or the other defects, which is an intermediate finishing step for one or plural times, and a step of polishing and finishing the surface which has been sand paper polished plural times by a finishing polisher.例文帳に追加

前記の方法は航空機部分の外面を機械的紙やすり磨き機械により紙やすり磨きを行い大部分の欠陥を除去する段階と、任意の一回あるいは複数回の中間仕上げ段階であって紙やすり磨き段階で除去出来なかった欠陥あるいはその他の欠陥を除去する段階と、仕上げ研磨機で複数回紙やすり磨きした面を仕上げ研磨する段階とを含む。 - 特許庁

When the illuminance of a display surface 10d is lower than a threshold SH (NO in step S3), and the state continues for a first time (for example, 3 seconds)(YES in step S4), the applied voltage is set at 0 V (step S5).例文帳に追加

表示面１０ｄの照度が閾値ＳＨよりも低いときであって（ステップＳ３でＮＯ）、その状態が第１の時間（例えば３秒間）継続したときには（ステップＳ４でＹＥＳ）、印加電圧を０Ｖに設定する（ステップＳ５）。 - 特許庁

In a boarding step structure of a working vehicle with a boarding step 18 made of a resin at a boarding operation part 7, the boarding step 18 is formed so that it has plurality of taper-shaped small projections 44 on its surface.例文帳に追加

搭乗運転部７に樹脂製の搭乗ステップ１８を敷設してある作業機の搭乗ステップ構造において、搭乗ステップ１８を、その表面に先細り状の複数の小突起４４を有するように形成した。 - 特許庁

In the substrate processing method, freezing processing (step S5), frozen film decompression and removal (step S6) and substrate dehydration (step S7) are executed on the substrate, only when the film thickness of a liquid film formed on the substrate surface is within a prescribed range.例文帳に追加

基板の表面に形成される液膜の膜厚が所定範囲内となっている場合のみ、その基板に対して凍結処理（ステップＳ５）、凍結膜の解凍除去（ステップＳ６）および基板乾燥（ステップＳ７）を実行している。 - 特許庁

The method for manufacturing a cell for a liquid crystal display device includes sticking a polarizing plate to the surface of a substrate for a liquid crystal cell, and the method includes a preparation step, a polarizing plate-sticking step and a polarizing plate-cutting step.例文帳に追加

この製造方法は、液晶セル用基板の表面に偏光板を貼り付けて液晶表示装置用セルを製造する方法であって、準備工程と、偏光板貼り付け工程と、偏光板切断工程と、を含む。 - 特許庁

In the wafer surface processing method involving chemical processing, the chemical processing is characterized by including a reaction controlling processing step, and a diffusion controlling processing step following the reaction controlling processing step.例文帳に追加

化学処理を伴うウェーハ表面処理方法であって、前記化学処理が、反応律速型処理工程と、該反応律速型処理工程に続く拡散律速型処理工程とを含むことを特徴とする、ウェーハ表面処理方法。 - 特許庁

This eliminates the need of a cleaning step, a drying step and a pressure reducing step necessary for roughening the surface, using sand blasting, a water solution of an oxidative acid or a plasma generated at a reduced pressure.例文帳に追加

サンドブラストや酸化性酸の水溶液により粗面化あるいは減圧下で生成させたプラズマを用いて粗面化する場合に必須であった洗浄工程や乾燥工程及び減圧にする工程を不要にすることができる。 - 特許庁

The contact projection part 12 is located below the engaging step section 23 in the case of capping, and brought in contact with the outer surface 23a of the engaging step section 23 when the engaging projection 11 reaches the engaging step section 23 in the case of uncapping.例文帳に追加

当接突起１２は、閉栓状態において係止段部２３より低い位置にあり、開栓過程において係止突起１１が係止段部２３に達した状態で係止段部２３の外面２３ａに当接する。 - 特許庁

An Ni-P coated film and an Au coated film are successively formed on a Cu electrode formed on the surface of a ceramic body through a pre-treatment step 11, an autocatalytic Ni plating step 12 and a displacement Au plating step 13.例文帳に追加

前処理工程１１、自己触媒Ｎｉめっき工程１２、及び置換Ａｕめっき工程１３により、セラミック素体の表面に形成されたＣｕ電極上にＮｉ−Ｐ皮膜及びＡｕ皮膜を順次形成する。 - 特許庁

Hereby, the catching step and the cleaning step can surely be carried out, and in parallel with the cleaning treatment, a particle recovery step of surely separating normally surface-oxidized particles from inadequate particles can be carried out.例文帳に追加

これによって捕獲工程および洗浄工程を確実に実施できるとともに、洗浄処理と並行して、不適格な粒子を正常な表面酸化粒子から確実に分離する粒子回収工程を実施することができる。 - 特許庁

In a surface light source, a step 42 of a reflector 10 is formed by shearing, so that the corner of the step 42 of the reflector 10 is sharply formed and the step 42 of the reflector 10 can be surely fitted in such a manner as to cover an edge 41 of a light guide plate 4.例文帳に追加

リフレクター１０の段部４２がせん断加工で形成されており、リフレクター１０の段部４２のコーナー部が鋭利に形成され、リフレクター１０の段部４２が導光板４のエッジ４１を覆うように確実に係合する。 - 特許庁

For example, a damping difference control decision flag Fgs for switching is set (step S23, step S24) based on the comparison result of a threshold X_μ for control propriety decision changing according to a road surface μ and the subtraction value (step S22).例文帳に追加

例えば、路面μに応じて変化する制御可否判定用しきい値Ｘ_μと前記減算値との比較結果（ステップＳ２２）に基づき前記切り換えのための制動差制御判断フラグＦｇｓを設定する（ステップＳ２３、ステップＳ２４）。 - 特許庁

Because the step light device 6 is equipped with a socket 16 fitted in the casing 10 so that the light permeation surface 10a is exposed, the casing 10 of the step light 9 is held sturdily, and the load sustaining performance of the step light 9 is enhanced.例文帳に追加

さらに、ステップライト装置６は、光透過面１０ａが露出するように筐体１０が嵌め込まれるソケット１６を備えているので、ステップライト９の筐体１０がしっかり保持され、ステップライト９の耐荷重性も向上する。 - 特許庁

Even when the ceramic green sheets 32 are laminated and pressed, a step S can be prevented from being formed on the main surface electrodes 7a to 10a due to the second step absorbing layers 17 to 20, and thus stress concentration caused by the step S can be avoided.例文帳に追加

第二段差吸収層１７〜２０により、セラミックグリーンシート３２を積層圧着したとしても、主面電極７ａ〜１０ａに段差Ｓが形成されることを防止でき、段差Ｓに起因する応力集中を回避できる。 - 特許庁

While, when the illuminance of the display surface 10d is higher than the threshold (YES in step S3), and the state continues for a second time (for example, 1 second)(YES in step S6), the applied voltage is set at Es (step S7).例文帳に追加

一方、表示面１０ｄの照度が閾値よりも高い値となり（ステップＳ３でＹＥＳ）、その状態が第２の時間（例えば１秒間）継続したときには（ステップＳ６でＹＥＳ）、印加電圧をＥｃに設定する（ステップＳ７）。 - 特許庁

In the manufacturing method of the pattern-plated film, a plating pretreatment step, a catalyst treatment step, and a plating step are successively executed to a liquid crystal polymer film, and a plating pattern is formed on a surface of the liquid crystal polymer film.例文帳に追加

本発明のパターンめっきされたフィルムの製造方法は、液晶ポリマーフィルムに対してめっき前処理工程、触媒処理工程およびめっき工程を順に行って液晶ポリマーフィルムの表面上にめっきパターンを形成する。 - 特許庁

(B) This is the step of transporting a molding precursor to a second heating step (C), and a conveyance step 2 in which each of the surface temperature and the center temperature of the molding precursor in-process satisfies the particular relationship.例文帳に追加

（Ｂ）成形品前駆体を第二の加熱工程（Ｃ）に搬送する工程であって、かかる工程中における成形品前駆体の表面温度および中心温度のそれぞれが、特定の関係を満たす搬送工程２。 - 特許庁

A surface oxide film layer inhibiting the nitriding reaction of the metallic material in the nitriding step can be effectively removed by the pretreatment step, and the progress of the nitriding reaction of the metallic material in the nitriding step can be performed without hindrance.例文帳に追加

つまり、前処理工程によって窒化工程における金属材の窒化反応を阻害する表面の酸化皮膜層が効果的に除去され、窒化工程における金属材の窒化反応の進行が障壁なく行われるものである。 - 特許庁

The production method of the medical material includes a step of preparing the amnion cleared of the sponge layer, a step in which a biocompatible polymer membrane is bonded on one surface of the amnion and undergoes the crosslinking connection processing, a step of making the epithelial stem cells adhere onto the other surface of the amnion and a step of making the epithelial cells breed on the surface of the amnion from the epithelial stem cells.例文帳に追加

スポンジ層を取り除かれた羊膜を調製するステップと前記羊膜の一方の表面に生体適合性高分子膜を貼り合わせて架橋結合処理するステップと前記羊膜の他方の表面に上皮幹細胞を付着させるステップと前記羊膜表面に前記上皮幹細胞から上皮細胞を増殖させるステップとを含む前記医療用材料の製造方法。 - 特許庁

The method for forming the organic film includes a pre-processing step which includes a plasma treatment step for carrying out plasma treatment to a surface of the base material 100, and an exposure processing step for exposing the surface of the base material 100 passed through the plasma treatment in an atmosphere which includes at least the water; and an organic film formation step for forming the organic film 110 by a silane coupling agent on the surface of the base material 100.例文帳に追加

基材１００の表面にプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、プラズマ処理した基材１００の表面を、少なくとも水を含む雰囲気下に暴露する暴露処理工程と、を含む前処理工程と、基材１００の表面上にシランカップリング剤により有機膜１１０を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする有機膜の形成方法である。 - 特許庁

The method includes: a heating step for heating a cavity surface of at least one die in a pair of dies having the cavity surface to form a cavity; a supplying step for supplying the thermoplastic resin by arranging a porous sheet in a position at least facing the die cavity surface heated in the heating step; and a cooling step for cooling the thermoplastic resin supplied.例文帳に追加

キャビティを形成するキャビティ面を有する一対の金型のうち、少なくとも片方の金型のキャビティ面を加熱手段により加熱する加熱工程と、少なくともこの加熱工程により加熱された前記金型のキャビティ面と対向する位置に、多孔性シートを配置して熱可塑性樹脂を供給する供給工程と、供給された前記熱可塑性樹脂を冷却する冷却工程と、を有する。 - 特許庁

The surface treatment method of the aluminum-based material comprises a degreasing step of degreasing a surface of a base material mainly consisting of aluminum, an oxide film forming step of forming an oxide film on the surface of the base material through hot water treatment, and a chemical conversion step of performing the chemical conversion on an upper layer of the oxide film by using a metallic salt.例文帳に追加

アルミニウムを主成分とする基材の表面を脱脂する脱脂工程と、基材の表面に熱水処理により酸化皮膜を形成する酸化皮膜形成工程と、前記酸化皮膜の上層に、金属塩を用いて化成処理を行う化成工程と、を有することを特徴とするアルミニウム系基材の表面処理方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a step of forming the first metal wiring 12 having the partial film thickness of the entire film thickness of the metal wiring, a step of forming an interlayer dielectric 14 covering the entire upper surface of an underlying insulating film 10 and the first metal wiring, and a step of then exposing the surface of the first metal wring while flattening the surface by cutting the first interlayer dielectric.例文帳に追加

下地絶縁膜１０の上に、メタル配線の全膜厚の一部の膜厚を有する第１メタル配線１２を形成し、下地絶縁膜および第１メタル配線の上全面を覆う第１層間絶縁膜１４を形成した後、第１層間絶縁膜を削ってその表面を平坦化しつつ、第１メタル配線の表面を露出する。 - 特許庁