1153万例文収録!

「surface zero」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface zeroに関連した英語例文

セーフサーチ:オフ

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

surface zeroの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 225



例文

This organic-inorganic composite gradient material includes a composite in which an organic polymer is chemically bound to a metal oxide compound and has a gradient structure in which the content of the metal component is continuously changed from the surface of the material in the depth direction and the content of a stabilizer for the polymer is substantially zero in the surface layer of the material and is continuously increasing in the depth direction.例文帳に追加

有機高分子化合物と金属酸化物系化合物とが化学的に結合した複合体を含み、かつ金属成分の含有率が材料の表面から深さ方向に連続的に変化すると共に、高分子用安定剤の含有率が、材料の表層では実質上0であって、深さ方向に連続的に増加していく傾斜構造をとる有機−無機複合傾斜材料である。 - 特許庁

To provide an image display device using a spacer 103 which can significantly reduce an effect of charging to an electron orbit without depending on electroconductivity of the spacer 103 itself, and a characteristic of a material by making effectual charging quantity zero by controlling positive and negative charge distributions generated on a surface of the spacer 103.例文帳に追加

スペーサ103表面に生じる正負の帯電分布を制御することで、実効的な帯電量をゼロとし、スペーサ103自身の導電性や、材料の特性によることなく、帯電が電子軌道に与える影響を大幅に低減することができるスペーサ103を用いた画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide extremely high facial precision (surface roughness), shorten time for polish process required conventionally greatly or make it zero, shorten polishing time for end face finish and end face chamfering works of inner and outer peripheries of a glass substrate disc, and reduce manufacturing cost.例文帳に追加

極めて高い面精度(表面粗さ)を有し、従来必要とされたポリッシュ工程のための時間を大幅に短縮するか、或いはゼロとして、ガラス基板ディスク内、外周の端面仕上げ及び端面面取り作業のための研磨時間を短縮し、且つ、製造コストを低減することのできる研磨方法及び研磨装置を提供する。 - 特許庁

A diffraction grating 13 for prescribing optical spot array is superimposed on a surface on the beam splitter 14 side of a diffraction grating 12 for forming optical beams and arranged, changing the advancing, direction of zero-, ±1st-, ±2ndand ±3rd-order optical beams from the grating 12, and obtaining the array of a desired optical spot.例文帳に追加

光スポット配列規定用回折格子体13が、光ビーム生成用回折格子体12のビームスプリッタ14側の面に重ねられて、配設され、光ビーム生成用回折格子体12からの0次、±1次、±2次、及び±3次の光ビームの進行方向を変更して、所望の光スポットの配列を得る。 - 特許庁

例文

A wide angle projection lens comprises: a first lens group G1 which has a negative refractive power and has at least one aspheric surface; a second lens group G2 which has a substantially zero refractive power and in or near which an aperture stop is provided; and a third lens group G3 which has a positive refractive power.例文帳に追加

広角投映レンズは、少なくとも1つの非球面を有する、負の屈折力の第1のレンズ群G1と、屈折力が実質的に0であり、内部またはその近傍に開口絞りがある第2のレンズ群G2と、正の屈折力の第3のレンズ群G3とを含み、以下の条件(1)〜(3)を満足する。 - 特許庁


例文

Motion of the camera is expressed from outputs from the angular velocity sensors 14, 16 as a moving locus on an imaging surface of a point light source, and inclination of the moving locus is compared with inclination of a zero cross line of Fourier transform of a photographed image, to thereby calculate a relative tilt angle of the angular velocity sensors 14, 16 to an image sensor.例文帳に追加

角速度センサ14、16の出力からカメラの動きを点光源の撮像面上での移動軌跡として表し、移動軌跡の傾きと撮影画像のフーリエ変換のゼロクロスラインの傾きとを比較することでイメージセンサに対する角速度センサ14、16の相対的傾き角を算出する。 - 特許庁

A surface temperature of a semiconductor wafer into which impurities are implanted, is raised from a pre-heating temperature to a target temperature over a period of time from 1 to 20 milliseconds by performing a first irradiation in which light-emission output of a flashlamp is increased up from zero to a maximal value I_max over a period of time from 1 to 20 milliseconds.例文帳に追加

フラッシュランプの発光出力を1ミリ秒以上20ミリ秒以下の時間をかけてゼロから最大値I_maxにまで増加させる第1照射を行うことにより、不純物が注入された半導体ウェハーの表面温度が予備加熱温度から目標温度にまで1ミリ秒以上20ミリ秒以下にて昇温する。 - 特許庁

The octree is provided with nodes arranged at plural levels, each node stores plural zero-dimensional sets consisting of n elements, the set locally approximates the shape and the shade attributes of a part of the surface of the graphic object and the sets consisting of n elements are provided with sampling resolution of an image space.例文帳に追加

オクトリは、複数のレベルで配列されたノードを有し、各ノードが、複数のゼロ次元のn個の要素からなる集合を記憶し、集合は、グラフィックオブジェクトの表面の一部分の形状及び陰属性を局部的に近似させ、n個の要素から成る集合は、画像空間のサンプリング解像度を有する。 - 特許庁

Furthermore, only a region 10 in the molded resin 9, through which the laser beam passes, is made to be a surface perpendicular to the metal frame 41 so that a draft angle of a mold to the molded resin is made to be zero, and the other regions in side surfaces 91, 92 of the molded resin 9 incline with respect to the metal frame 41.例文帳に追加

また、モールド樹脂9のレーザ光が透過する領域10のみを金属フレーム41に対して垂直な面として、モールド樹脂への金型の抜き勾配を零とするとともに、モールド樹脂9の側面91,92の他の部分は、金属フレーム41に対して傾斜している構造とした。 - 特許庁

例文

The insulating layer 21 having the above chemical structure can allow a frequency temperature coefficient of the surface acoustic wave element to approximate to zero within a range of a thin film thickness of the insulating layer 21, irrespective of the material of the piezoelectric substrate 12, compared to the conventional case that a silicon dioxide film is used as an insulating layer.例文帳に追加

上記の化学構造を有する絶縁層21により、従来、絶縁層として二酸化ケイ素膜を用いたときに比べて、前記圧電性基板12の材質にかかわらず、前記絶縁層21を薄い膜厚の範囲内で、弾性表面波素子の周波数温度係数を0に効果的に近づけることが出来る。 - 特許庁

例文

The movement of the camera is calculated as a moving locus on an imaging surface of a point light source from output values from the angular velocity sensors 14 and 16, and the tilt of the moving locus is compared with the tilt of a zero cross line of data obtained by Fourier transform of a photographic image, whereby the relative tilt angles of the angular velocity sensors 14 and 16 to an image sensor are calculated.例文帳に追加

角速度センサ14、16の出力からカメラの動きを点光源の撮像面上での移動軌跡を算出し、移動軌跡の傾きと撮影画像をフーリエ変換したデータのゼロクロスラインの傾きとを比較することでイメージセンサに対する角速度センサ14、16の相対的傾き角を算出する。 - 特許庁

The p-type region 8 is formed to generate a depletion layer DL covering at least a surface layer S23 of a joint J23 between a first p-type region 3 and an n-type semiconductor substrate 2 while no voltage is applied to a back electrode 7 (zero bias) or large voltage is applied by ESD.例文帳に追加

この第2のP型領域8は、裏面電極7への電圧非印加時(ゼロバイアス時)にもESDによる大電圧印加時にも、第1のP型領域3とN型半導体基板2の接合部J23のうち、少なくとも表層部S23を覆う空乏層DLを発生させるように形成されている。 - 特許庁

When surface coils are to be placed to surround a subject in equal directions, influence of interconnection between coils is eliminated to an extent to reduce Q valve of a coil without using a means to shorten coil width so that a gap between neighboring coils is widened to make interaction zero even between neighboring coils.例文帳に追加

この手法により、被検体を等方向の取り囲むように表面コイルを配置する場合、隣接するコイル間に間隙が開くようにコイル幅を小さくし、隣接するコイル間でも相互作用を0にする手段を用いず、コイルのQ値を低減する程度でコイル間の相互結合の影響を除去する。 - 特許庁

When a zero gas is made to flow for cleaning after a sample gas is measured, the sensor temperature control part 24 and the ultrasonic oscillator control part 32 are controlled by a cleaning operation control part 28, the oxide semiconductor sensor is oscillated by the ultrasonic oscillator and is heated by a heater to accelerate restoration for an oxide semiconductor surface.例文帳に追加

サンプルガスを測定した後、センサセル18に乾燥ゼロガスを流すクリーニング時に、クリーニング動作制御部28により、センサ温度制御部24及び超音波振動子制御部32を制御し、酸化物半導体センサを超音波超音波振動子により振動させ、さらにヒータにより加熱し、酸化物半導体表面の回復を早める。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a round steel slab for forming a seamless steel pipe of high Cr steel, which is capable of improving the internal quality of the round steel slab for forming the seamless steel pipe of high Cr steel, and reducing the ratio of generation of inner surface defects of the seamless steel pipe of high Cr steel to be manufactured via the Mannesmann piercing method to be substantially zero.例文帳に追加

高Cr鋼継目無鋼管製管用丸鋼片の内質を向上させ、マンネスマン穿孔法を経て製造される高Cr鋼継目無鋼管の内面疵の発生率を実質的に0(ゼロ)に低減できるようにすることができる高Cr鋼継目無鋼管製管用丸鋼片の製造方法を提供する。 - 特許庁

A vector Vs2 including a direction of air blown from the outlet port intersects a plain surface PL1 including an axis line AL of the hollow pillar-shaped part and a rotational axis line P of the wind-direction adjustment plates, and intersects a vector Vf including a direction of air generated by the wind-direction adjustment plates by an obtuse angle θL when an adjustment plate rotational angle θ is not zero.例文帳に追加

吹出口から吹き出される空気の向きを有するベクトルVs2は、中空柱状部の軸線ALと風向調整板の回動軸線Pとを含む平面PL1と交差するとともに、調整板回転角度θがゼロでないときに風向調整板によって形成される空気の向きを有するベクトルVfと鈍角θLをもって交差する。 - 特許庁

After forming the lower pole 1 and the upper pole 2, focused ion beam etching is applied to trim them from the sliding surface to back the depth zero line except their tips 1A, 2A made to fit the recording track in width, to manufacture this head.例文帳に追加

また、下部磁極1及び上部磁極2を形成した後に、下部磁極1及び上部磁極2のうち所定の記録トラック幅となる部分1A,2Aを除いた部分に対して、収束イオンビームエッチングによりヘッド摺動面から磁気ギャップのデプスゼロラインよりも奥まで後退するようにトリミング処理する工程を行って、上記薄膜磁気ヘッド10を製造する。 - 特許庁

The pressurization means 6 comprises a swing arm 51 attached with the burnisher roller 5 in one end part; and a balance adjustment means 52 making a pressurization force zero by balancing the swing arm 51, and pressing the lapping tape 3 onto the surface of the magnetic disk 2 through the burnisher roller 5 at a desired pressurization force by unbalancing the swing arm 51.例文帳に追加

上記加圧手段6は、上記バーニッシャローラ5を一端部に取付けているスウィングアーム51と、該スウィングアーム51のバランスを取ることにより加圧力をゼロとし、上記バランスを崩すことにより所望の加圧力で上記バーニッシャローラ5を介して、ラッピングテープ3を磁気ディスク2の表面に押し付けるバランス調整手段52とで構成されている。 - 特許庁

A ceramic sintering roller 1 has a structure where an outer peripheral surface of a roller body 1a comprising principally silicon carbide is covered at least partially with a reaction suppression ceramic layer 1b having the contents of a silicon component less than 1% by weight (desirably, contents of the silicon component is substantially zero) and having a melting point of 1,600°C or higher.例文帳に追加

セラミック焼成用ローラ1は、炭化珪素を主体に構成されたローラ本体1aの外周面を、珪素成分の含有率が0.1重量%未満(望ましくは珪素成分の含有率が実質的にゼロ)で、融点が1600℃以上の反応抑制セラミック層1bにより少なくとも部分的に被覆した構造を有する。 - 特許庁

The steel sheets 1 to be treated are flatly straightened before the cooling by the application of the controlled facial pressure from the surface plates, the steel sheets 1 to be treated are uniformly cooled with a cooling medium filled into the metallic square pipes 3 for uniform cooling, and the whole is simultaneously transformed into martensite, thus the flat sub-zero-treated steel sheets can be obtained without the strain remaining.例文帳に追加

被処理鋼板1は定盤から調整された面圧を受けることで冷却前に平坦に矯正され、深冷時、均一冷却用金属製角パイプ3内に充満された冷媒によって被処理鋼板1は均一に冷却され、全体が同時にマルテンサイト変態するため、歪みが残存せずに平坦な深冷処理鋼板が得られる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thermoplastic resin extrusion foam, which can manufacture an extrusion foam having a small thermal conductivity and capable of maintaining thermal insulation and good in the surface state even if a foaming agent is used which has a zero or very low ozone depletion potential and a low global warming potential.例文帳に追加

本発明は、オゾン破壊係数がゼロか又は極めて低いと共に、地球温暖化係数も小さな発泡剤を使用したとしても、熱伝導率が小さく、長期に亘り断熱性を維持できる、表面状態の良好な押出発泡体を製造できる、熱可塑性樹脂押出発泡体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes a reactive ion etching step to form grooves in a semiconductor by partly removing the surface of the semiconductor by reactive ion etching, and a small-angle ion milling step to partly remove the bottom of the groove by emitting an ion beam to the bottom of the groove in an inclined direction at a zero degree or higher and 45 degrees or lower with respect to the bottom thereof.例文帳に追加

半導体の表面の一部を反応性イオンエッチングにより除去することによって半導体に溝を形成する反応性イオンエッチング工程と、溝の底面に対して0°より大きく45°以下の角度に傾斜した方向からイオンビームを照射することによって溝の底面の一部を除去する低角度イオンミリング工程とを含む半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The estimation devise estimates cylinder air quantity KL with using a first air model M10 constructed under an assumption that thermal energy (thermal transmission energy) transmitted from a wall surface of an intake passage to air in the intake passage is zero when temperature Tim, Tst of wall surfaces of the intake passage is low and throttle valve opening TAe is large (when conditions of quantity of operation state are satisfied).例文帳に追加

推定装置は、吸気通路の壁面の温度Tim,Tstが低く且つスロットル弁開度TAeが大きいとき(運転状態量条件が満足されるとき)、吸気通路の壁面から吸気通路内の空気へ伝達される熱エネルギー(熱伝達エネルギー)が0であるという仮定の下で構築された第1空気モデルM10を使用して筒内空気量KLを推定する。 - 特許庁

The device includes a tilt mechanism (rotation/tilt mechanism 14) for holding a substrate (wafer 10) and directing the extending direction of the substrate in the gravity direction, and an electrostatic discharging mechanism for electrically neutralizing an electrostatic charging state nearby the surface of the substrate by grounding the substrate to a zero potential after blowing gas electrostatically charged to the opposite polarity from the electrostatic charging polarity of the substrate and deposits.例文帳に追加

基板(ウエハ10)を保持して基板の延在方向を重力方向に向ける傾斜機構(回転・傾斜機構14)と、前記基板及び付着物の帯電極性とは、逆の極性に帯電した気体を吹き付けた後に、前記基板にアース部材を接触させてゼロ電位にすることにより、基板表面近傍の帯電状態を電気的に中和する除電機構とを備える。 - 特許庁

例文

To provide an environmentally friendly and low cost oil adsorbent which has an excellent oil adsorption ability that quickly adsorbs oil spilled on the water surface, oil spilled during transportation or storage on the ground, or oil spilled at a working site or the like, can cope with high concentration oil-contaminated wastewater, has performance durable for a long-term use, and can achieve zero emission.例文帳に追加

水面上に流出した油や、地上での運送中もしくは貯蔵中に流出した油、あるいは作業現場などで漏出した油を速やかに吸着する優れた油吸着能を有し、しかも高濃度の油汚染水にも対応でき、長期間の使用に耐え得る性能を持ち、ゼロエミッションの達成が可能な、環境に優しく、かつコストの安い油吸着材を提供する。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS