「thin layer method」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

The first alignment layer 41 is constituted principally of a polyimide alignment layer which is subjected to rubbing treatment and the second alignment layer 42 is constituted principally of an organic vapor deposition film formed by vapor deposition, to put it concretely, a polymer film formed by depositing an acrylic or a methacrylic liquid crystalline monomer in a thin film form by an ion vapor deposition method.例文帳に追加

第１配向膜層４１は、ラビング処理が施されたポリイミド配向膜を主体として構成され、第２配向膜層４２は蒸着により形成された有機蒸着膜、具体的にはアクリル系若しくはメタクリル系の液晶性モノマーをイオン蒸着法により薄膜形成した高分子膜を主体として構成されている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a composite molding which requires no expensive mold and is characterized by adhering two resin moldings together after removal of a metal thin-film layer, the composite molding obtained by the method and a container for cosmetics using the composite molding.例文帳に追加

上記高価な金型を用いることなく、金属薄膜層を除去した後、２つの樹脂成形体を接着するようにした複合成形体の製法と、それによって得られる複合成形体、並びにそれを用いた化粧料容器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a high-purity β-diketonate complex of an alkaline earth metal with suppressed formation of a hydrate, useful as a raw material for a thin layer of an oxide containing the alkaline earth metal formed by a metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) method.例文帳に追加

有機金属化学蒸着（ＭＯＣＶＤ）法によってアルカリ土類金属を含む酸化物の薄層を形成する際の原料として有用な、水和物の生成が抑制された高純度なアルカリ土類金属β−ジケトネート錯体の製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently manufacturing a thin semiconductor device having an excellent flexural strength by removing a crushed layer, which is generated on a ground surface of a semiconductor substrate due to grinding, in a simple method without accompanying generation of an out gas and elution of a pressure-sensitive adhesive.例文帳に追加

研削により半導体基板の研削面に生じる破砕層を、アウトガスの発生や、粘着剤の溶出を伴うことなく簡便な方法により除去し、優れた抗折強度を有する薄型半導体装置を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an arranging method for particulates in a micro-holes formed in a film efficiently, easily, and stably in a proper amount, provide a conductive thin layer element used in three-dimensional mounting, etc., conducted by the method, and a conductive laminate structure.例文帳に追加

効率よく、容易に、過不足なく安定的に微粒子をフィルムの微細穴に配置することができる微細穴への微粒子の配置方法、その方法を用いてなる３次元実装等に用いる導電薄層素子、及び、導電積層構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor having a charge transport layer of a thin film (14 to 19 μm) having high uniformity of a film thickness, an electrophotographic photoreceptor manufactured by the manufacturing method, a process cartridge having the electrophotographic photoreceptor, and an electrophotographic apparatus.例文帳に追加

膜厚均一性の高い薄膜（１４〜１９μｍ）の電荷輸送層を有する電子写真感光体の製造方法、該製造方法により製造された電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing inkjet recording material includes a step of applying at least one layer that contains pearlescent pigment on a substrate, wherein the pearlescent pigment is dispersed by using a thin film spin coating method.例文帳に追加

支持体上に、真珠光沢顔料を含有する層を少なくとも１層塗布するインクジェット記録材料の製造方法であって、該真珠光沢顔料が薄膜旋回法により分散されていることを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a thin-type solid electrolytic capacitor that can be incorporated into a wiring board, can be arranged close to a semiconductor chip, such as a CPU, mounted on the wiring board, and can form an electrolyte layer simply by an electrolytic polymerization method, and to provide a method for manufacturing the solid electrolytic capacitor.例文帳に追加

配線基板に内蔵でき、配線基板に搭載されるＣＰＵ等の半導体チップの近くに配置することが可能で、且つ電解重合法だけで電解質層を形成可能な、薄型の固体電解キャパシタとその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film transistor having improved characteristics and uniformity is achieved, by uniformly controlling low concentration of crystallization catalyst and controlling crystallization position so that no seed exists and no grain boundary exists, or one grain boundary exists in a channel layer of the thin-film transistor.例文帳に追加

結晶化触媒の均一な低濃度制御及び結晶化位置を調節することによって、薄膜トランジスタのチャンネル層内にシード及び結晶粒境界が存在しないようにしたり、結晶粒境界が一つ存在するように調節して素子特性及び均一度が良い薄膜トランジスタ及びその製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a thin film consisting of oxide or multiple oxide by a CVD process including an ALD (Atomic Layer Deposition) process by which the production of a satisfactory thin film is made possible in the case a metallic compound having low hydrolysis reaction such as alkoxide and a β-diketone complex is used as a precursor.例文帳に追加

ＡＬＤ法を含むＣＶＤ法による酸化物又は複合酸化物からなる薄膜の製造方法において、前駆体にアルコキシドやβ−ジケトン錯体等の加水分解反応の遅い金属化合物を用いる場合に良好な薄膜の製造が可能となる薄膜の製造方法を与えること。 - 特許庁

To provide the subject method comprising such a process as to subject a reaction chamber with a substrate set inside to the feed of both adsorption gas and reactant gas and their purges alternately to effect atomic layer growth by reaction between the adsorption gas and reactant gas to form a thin film on one side of the substrate; wherein impurities left in the thin film are diminished during film formation.例文帳に追加

基板が設置された反応室に対して、吸着ガス及び反応ガスの供給、及びパージを交互に行い、吸着ガスと反応ガスとの反応によって原子層成長を行わせることにより、基板の一面上に形成された薄膜において、成膜の際に、膜中に残存する不純物を低減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of preventing variation in the resistance value of a polycrystalline silicon resistance layer due to the dispersion of hydrogen absorption from the polycrystalline silicon resistance layer by a Ti system metal film, even if a difference occurs in the cover rate of the polycrystalline silicon resistance layer by the Ti system metal film formed above the polycrystalline silicon resistance layer of a thin film resistance element, and to provided the manufacture method.例文帳に追加

薄膜抵抗素子の多結晶シリコン抵抗層上方に形成されたＴｉ系メタル膜による多結晶シリコン抵抗層のカバー率に差異が生じる場合であっても、Ｔｉ系メタル膜による多結晶シリコン抵抗層からの水素吸収のバラツキに起因する多結晶シリコン抵抗層の抵抗値の変動を防止することが可能な半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of continuously forming the conduit comprises the steps of: winding a thin plastic sacrifice layer 17 in an overlapping pattern onto a former 1 for rotating and advancing the conduit, covering the sacrifice layer on the former and forming a conduit 6 while mutually joining the overlapping layer, and removing the sacrifice layer from the inside of the conduit after joining.例文帳に追加

本発明の導管を連続的に製造する方法は、薄いプラスチックの犠牲層１７をオーバーラップするパターンで、導管を回転させ且つ前進させるフォーマ１の周りにつける工程と、オーバーラップしている層を互いに接合しながら、フォーマ上で犠牲層を覆って導管６を形成する工程と、接合後に犠牲層を導管の内側から除去する工程と、を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a display device includes ultraviolet-light irradiation of at least once, and uses the thin-film transistor that includes the oxide semiconductor layer for a switching element, and in the method, heat treatment for repairing damages to the oxide semiconductor layer due to the ultraviolet-light irradiation is performed, after all the steps of ultraviolet-light irradiation are completed.例文帳に追加

少なくとも一回以上の紫外線の照射を行い、且つ酸化物半導体層を有する薄膜トランジスタをスイッチング素子として用いる、表示装置の作製方法において、全ての紫外線照射工程を終えた後で、紫外線照射による該酸化物半導体層のダメージを回復させる熱処理を行う表示装置の作製方法である。 - 特許庁

To provide a sputtering target which adopts a material containing an SiO_2 based oxide, hardly causes deterioration in an adjacent reflection layer and a recording layer, has satisfactory adhesion and achieves high speed film-deposition, and to provide a method for producing the same and to provide a thin film (especially used as a protective film) for an optical information recording medium and a method for producing the same.例文帳に追加

ＳｉＯ_２系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The organic electroluminescence element and its manufacturing method are such that by thin forming an inorganic pixel defining film layer having an opening exposing at least a part of the upper part of a first electrode by a vapor deposition method, breakage of the formed organic film layer pattern caused by the step between the first electrode and the inorganic pixel defining film can be prevented.例文帳に追加

前記有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法は、第１の電極の上部の少なくとも一部を露出させる開口部を具備する無機画素定義膜を蒸着法を用いて薄く形成することにより、形成される有機膜層パターンが第１の電極と無機画素定義膜との段差によって切れることを防ぐといった効果がある。 - 特許庁

The superconductive thin film material 1 is provided with a metal-orienting substrate 10 and an oxide superconductive film 30 formed on the metal-orienting substrate 10, in which the oxide superconductive film 30 includes a physical vapor deposition HoBCO layer 31 formed by a physical vapor deposition method and an organic metal deposition HoBCO layer 32 formed on the physical vapor deposition HoBCO layer 31 by an organic metal deposition method.例文帳に追加

超電導薄膜材料１は、金属配向基板１０と、金属配向基板１０上に形成された酸化物超電導膜３０とを備え、酸化物超電導膜３０は、物理蒸着法により形成された物理蒸着ＨｏＢＣＯ層３１と、物理蒸着ＨｏＢＣＯ層３１上に有機金属堆積法により形成された有機金属堆積ＨｏＢＣＯ層３２とを含んでいる。 - 特許庁

This method for forming the optical thin film having many optical layers with a magnetron sputtering method on the surface of a substrate 8 comprises, introducing inert gas and reactive gas into a sputter chamber 1, and sequentially forming the optical layer on the substrate 8, under a condition of a discharge pressure of 1.3×10-1 Pa or less, with a reactive magnetron sputtering method.例文帳に追加

マグネトロンスパッタ法により基板８面上に多層の光学層を有する光学薄膜を形成する際、スパッタ槽１内に不活性ガスおよび反応性ガスを導入し、１．３×１０^-1Ｐａ以下の放電圧力の条件下において反応性マグネトロンスパッタ法により基板８面上に順次光学層を形成させる。 - 特許庁

To provide a thin film transistor that solves a problem of an arc generated in a process of crystallizing an amorphous silicon layer with conducted heat of a metal film, to provide a method of manufacturing the same, and to provide an organic light emitting display device including the same.例文帳に追加

金属膜の伝導熱により非晶質シリコン層を結晶化する過程で発生するアークの問題を解決する薄膜トランジスタ、その製造方法及びそれを有する有機電界発光表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin layered body for very easily performing an photo (nano)imprint of a submicron pattern, continuously and in a high speed, even when thickness of the photosensitive resin layer is thin, and a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

感光性樹脂層の厚みが薄い場合であっても、連続的且つ高速で、サブミクロンパターンの光（ナノ）インプリントをきわめて容易に行うことができる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin-film transistor wherein an impurity is evenly implanted over the entire surface of a silicon layer and no streak/spot arises on the image outputted through a liquid-crystal display device.例文帳に追加

この発明は、シリコン層の全面に亘って不純物を均一に注入でき、液晶表示装置を介して出力される画像に筋斑を生じることのない薄膜トランジスタの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display device by which the organic EL display device with high quality and excelling luminous efficiency for an organic EL element, having no display unevenness due to thin film unevenness of a functional layer can be obtained.例文帳に追加

機能層の薄膜ムラによる表示ムラを生じることのない、有機ＥＬ素子の発光効率に優れた高品質の有機ＥＬ表示装置を得ることが可能な有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an asphalt mixture which exhibits excellent low-temperature resistance and can be paved in a thin layer even in the winter season and easily well balanced among required properties such as slip resistance, abrasion resistance or durability, its manufacturing method, and an additive for asphalt.例文帳に追加

耐低温性に優れ、冬季においても薄層で舗装でき、すべり抵抗性や耐磨耗性、耐久性などの必要特性のバランスがとりやすいアスファルト混合物とその製造方法、およびアスファルト用添加材を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition substrate which allows the reduction of a film thickness while dispensing with an etching step to reduce the cost, and deposits a thin film layer having an uneven structure on a depositing substrate surface, and also to provide a method for manufacturing the same, and a deposition device.例文帳に追加

膜厚の低下を図りつつ、エッチング工程を不要として低コスト化を図り、凹凸構造を有する薄膜層が被成膜基板表面に成膜された成膜基板、その製造方法、および成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a high-strength Cu-Ga-based sputtering target material for use in manufacturing a light-absorbing thin layer of a solar cell, which can be highly densified by preventing the powder from being melted in a molding process at high temperature, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

高温成形時の溶融を抑制することで高密度化を達成できる、太陽電池の光吸収薄膜層を製造するための高強度Ｃｕ−Ｇａ系スパッタリングターゲット材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A simple method of making the part near the surface of the first electrode amorphous is to form a thin Zr layer on a Pt electrode and to subject it to heat treatment in a nonoxidizing atmosphere.例文帳に追加

また第１の電極表面近傍を非晶質化する製造方法として、Ｐｔ電極に薄いＺｒ層を形成し、非酸化雰囲気下での熱処理することで簡便に表面近傍を非晶質化することが可能である。 - 特許庁

To provide a new method for bonding by which a thin adhesive layer can be formed and a desired adhesive strength can surely be realized even when fine unevennesses are present on the adhesive surface of a substrate to be bonded and to obtain an adhesive.例文帳に追加

薄い接着層を形成可能であり、かつ接着するべき基材の接着面に微細な凹凸があった場合にも所望の接着強度を確実に実現できるような、新規な接着方法および接着剤を提供する。 - 特許庁

The transparent conductive thin film layer is produced by using high power impulse magnetron sputtering method.例文帳に追加

透明プラスチックフィルムからなる基材上に、透明導電性薄膜層を積層した透明導電性フィルムであって、透明導電性薄膜層がハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング法を用いて作製されたことを特徴とする透明導電性フィルム。 - 特許庁

According to the method for manufacturing a thin-film magnetic head, an electron beam resist 49 is irradiated with an electron beam to form a resist layer 70 having a main pattern 72 and a plurality of projected parts 74 extended from its outer edge to the surroundings.例文帳に追加

本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、電子ビームレジスト４９に電子ビームを照射して、主パターン７２と、その外縁部から周囲に向かって延びる複数の突部７４とを有するレジスト層７０を形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a dielectric ceramic composition used as a dielectric layer of a laminated ceramic capacitor, composed of fine particles and having good electric and temperature characteristics even when the capacitor is laminated from thin layers.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサの誘電体層として使用し、微細な粒子から構成され、かつコンデンサを薄層化した場合においても、良好な電気特性や温度特性を有する誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device for processing a substrate capable of properly removing a resist that comprises a solidified layer from a substrate while suppressing or avoiding damages on the substrate or a thin film formed on its surface.例文帳に追加

基板またはその表面に形成された薄膜に対するダメージを抑制または回避しながら、硬化層を有するレジストを基板から良好に除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sheet-like washing product which can form a thin layer composed of a dough detergent composition in uniform thickness and width without generating defects such as foams while maintaining high detergency and solubility.例文帳に追加

高い洗浄性や溶解性を保持しつつ、気泡等の欠陥を発生させること無く、ドウ状洗剤組成物からなる薄層を、均一な厚さ及び幅で形成し得るシート状洗濯用品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

While the source region 24a and the drain region 24b are in a state of being covered, an active layer 25 made of a polycrystalline semiconductor thin film is formed by the reactive thermal CVD method, by utilizing the reactive energy of the plurality of different gases.例文帳に追加

ソース領域２４ａおよびドレイン領域２４ｂを覆う状態で、複数の異なるガスの反応エネルギーを利用する反応性熱ＣＶＤ法によって、多結晶性の半導体薄膜からなる活性層２５を形成する。 - 特許庁

Preferably, the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the ceramic green sheet for obtaining the layer 2 be set at a roughness of lower than 100 nm and that the electrodes 8 and 9 be constituted of a metal film formed through a thin-film forming method.例文帳に追加

好ましくは、セラミック層２を得るためのセラミックグリーンシートの表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を１００ｎｍ以下とし、内部電極８，９を薄膜形成法によって形成された金属膜をもって構成する。 - 特許庁

To provide a spraying device for forming an oxide thin film that is in an inexpensive configuration, and can manufacture a high-quality multilayer film in which the film thickness and composition of each layer are controlled accurately, and to provide a method for manufacturing the oxide multilayer film.例文帳に追加

安価な構成で、各層の膜厚・組成を正確に制御した高品質な多層膜を作製することができる酸化物薄膜形成用スプレー装置及び酸化物多層膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film transistor with a stable characteristic by suppressing the dispersion of etching amount of a lower layer semiconductor film in dry-etching a metallic film to form source-drain electrodes without increasing the number of manufacturing processes.例文帳に追加

製造工程数の増加なく、ソース・ドレイン電極形成のための金属膜のドライエッチングに際して、下層の半導体膜の削れ量のばらつきを抑え特性の安定した薄膜トランジスタを製造する方法を提供する。 - 特許庁

Next, in a step S102, a carbon thin film 103 in which a carrier has been doped is formed on the metal layer 102 by a heat chemical vapor deposition method using a raw material gas consisting of at least one of benzylamine and triisopropyl borate.例文帳に追加

次に、ステップＳ１０２で、ベンジルアミンおよびホウ酸トリイソプロピルの少なくとも１つからなる原料ガスを用いた熱化学気相成長法により、金属層１０２の上にキャリアがドープされた炭素薄膜１０３を形成する。 - 特許庁

In this method for producing a multilayer printed circuit board, the inner layer circuit board is soaked in a thermosetting resin solution and dried for forming a thin insulation coat on an inner circuit and thereafter, the adhesive sheet is heated and pressed for obtaining the multilayer printed circuit board.例文帳に追加

内層回路板を，熱硬化性樹脂溶液中に浸漬し，乾燥することにより，内層回路上に薄い絶縁性皮膜を形成した後，接着剤シートを加熱，加圧して得られる多層プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide an electronic component with high connection reliability and electrical conductivity, even when a metal nanoparticle layer in a metal nanoparticle junction is thin, and to provide an electronic component device which uses the component and a method of manufacturing them.例文帳に追加

金属ナノ粒子接合部における金属ナノ粒子層の厚みが薄い場合においても接続信頼性、電気伝導性が高い電子部品それを用いた電子部品、電子部品装置およびそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a thin-film transistor and its manufacturing method, a gate electrode is formed on one surface of the gate insulating film composed of at least a resin-film base material and source-drain electrodes and a semiconductor layer on the other surface.例文帳に追加

少なくとも、樹脂フィルム基材からなるゲート絶縁膜の一方の面にゲート電極、他方の面にソース・ドレイン電極および半導体層を形成してなることを特徴とする薄膜トランジスタおよびその製造方法である。 - 特許庁

To accurately calibrate a measuring error caused by a drift component included in a measured result, in a measuring instrument provided with a flow passage for supplying a sample on a thin film layer, and a measuring method using the measuring instrument.例文帳に追加

薄膜層上に試料を供給するための流路を備えた測定装置およびこの測定装置を用いた測定方法において、測定結果中に含まれるドリフト成分による測定誤差をより正確に校正する。 - 特許庁

To provide a method for producing an oxygen-capturing packaging material which has an excellent oxygen barrier property and can prevent the deterioration in the quality of a content due to the penetration of oxygen, even when an oxygen-capturing layer is thin, and to provide an oxygen-capturing packaging material.例文帳に追加

酸素捕集層が薄くても酸素透過による内容物の品質低下を防止することができる酸素バリア性に優れた酸素捕集性包装材料の製造法及び酸素捕集性包装材料を提供すること。 - 特許庁

A novel method for releasably coating an organic substrate being reflectably coated, by the thin layer coating with one or plural layers is disclosed, in order to immediately form a flake when it is removed from the reflective substrate.例文帳に追加

反射性の基板から除去されたとき直ちにフレークを形成するために、反射性のコーティングされた有機基板を、１つまたは複数の層を有する薄膜コーティングによって、リリース可能にコーティングする新規な方法を開示する。 - 特許庁

A translucent semi-reflective inorganic thin film layer having 3-50% transmittance and 50-97% reflectance is formed by a dry film forming method on a substrate comprising a plastic film to obtain the objective translucent semi-reflective diffusion film.例文帳に追加

プラスチックフイルムからなる基材の上に、乾式製膜法によって形成した透過率が３〜５０％で、反射率が５０〜９７％の範囲にある半透過性で半反射性の無機薄膜層を設けた半透過半反射拡散フイルム。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display element, with which a thin and uniform alignment layer is formed, and further dust remaining on a substrate surface after rubbing treatment is certainly removed, and a sealing speed of a liquid crystal is improved.例文帳に追加

薄くかつ均一な配向膜を形成でき、また、ラビング処理後に基板の表面に残存する塵を確実に除去し、液晶の封入速度を向上させることができる液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁