「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for fixing the hydrophilic polymer on the hydrophobic surface by bonding the hydrophilic species to the hydrophilic polymer comprises a step for exposing the hydrophilic polymer to the hydrophilic species so as to bond the hydrophilic species on the hydrophilic polymer, a step for forming a hydrophobic surface and a step for fixing the hydrophilic polymer on the hydrophobic surface.例文帳に追加

親水性種を親水性高分子に結合させて、親水性高分子を疎水性表面に固定する方法であって、親水性高分子を親水性種にさらし、親水性種を親水性高分子に結合させるステップと、疎水性表面を設けるステップと、疎水性表面上に親水性高分子を固定するステップとを有する。 - 特許庁

The method includes a surface positioning step in which a transparent liquid droplet LW is ejected to at least one of the plurality of colored regions and surface positioning parts C21, C23-C25, and C27 are formed for adjusting surface positions of the plurality of colored parts formed in the colored-part forming step to flat before the colored-part forming step.例文帳に追加

有色部形成工程の前に、複数の有色領域の少なくとも一つに透光性液体の液滴ＬＷを吐出して、有色部形成工程で形成される複数の有色部の表面位置を面一に調整する表面位置調整部Ｃ２１、Ｃ２３〜Ｃ２５、Ｃ２７を形成する表面位置調整工程を含む。 - 特許庁

The step of forming the electrolyte layer has a step of controlling pH of moisture at a level of 6-8 by cleaning the electrolyte layer formation surface of the first electrode 20 at the time of existence of the moisture on an electrolyte layer formation surface, and a step of forming the electrolyte layer by applying the paste on the electrolyte layer formation surface.例文帳に追加

電解質層を形成する工程は、第１の電極２０の電解質層形成面を洗浄することにより、電解質層形成面に水分が存在した場合の当該水分のｐＨを６以上８以下にする工程と、電解質層形成面にペーストを塗布することにより、電解質層を形成する工程とを有している。 - 特許庁

A cavity processing method of a core substrate comprises: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by the circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from the one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

This method for producing a monomolecular film 530 patterned on a substrate includes a step for adjusting an organic molecule having a self-organizing characteristic, a step for applying the organic molecule to an alignment surface 310, a step for applying the alignment surface 310 to a target substrate 570, a step for separating the alignment surface, and a step for leaving a pattern wherein the organic molecule is orientated on the substrate 570.例文帳に追加

基板上にパターニングされた単分子膜５３０を作製する方法であって、自己組織化する特性を有する有機分子を調製するステップと、該有機分子をアライメント用表面３１０に適用するステップと、アライメント用表面３１０をターゲット基板５７０に適用するステップと、前記アライメント用表面を分離するステップと、前記基板５７０上に前記有機分子の配向されたパターンを残すステップとを含む、基板上にパターニングされた単分子膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁

A second terminal forming surface opposite to the first terminal forming surface is tilted to the irradiation surface of the target, and the second terminal forming surface is subjected to dry deposition by using the target with at least a periphery of the second terminal forming surface surrounded (step S107).例文帳に追加

そして、第１端子形成面と対向する第２端子形成面をターゲットの照射面に対して傾斜させるとともに、第２端子形成面の周囲を少なくとも囲んだ状態で、ターゲットを用いて第２端子形成面に乾式成膜する（ステップＳ１０７）。 - 特許庁

An inner-wall surface of the contact hole H3 includes a stepped surface H32 for composing a step D3 from the surface layer 294 outside the contact hole H3 while one portion in a face direction of the intermediate layers 291-293 or the surface layer 294 is held.例文帳に追加

コンタクトホールＨ３の内壁面は、中間層２９１〜２９３又は表層２９４の面方向の一部が保持されてなりコンタクトホールＨ３の外側の表層２９４上と段差Ｄ３を構成する段差面Ｈ３２を含む。 - 特許庁

A axial distance between an inner peripheral surface of an outer ring 4 and a step surface 16 of the outer peripheral surface on the hub body 2 is measured, in such a state that the first tapered rollers 5 and 5 and the hub body 2 are assembled on an outer end inner peripheral surface of the outer ring 4.例文帳に追加

外輪４の外端部内径側に第一円すいころ５、５とハブ本体２とを組み付けた状態で、この外輪４の内端面と、ハブ本体２外周面の段差面１６との軸方向距離を測定する。 - 特許庁

At the pressure wave propagating step, the pressure wave generated by discharging electricity on the surface of the electrode is made incident on the surface of the plate-shaped body and propagated from the front surface side of the plate-shaped body to the rear surface side.例文帳に追加

圧力波を伝播させる工程では、電極での放電により生じた圧力波を板状体の表面に入射させるとともに、板状体中において表面側から裏面側にその圧力波を伝播させる。 - 特許庁

In the chute, a step difference portion 71 is formed on the sliding surface with the rod-shaped articles sliding, in which the height thereof orthogonal to the sliding surface is smaller on an outlet side sliding surface than an inlet side sliding surface of the chute.例文帳に追加

シュートには、棒状物品が滑落する滑落面に、この滑落面に対して垂直な方向の高さが当該シュートの入口側滑落面よりも出口側滑落面が低くなっている段差部７１が形成されている - 特許庁

Further, a second step portion 32 is arranged on a boundary portion between a fourth bearing portion 24 in which an inner peripheral surface 24a has a non-porous surface 34 and a fifth bearing portion 25 in which an inner peripheral surface 25a has a porous surface.例文帳に追加

また、内周面２４ａが非多孔質状表面３４である第４軸受部２４と、内周面２５ａが多孔質状表面である第５軸受部２５との境界部には、第２段差部３２が設けられている。 - 特許庁

Mechanical polishing is carried out for the surface of the magnetic recording medium side of a structure including the substrate and the laminated part where the end surface of the laminated part including the end surface of the magneto-resistance effect element and the surface of the substrate appear (step S2).例文帳に追加

磁気抵抗効果素子の端面を含む前記積層部の端面と前記基体の面とが現れる、前記基体及び前記積層部を含む構造体の磁気記録媒体側の面を、機械的に研磨する（ステップＳ２）。 - 特許庁

The whole of the inner ring 10 from a surface to a core is hardened by quenching, and an axially oriented surface 16b in an inner surface of the step 16 of the inner ring 10 is a machined surface machined before quenching.例文帳に追加

内輪１０は表面から芯部までの全体を焼入れ処理により硬化させたものとし、この内輪１０の段差部１６の内面における軸方向を向く面１６ｂを、焼入れ処理よりも前に旋削した旋削仕上げ面とする。 - 特許庁

The method for forming the diamond-like carbon film includes: a step of executing the hydrogen plasma processing and the nitrogen plasma processing on a surface 11 of a metal member 1; and a step of forming the diamond-like carbon film 2 on the surface 11 subjected to the hydrogen plasma processing and the nitrogen plasma processing.例文帳に追加

金属部材１の表面１１に水素プラズマ処理及び窒素プラズマ処理を行うステップと、水素プラズマ処理及び窒素プラズマ処理された表面１１上に、ダイヤモンド状炭素膜２を形成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a boot fastening structure in which step difference absorbing accuracy is enhanced by canceling on a boot side a clearance produced between a band inner wall surface and a boot outer wall surface by the step difference of a fastening band, and besides the reduction of a manufacturing cost is realized.例文帳に追加

締付けバンドの段差によりバンド内壁面とブーツ外壁面との間に生ずる隙間をブーツ側で解消して段差吸収精度を高め、しかも製造コストの低減を実現したブーツ締付け構造を提供する。 - 特許庁

A blade rubber molding is formed of a rubber material in a molding step, a reaction liquid is applied onto the surface of a lip part of the blade rubber molding in a surface treatment step, and the irradiation of electron beams is applied thereonto to form a grafted layer.例文帳に追加

成形工程においてゴム材料によりブレードラバー成形体を形成し、下地処理工程においてブレードラバー成形体のリップ部の表面に反応液を塗布し、これに電子線を照射してグラフト層を形成する。 - 特許庁

Since the de-smearing step is performed following the pattern etching step for exposing a substrate, the surface of the substrate can be smoothed by imparting a chemical to the surface of the substrate where multiple protrusions and recesses are formed by copper foil subjected to anchoring.例文帳に追加

基材が露出するパターンエッチング工程後にデスミヤ処理を行うことにより、アンカー処理された銅箔によって多数の凹凸が形成された基材表面に薬品を付与し、該基材の表面を平滑化することができる。 - 特許庁

The blade has a sharp edge part and an obtuse end surface part, the sharp edge part of the blade hits against the cereal grains in the crushing step, and the obtuse end surface part of the blade pushes a dough material in the kneading step.例文帳に追加

又、ブレードは、鋭いエッジ部分と尖っていない端面部分とを有し、粉砕工程では、ブレードの鋭いエッジ部分が穀物粒に当たり、練り工程では、ブレードの尖っていない端面部分が生地原料を押すことを特徴とする。 - 特許庁

The flow deflecting means is constituted by a step part 19 stepped upward on a side surface of the blowout port side of the short sidewall 16, and a curve surface 18b is provided on a corner part on the blowout port 13 side of the step part 19.例文帳に追加

この流れ偏向手段は、短辺側壁１６の吹出口側の側面に上方に段あげして設けた段差部１９を設け、この段差部１９の吹出口１３側の角部に湾曲面１８ｂを設けたものである。 - 特許庁

After a silicon oxide film or a silicon oxide nitride film is formed on the surface of a silicon substrate by thermal oxidation or thermal oxidation and nitriding (step S1), plasma nitriding is performed on the surface of the silicon oxide film or the silicon oxide nitride film (step S2).例文帳に追加

シリコン基板表面に熱酸化または熱酸窒化によってシリコン酸化膜またはシリコン酸窒化膜を形成した後（ステップＳ１）、そのシリコン酸化膜表面またはシリコン酸窒化膜表面にプラズマ窒化処理を施す（ステップＳ２）。 - 特許庁

A groove 16 constituting a part of a ventilation passage of a motor chamber is formed in the second step surface 6b of a frame 6 to nip a seal member 4 between a plate 3 and the frame, and the second step surface 6b is extended in the peripheral direction.例文帳に追加

プレート３との間にシール部材４を挟持するフレーム６の第２の段差面６ｂには、モータ室の換気通路の一部を構成する溝１６が形成され、第２の段差面６ｂを周方向に延びて設けられている。 - 特許庁

In several aspects, this method further comprises: a step of depositing a place holder material on the surface channel; and a step of etching the place holder material such that a gate region is formed on the surface channel.例文帳に追加

いくつかの局面において、この方法は、表面チャネルの上にプレースホルダー材料を堆積する工程と、表面チャネルの上にゲート領域を形成するようにプレースホルダー材料をエッチングする工程とをさらに包含する。 - 特許庁

The coating method comprises applying a permeable water absorption preventive material on the surface of the porous inorganic material as a first step and then applying a surface treatment liquid containing 0.1-50 wt.% of tetra-alkoxy silane compound as a second step.例文帳に追加

多孔性無機質材料の表面に対し、第１工程として浸透性吸水防止材を塗付した後、第２工程として、テトラアルコキシシラン化合物を０．１〜５０重量％含有する表面処理液を塗付する。 - 特許庁

A spindle motor is controlled so that the number of times of rotation per a unit hour of a platter 21 become the prescribed number of times of rotation or less, (step S202) and the surface of the magnetic head 215 and the surface of the platter 210 comes into contact with each other (step S203).例文帳に追加

プラッタ２１０の単位時間あたりの回転回数が所定の回転回数以下になるようにスピンドルモータ２１１を制御し（ステップ Ｓ２０２）磁気ヘッド２１５とプラッタ２１０の表面とが接触する（ステップ Ｓ２０３）。 - 特許庁

This repair method for a pavement surface layer comprises a step of filling the portions to be repaired with a cement mortar composition and a step of coating the upper surface of the cement mortar composition with an asphalt-based room temperature-setting slurry material.例文帳に追加

セメントモルタル組成物を補修対象箇所に充填する工程と、該セメントモルタル組成物の上からアスファルト系常温硬化型スラリー材を塗布する工程とを備えたことを特徴とする舗装表層部の補修方法による。 - 特許庁

A navigation device obtains the photographed image of a road surface in front of the vehicle (step S10), and calculates the arrangement interval of optical dots on the road surface to the traveling direction of the vehicle based on the obtained photographed image (step S30 and S40).例文帳に追加

ナビゲーション装置は、車両前方の路面の撮影画像を取得し（ステップＳ１０）、取得した撮影画像に基づいて、車両の進行方向に対する路面におけるオプティカルドットの配置間隔を算出する（ステップＳ３０、Ｓ４０）。 - 特許庁

Since the surface of the work is activated in the pretreatment step, a compound layer is favorably formed on the surface of the work and a diffusion layer is favorably formed at the inside of the work in a gas nitrocarburizing step.例文帳に追加

前処理工程において、ワーク表面が活性化されることから、ガス軟窒化工程においては、ワーク表面に化合物層を良好に形成することができ、ワーク内部に拡散層を良好に形成することが可能となる。 - 特許庁

Since an affected layer remaining on the surface of the GaN-based semiconductor substrate after the wrapping step is efficiently removed by the CVE step, time required for the surface processing treatment of the GaN-based semiconductor substrate can be sharply shortened.例文帳に追加

ラッピング工程後にＧａＮ系半導体基板表面に残存する加工変質層が、ＣＶＥ工程により効率的に除去されるので、ＧａＮ系半導体基板の表面加工処理の所要時間を大幅に短縮化できる。 - 特許庁

This method for cleaning the sintered compact which has been subjected to cutting and/or grinding comprises a step to mechanically grind the surface of the sintered compact being the object to be cleaned and a step to clean the surface-ground sintered compact ultrasonically.例文帳に追加

切削及び／又は研磨加工が施された焼結体の洗浄方法であって、被洗浄物である焼結体に対し、機械的表面研磨加工処理を行った後、超音波洗浄を行うことを特徴とする。 - 特許庁

A method of forming a silicon carbide semiconductor device includes a step of forming a semiconductor device on a first surface of a silicon carbide substrate having a first thickness, and a step of fitting a carrier substrate onto the first surface.例文帳に追加

炭化ケイ素半導体デバイスを形成する方法は、第１の厚さを有する炭化ケイ素基板の第１の表面に半導体デバイスを形成するステップと、前記第１の表面にキャリア基板を取り付けるステップとを含む。 - 特許庁

In the laser spot welding method, spot welding is performed in two continuous steps consisting of the first step for preparing the surface condition of a material to be welded and the second step for welding such surface.例文帳に追加

本発明は、２つの連続するステップ、すなわち溶接すべき材料の表面状態を準備する第１のステップと、このような表面を溶接する第２のステップでスポット溶接を実行するためのレーザ・スポット溶接方法に関する。 - 特許庁

This method for nitriding a metallic material consists of a pretreatment step where abrasives are brought into dynamic contact with the surface of the metallic material under the presence of halogen-containing substances and a nitriding step where the surface of the metallic material is nitrided.例文帳に追加

本発明の金属材の窒化方法は、ハロゲン含有物質の存在下で金属材の表面に研磨材を動的に接触させる前処理工程と、その金属材の表面を窒化する窒化工程とからなることを特徴とする。 - 特許庁

A first step is a step of forming an alumina film of a porous structure on a surface of the electrode core material 24, and the alumina film which is about 6μm thick is formed on the surface of the electrode core material by a plasma spray coating method or an anode oxidization method, for example.例文帳に追加

第１の工程は、電極芯材２４の表面にポーラス構造のアルミナ膜を形成する工程で、例えばプラズマ溶射法や陽極酸化法により電極芯材の表面に約６μｍの厚みのアルミナ膜を形成する。 - 特許庁

One method (70) includes: a step (76) of displaying information at a display unit having a surface which is visible by a user; and a step (78) of receiving a user input on the surface of a multi-touch sensing type device.例文帳に追加

一方法（７０）は、利用者によって視認可能な表面を有する表示器に情報を表示するステップ（７６）と、マルチ・タッチ感知型装置の表面において利用者入力を受け取るステップ（７８）とを含んでいる。 - 特許庁

When the existence of the recessed step has been judged, the candidate position to land the bottom surface of the sole 131 is corrected such that the area occupied by the recessed step within the corresponding region on the floor surface becomes smaller than a required area.例文帳に追加

そして、凹段差が存在すると判定した場合には、床面上の対応領域において凹段差が占める面積を所定の面積以下とするように足平１３１の底面を着地させる候補位置を修正する。 - 特許庁

Then, a solder resist layer is formed on the insulation layer so as to cover a part of the copper foil pattern (step S4), and water soluble heat resistant pre-flux is applied to the surface of the copper foil pattern when a metal film surface is exposed (step S5).例文帳に追加

次に、銅箔パターンの一部を被覆するように、ソルダーレジスト層を絶縁層上に形成し（ステップＳ４）、金属膜表面が露出した銅箔パターン表面に水溶性の耐熱性プリフラックスを塗布する（ステップＳ５）。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which analysis of a surface of an image carrier is more minutely performed and the surface conditions of the image carrier are made suitable for a developing step and a cleaning step such that high-quality high-definition images are formed.例文帳に追加

像担持体表面の分析をより詳細に行い、像担持体の表面状態を現像工程並びにクリーニング工程に適した状態として、高画質で高精細の画像を形成する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The pressure receiving surfaces 14, 24 of the male mold 1 and the female mold 2 are offset in the mold opening direction in relation to the seal surfaces 12, 22 of the molds 1, 2 so that the step surface 13 of the male mold 1 enter the inside of the step surface 23 of the female mold 2.例文帳に追加

雄型１と雌型２の各型の受圧面１４，２４を該各型のシール面１２，２２に対し型開き方向にオフセットさせて、雌型２の段差面２３の内側に雄型１の段差面１３が入り込むようにする。 - 特許庁

The surface of an SiC substrate is flattened, by giving a gas cluster ion beam step by step that has two kinds of etching effects with different etching speeds to etch the surface thereof, and then another gas cluster ion beam, made mainly of oxygen gas is applied thereto.例文帳に追加

エッチング速度がそれぞれ異なる２種類のエッチング効果を持ったガスクラスターイオンビームを段階的に照射してＳｉＣ基板表面をエッチングしつつ平坦化した後、酸素ガスを主成分としたガスクラスターイオンビームを照射する。 - 特許庁

The method of regenerating aluminum parts for a semiconductor-manufacturing apparatus comprises a film-removing step for removing the oxide film on the surface of the aluminum parts, a grinding step for grinding the aluminum parts obtained in the film-removing step, and a film-regenerating step of forming the oxide film on the aluminum parts obtained in the grinding step.例文帳に追加

アルミニウム製部品表面の酸化皮膜の除去を行う皮膜除去工程と、皮膜除去工程により得られたアルミニウム製部品を研磨する研摩工程と、研摩工程により得られたアルミニウム製部品に酸化皮膜を形成する皮膜再生工程とを含む半導体製造装置用アルミニウム製部品の再生方法である。 - 特許庁

This method for combining the preliminarily formed body with light alloy comprises a preparation step for preparing the porous metal 1 forming the preliminarily formed body, a surface hardening step for performing the surface hardening to harden the surface of the porous metal 1 by changing the surface in metallic compounds, and combining step for combining the surface-treated porous metal 1 with molten light alloy as the preliminarily formed body 3.例文帳に追加

予備成形体３と軽合金との複合方法を、予備成形体３となる金属多孔質体１を準備する準備ステップと、金属多孔質体１にその表面を金属化合物に変化させることにより硬化させる表面硬化処理を施す表面硬化処理ステップと、表面硬化処理された金属多孔質体１を予備成形体３として軽合金の溶湯と複合化させる複合化ステップと、を備えたものとする。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device is characterized by having a step of injecting nitrogen into the surface of a silicon carbide substrate 10 and a step of forming a first oxide film (gate oxide film 20) on the surface of the silicon carbide substrate 10 by thermally oxidizing the surface of the silicon carbide substrate 10 injected with nitrogen.例文帳に追加

炭化珪素基板１０表面に、窒素を注入する工程と、窒素が注入された前記炭化珪素基板１０表面を熱酸化し、前記炭化珪素基板１０表面に第１酸化膜（ゲート酸化膜２０）を形成する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

Resin containing a plurality of conductive particles is made in contact with a wiring layer selectively formed on a main surface of a circuit board (a step S1), and the main surface of the circuit board and an electrode pad arranged on a main surface of the semiconductor element are made to face each other through the resin (a step S2).例文帳に追加

回路基板の主面に選択的に形成された配線層に、複数の導電性粒子を含む樹脂を接触させ（ステップＳ１）、前記樹脂を介して、回路基板の主面と半導体素子の主面に配置された電極パッドとを対向させる（ステップＳ２）。 - 特許庁

The lid 52 of a terminal box 5 is made detachable by being turned in a wing shape, and since the inner surface of a step part 71B on the side of the lid 52 and the outer surface of a step part 71A on the side of a casing 51 are brought into surface contact when the lid 52 is closed, water hardly enters the terminal box 5.例文帳に追加

ターミナルボックス５の蓋５２をウイング状に回動させて取外し可能とし、蓋５２が閉じた状態において蓋５２側の段部７１Ｂの内面と筐体５１側の段部７１Ａの外面とが面接触するためターミナルボックス５内に水が浸入しにくい。 - 特許庁

The reflective exposure method further includes a step for adjusting the inclination of the mask surface so that the propagation direction thus determined has a predetermined exist angle, and a step for adjusting the wafer surface to a predetermined angle in the direction along which the light, propagating from the mask surface in the propagation direction, impinges on the wafer through a projection optical system.例文帳に追加

さらに、求めた伝播方向が所定の射出角となるようにマスク面の傾きを調整するステップと、マスク面から該伝播方向に伝播する光が投影光学系を通じてウエハに入射する方向に、ウエハ面を所定の角度に調整するステップとを含む。 - 特許庁