「tin oxide film」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a bulk-heterojunction organic thin-film solar cell which has high power generation efficiency without using indium tin oxide (ITO) as an electrode, and to provide a method for simply manufacturing the bulk-heterojunction organic thin-film solar cell with high power generation efficiency.例文帳に追加

電極としてインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を用いることなく、発電効率の高いバルクヘテロ型有機薄膜太陽電池、及びそのような発電効率の高いバルクヘテロ型有機薄膜太陽電池の簡易な製造方法を提供する。 - 特許庁

The heat ray reflection glass comprising a fluorine-containing tin oxide film (FTO film) having ≥30% reflectance to 2,000 nm near infrared ray is arranged on one or both surfaces of a material to be treated which comprises a glass member.例文帳に追加

本発明に係る熱線反射ガラスは、ガラス部材からなる被処理体の一方又は両方の面に、波長２０００ｎｍの近赤外線に対して３０％以上の反射率を有するフッ素添加酸化スズ膜（ＦＴＯ膜）からなる透明導電体を配したことを特徴とする。 - 特許庁

With a thermal CVD (chemical vapor deposition) method for forming a transparent conductive film on a base body, a transparent conductive tin oxide (SnO_2) film (P) can be obtained in a process (S1) of evaporating a solid raw material (R) by direct heating and a process (S2) of depositing raw material gas on the heated base body.例文帳に追加

基体上に透明導電膜を形成する熱ＣＶＤ（化学気相成長）法であって、固体原料（Ｒ）を直接加熱により気化させる工程（Ｓ１）と発生した原料ガスを加熱基体に堆積させる工程（Ｓ２）により透明導電性酸化スズ（ＳｎＯ_２）膜（Ｐ）を得ることができる。 - 特許庁

The laminated glass comprises two glass plates laminated onto each other through an intermediate film and is characterized in that one glass plate is a colored transparent glass plate, the other glass plate is a visible light reflective glass plate and the intermediate film contains a tin-doped indium oxide (ITO) fine particles.例文帳に追加

２枚のガラス板が中間膜を介して積層されてなる合わせガラスであって、一方のガラス板が有色透明ガラス板であり、他方のガラス板が可視光線反射ガラス板であり、中間膜が錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）微粒子を含んでいることを特徴とする合わせガラス。 - 特許庁

To provide ITO (indium tin oxide) particle in which variation of particle size is small and which has high transparency and which is used as an ITO coating material from which a transparent electroconductive film having a small haze value can be formed, and to provide the ITO coating material containing the ITO particle and the transparent electroconductive film containing the ITO particle.例文帳に追加

粒子サイズのバラツキが少なく、透明度が高く、ヘイズの値が小さい透明導電膜を成膜することの出来るＩＴＯ塗料に用いるＩＴＯ粒子、当該ＩＴＯ粒子を含むＩＴＯ塗料、並びに当該ＩＴＯ粒子を含む透明導電膜を提供することにある。 - 特許庁

As a result, there is the case where an excessive ITO(indium tin oxide) film 52" remains between the data lines 52, however, since parts passing on the difference in level 450 are made to be constricted parts 525 in the data lines 52, the data lines 52 are never short-circuit with each other by the excessive ITO film 52".例文帳に追加

このため、データ線５２の間に余計なＩＴＯ膜５２″が残る場合があるが、データ線５２において、段差４５０上を通る部分が括れ部分５２５になっているので、余計なＩＴＯ膜５２″によってデータ線５２が短絡することがない。 - 特許庁

An ITO film 3 (indium tin oxide film), one of transparent conducting films, is formed on the surface of a cell board 2 of a game board so that the electric charge, formed when the game ball 9 hits and abrade an optional part, a cell board or the like, can be led to the ground 8 through a wire 7.例文帳に追加

透明導電性薄膜のひとつであるＩＴＯ膜（インジウム・スズ酸化膜）３を遊技盤のセル板２表面上に形成することにより、遊技球９が役物部品，セル板等に擦り当たって発生する電荷を、配線７を介してグランド８に逃がすよう構成してある。 - 特許庁

In the interlayer of an orientational substrate for forming the epitaxial film, which is provided between a base material and an epitaxial film to be formed on at least one surface of the base material, the interlayer has a single layer structure or a multilayer structure of not less than two layers and the layer in contact with the substrate is formed from an indium tin oxide (ITO).例文帳に追加

基材と、基材の少なくとも一方に形成されるエピタキシャル膜との間に設けられるエピタキシャル膜形成用配向基板の中間層において、単層構造又は２層以上の多層構造を有し、基板と接触する層がインジウムスズ酸化物からなる中間層である。 - 特許庁

The transparent conductive film is composed of a transparent base material film 2, and a first conductive layer 31 made of ITO (tin-doped indium oxide), a second conductive layer 32 made of silver, a third conductive layer 33 made of ITO, which are laminated in order by sputtering.例文帳に追加

本発明は、透明な基材フィルム２と、基材フィルム２の表面にスパッタリングにより順次積層形成された、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）からなる第１導電層３１、Ａｇ（銀）からなる第２導電層３２、ＩＴＯからなる第３導電層３３とを有する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device having a color filter substrate comprising a plastics substrate coated with a novel overcoat layer which is film formed at a low temperature and in a short time and which is excellent in smoothness, adhesion property to a transparent substrate (ITO (indium tin oxide)) and scratch resistance of the obtained coating film.例文帳に追加

低温で短時間に成膜でき、得られる被膜の平滑性、透明電極（ＩＴＯ）との密着性、耐擦傷性に優れる新規なオーバーコート層をプラスチック基材に被覆してなるカラーフィルター基板を有する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrooptical apparatus and electronic device that allow incoming of light to a photoelectric conversion element, while preventing incidence of light to a field-effect transistor, and prevent thermal degradation of an ITO (indium tin oxide) film, even when ITO film is used.例文帳に追加

電界効果型トランジスタに対する光の入射を防止しながら光電変換素子への光の入射を可能とすることができ、かつ、ＩＴＯ膜を用いる場合でも、ＩＴＯ膜が熱劣化を起こすことのない電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal fine particle dispersed film includes: forming a silicon oxide film by bringing an organosilane into hydrolysis and polycondensation reactions while leaving hydroxyl or alkoxide groups in side chains; bringing the silicon oxide film into contact with an acidic aqueous tin chloride solution; and bringing the silicon oxide film into contact with an aqueous solution of a metal chelate to disperse metal fine particles in the silicon oxide film.例文帳に追加

オルガノシランを、側鎖にヒドロキシル基もしくはアルコキシド基を残存させた加水分解および重縮合反応を行うことによりシリコン酸化膜を形成し、前記シリコン酸化膜を、酸性の塩化スズ水溶液と接触させ、次いで、前記シリコン酸化膜を金属キレートの水溶液と接触させることによって、シリコン酸化膜中に金属微粒子を分散させることを特徴とする金属微粒子分散膜の製造方法。 - 特許庁

An information transfer MISFET Qs and a capacitor C are formed on the main surface of a semiconductor substrate 1, an oxide silicon film 13 on an upper electrode 12a and a lower electrode 10a of the capacitor C is removed to form contact holes 22 and then a TiN film 15 is formed on the silicon oxide film 13, including the insides of the contact holes 22.例文帳に追加

半導体基板１の主表面に情報転送用ＭＩＳＦＥＴＱｓおよびキャパシタＣを形成し、キャパシタＣを構成する上部電極１２ａおよび下部電極１０ａ上の酸化シリコン膜１３を除去することによりコンタクトホール２２を形成した後、コンタクトホール２２内を含む酸化シリコン膜上１３にＴｉＮ膜１５を形成する。 - 特許庁

The copper-based composite base material for an electronic component is characterized in that, regarding the copper-based composite base material in which a coating layer made of tin or a tin-based alloy is formed on the surface of a copper base material or a copper alloy base material, a silicon oxide thin film comprising a hydrocarbon group and/or a hydroxyl group is formed on the surface of the coating layer.例文帳に追加

銅基材又は銅合金基材の表面に錫又は錫系合金からなる被覆層が形成されてなる銅系複合基材において、前記被覆層表面に、炭化水素基及び／又は水酸基を含有するシリコン酸化物薄膜が形成されてなることを特徴とする電子部品用銅系複合基材を用いる。 - 特許庁

The organic electroluminescence element is fabricated through such procedures that a transparent metal oxide film consisting of indium-tin oxide is laminated on a glass base board and that the metal oxide is subjected to a plasma surface processing using oxygen where the fluorine content is below 1 wt.%, and thereby an anode layer 10 is formed.例文帳に追加

ガラス基板上にインジウム錫酸化物から成る透明性金属酸化物膜を積層した後に、この金属酸化物に対してフッ素含有量を１重量％以下とする酸素を用いたプラズマ表面処理を施して形成した陽極層１０を用いて有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor in which an oxide semiconductor achieved with zinc tin oxide (ZnSnO) has a large electronegativity difference with oxygen, the concentration of a carrier is adjusted by forming an active layer by adding a substance whose atomic radius is similar to that of Zn or Sn, and stable reliability and electrical characteristic are achieved by improving the reliability of the oxide semiconductor.例文帳に追加

亜鉛錫酸化物（ＺｎＳｎＯ）で実現される酸化物半導体に酸素との電気陰性度の差が大きく、原子半径がＺｎ又はＳｎと類似する物質を添加して活性層を形成することで、キャリアの濃度を調節し、酸化物半導体の信頼性を向上させることで、安定した信頼性及び電気的特性を実現する薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

The coating for forming an antistatic cured film comprises an electroconductive metal oxide fine particle such as antimony-containing tin oxide (ATO), a cationic surfactant, an ultraviolet (UV)-curable resin and an organic solvent such as ethylene glycol, where the coating contains at least 1 wt.% and at most 5 wt.% of the metal oxide fine particle.例文帳に追加

本発明の帯電防止硬化膜形成用塗料は、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）等の導電性を有する金属酸化物微粒子と、陽イオン系界面活性剤と、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂と、エチレングリコール等の有機溶媒とを含有してなる塗料であり、この塗料における金属酸化物微粒子の含有率は１重量％以上かつ５重量％以下である。 - 特許庁

To provide a reforming method of a transparent conductive film, the method efficiently and substantially lowering resistivity of the transparent conductive film in a short time while substantially restraining thermal degradation or thermal distortion of a substrate, in a reforming method of a transparent conductive film in a substrate with the transparent conductive film equipped with a substrate and a transparent conductive film consisting of complex oxide of zinc and tin formed on the substrate.例文帳に追加

基板と、前記基板上に形成された亜鉛と錫との複合酸化物からなる透明導電膜とを備える透明導電膜付基板における透明導電膜の改質方法において、基板の熱劣化や熱ひずみを十分に抑制しつつ、透明導電膜の抵抗率を短時間で効率よく且つ十分に低下させることが可能な透明導電膜の改質方法を提供すること。 - 特許庁

The transparent conductive composite film A (or the sheet B) has first conductive layers 2, 5 as a conductive polymer film or a carbon nanotube layer formed on one surface of a transparent film 1 (or a sheet 4), and further, second conductive layers 3, 6 as an ITO film (an indium tin oxide film) formed on the surface of the first conductive layer.例文帳に追加

透明フィルム１（またはシート４）の片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第１の導電性層２，５が形成され、さらにその第１の導電性層の表面に、ＩＴＯ膜（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ Ｏｘｉｄｅ膜）である第２の導電性層３，６が形成されていることを特徴とする透明導電性複合フィルムＡ（またはシートＢ）。 - 特許庁

To a second insulating film 6 in an MIM capacitor forming region A, a MIM capacitor 15 is formed including a lower electrode 12 formed of a barrier film such as Ta/TaN, a capacity insulating film 13 formed of a metal oxide film such as Al_2O_3, and an upper electrode 14 formed of a barrier film such as TiN.例文帳に追加

ＭＩＭキャパシタ形成領域Ａの第２の絶縁膜６には、Ｔａ／ＴａＮのようなバリア膜からなる下部電極１２とＡｌ_2Ｏ_3のような金属酸化膜からなる容量絶縁膜１３とＴｉＮのようなバリア膜からなる上部電極１４とを有するＭＩＭキャパシタ１５が形成されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing fine powder of hexagonal indium oxide or fine powder of hexagonal indium oxide containing tin, which are suitable for forming a sintered body for vacuum film deposition, by which an ITO film having a stable transparency and an excellent conductivity or a heat-shielding performance is obtainable, and suitable for a coating method or a method for dispersing in a resin as well.例文帳に追加

安定した透明性及び優れた導電性あるいは熱線遮蔽性を有するＩＴＯ膜を得ることのできる真空成膜用焼結体の形成に適し、かつ、塗布法あるいは樹脂中分散法にも好適な六方晶系酸化インジウム微粉末あるいは六方晶系スズ含有酸化インジウム微粉末の安定的な製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for producing a substrate 20 with an ITO transparent electrically conductive film in which an indium oxide vapor depositing material contg. tin oxide is irradiated with arc discharge plasma, and the vapor depositing material is evaporated to coat the surface of a transparent substrate 21 with an ITO film, the gas atmosphere is composed of the one contg. gaseous xenon, gaseous krypton or the gaseous mixture thereof.例文帳に追加

酸化錫を含有する酸化インジウム蒸着材料にアーク放電プラズマを照射して蒸着材料を蒸発させ、透明基板上にＩＴＯ膜を被覆するＩＴＯ透明導電膜付き基板の製造方法で、ガス雰囲気をキセノン、クリプトンまたはそれらを混合しガスを含むガス雰囲気とする。 - 特許庁

In the magneto-optical recording medium D having at least enhance layers 6, 10, a magneto-optical recording layer 8 and a protective layer 12 formed on a transparent substrate 2, the protective layer consists of a lubricating base film 12A containing at least one of tin oxide, zinc sulfide and zinc oxide and a silicon-based polymer lubricating film 12B.例文帳に追加

透明基板２上に、エハンス層６，１０と、光磁気記録層８と、保護層１２とが少なくとも形成された光磁気記録媒体Ｄにおいて、前記保護層を、粒径が所定の値になされた酸化チタン、酸化スズ、硫化亜鉛、酸化亜鉛の内、少なくとも１つを含んだ潤滑ベース膜１２Ａと、シリコン系高分子の潤滑膜１２Ｂとにより形成する。 - 特許庁

An anode foil having an oxide film layer formed on the surface and a cathode foil having a film of a metal nitride, a metal carbide, a metal carbonitride, carbon, indium tin oxide or an oxidation retardant conductive material formed previously on the surface are wound through a separator to form a capacitor element which is then subjected to restoration formation.例文帳に追加

表面に酸化皮膜層が形成された陽極箔と、予めその表面に金属窒化物、金属炭化物、金属炭窒化物、カーボン、インジウム酸化スズまたは酸化することの少ない導電性材料からなる皮膜を形成した陰極箔とを、セパレータを介して巻回してコンデンサ素子を形成し修復化成を施す。 - 特許庁

A substituted silane compound such as octadecyl silane is applied to a transparent conductive layer surface of such as indium tin oxide as a hydrolysable alcoholic solution and a molecular layer with thickness of essentially one molecule (the monomolecular film) is formed via a baking temperature cycle.例文帳に追加

オクタデシルシラン等の置換されたシラン化合物が、加水分解可能なアルコール溶液として、酸化インジウム・スズ等の透明導電層表面に適用され、ベーク温度サイクルを経て、実質的に１つの厚みの分子層（単分子膜）を形成する。 - 特許庁

Titanium tetrachloride, zirconium tetrachloride, silicon tetrachloride and tin tetrachloride are added to glycol or glycol alcohol to prepare a metallic glycol alcohol chelate solution, and this solution, as a surface treating agent, is applied, e.g. on metals such as nickel, cobalt, iron and brass or glass to form a metallic or metallic oxide film.例文帳に追加

四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化シリコン、四塩化錫をグリコールやグリコールアルコールに添加して、金属グリコールアルコールキレート液を作り、これを表面処理剤としてニッケル、コバルト、鉄、真鍮等の金属、ガラス等に塗布して、金属あるいは金属酸化物皮膜を形成する。 - 特許庁

The structure comprises: the aluminum substrate which is obtained by preparing a coating liquid containing a tin alkoxide and an antimony alkoxide, applying the coating liquid onto the aluminum substrate, drying the applied liquid and baking it; and the antimony-containing stannic oxide film formed right on the substrate.例文帳に追加

スズアルコキシド及びアンチモンアルコキシドを有するコーティング液を調製し、該コーティング液をアルミニウム基板上に塗布、乾燥、焼成することにより得られるアルミニウム基板及び該基板の直上に形成されるアンチモン含有酸化スズ膜を有する構造体により、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a resin composition for an adhesive having excellent pressure-sensitive adhesion and adhesion to a substrate such as polyethylene terephthalate (film), a polycarbonate sheet, a poly(amide)imide sheet, a flexible wiring board or glass or a material prepared by vapor depositing ITO (indium tin oxide) thereon.例文帳に追加

ポリエチレンテレフタレートシート（フィルム）やポリカーボネートシート、ポリ（アミド）イミドシート、フレキシブル配線基板、ガラスといった基材、あるいはこれらにＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を蒸着したものに対して、粘着性、接着性に優れる接着剤用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

An oxide-containing film containing at least one kind selected from the group comprising silicon, germanium, and tin is formed by a liquid phase method such as a liquid phase deposition method in a region coming in contact with an electrolyte out of the surfaces of the negative active material particles.例文帳に追加

この負極活物質粒子の表面のうち電解液と接する領域に、液相析出法などの液相法により、ケイ素，ゲルマニウムおよびスズからなる群のうちの少なくとも１種の酸化物を含む酸化物含有膜を形成する。 - 特許庁

Thus treated indium-tin oxide particles give a sunshine-screening film which, when the visible ray transmittance is 80% or higher, has a sunshine transmittance of lower than 70% and a haze value of lower than 1% in the wavelength range of 300-2,100 nm.例文帳に追加

また、日射遮蔽膜は前記方法により得られた日射遮蔽膜形成用インジウム錫酸化物微粒子からなり、可視光透過率８０％以上のときの波長域３００〜２１００ｎｍにおける日射透過率が７０％未満で、へイズ値が１％未満であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a liquid epoxy resin composition for a sealing filler imparted with a function comparable to the function attained by a flux treatment to remove the oxide film such as a bump electrode using a lead-free tin alloy solder and exhibiting desired resin properties also as an underfill (sealing filler).例文帳に追加

鉛フリー錫合金ハンダを利用するバンプ電極等の酸化皮膜を除去するフラックス処理と同等の機能をも付与され、アンダーフィル（封止充填剤）としても所望の樹脂特性を有する封止充填剤用液状エポキシ樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide an electrically conductive needle-like antimony tin oxide fine powder which has a high conductivity, is suppressed in the lowering of conductivity in an alkaline atmosphere, and is used for forming a coating film having a lowered surface resistivity, a heightened total light transmission, and a lowered haze value.例文帳に追加

導電性が高く、かつアルカリ雰囲気における導電性の低下が抑制される針状微粉末であって、この針状微粉末を用いた塗膜の表面抵抗率を低く、全光透過率を高くでき、かつヘーズ値を低下することができる針状酸化錫微粉末を提供する。 - 特許庁

A TiN film 25, whose adhesion to silicon oxide is stronger than W, is formed at the boundary of the bit line BL and the sidewall spacer 24 and functions as an adhesive layer preventing the boundary peeling of the bit line BL and the sidewall spacer 24.例文帳に追加

ビット線ＢＬとサイドウォールスペーサ２４との界面には、酸化シリコンに対する接着力がＷよりも大きいＴｉＮ膜２５が形成され、ビット線ＢＬとサイドウォールスペーサ２４との界面剥離を防止する接着層として機能している。 - 特許庁

The surface coating film comprises 10-90 mass% alloy of Cr, Mo, and Ni, 0.01-2 vol.% oxide of the alloy, and the balance being either one ceramic of TiB_2, CrB_2, TiC, TiN, WC and Cr_3C_2 and has a void content of 3 vol.% or lower.例文帳に追加

表面に、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｎｉの合金を１０〜９０質量％含有し、更に、体積％で０．０１〜２％の前記合金の酸化物を含有し、残部がＴｉＢ_２、ＣｒＢ_２、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＷＣ、Ｃｒ_３Ｃ_２のセラミックスのいずれかからなり、空隙率が３％以下である被膜を有する通電ロール。 - 特許庁

To provide a method for preparing carbon paste for screen printing of an counter electrode of a dye-sensitized solar cell, the carbon paste being capable of preparing a carbon counter electrode on FTO (Fluorine-doped Tin Oxide) glass by screen printing, forming uniform particles, and reducing the film thickness dependency of the counter electrode.例文帳に追加

スクリーン印刷によりＦＴＯガラス上にカーボン対極を作製する事ができ、粒子は均一となり、対極の膜厚依存性が小さくなる、色素増感太陽電池対極のスクリーン印刷用カーボンペースト作製方法を提供する。 - 特許庁

In the liquid droplet ejection head, a piezoelectric element 144 is constituted of a piezoelectric body 156 and electrode layers 158, 160 provided at the opposite end faces of the piezoelectric body 156 in its thickness direction, with each electrode layer 158, 160 having an insulating tin oxide film 162 and metal films 164, 166 in order from the piezoelectric body 156 side.例文帳に追加

圧電素子１４４は、圧電体１５６と、この圧電体１５６の厚み方向の両端面に設けられた電極層１５８、１６０と、で構成され、それぞれの電極層１５８、１６０は、圧電体１５６側から順に、絶縁性酸化錫膜１６２及び金属膜１６４、１６６を有している。 - 特許庁

The method for recovering the glass filter substrate for the color filter is characterized by releasing an ITO(indium tin oxide) conductive film from the color filter by bringing defective products of the color filter into contact with 8-50 wt.% sulfuric acid at 50-70°C.例文帳に追加

本発明のカラーフィルター用ガラスフィルター基板の再生方法は、カラーフィルター不良品を、５０〜７０℃の温度で、８〜５０重量％濃度の硫酸と接触させることにより、カラーフィルターからＩＴＯ導電膜を剥離させることを特徴とする。 - 特許庁

A hole injection electrode made of a transparent conductive film such as indium-tin oxide (ITO) is formed, and a hole injection layer, a hole transport layer 4, a first light-emitting layer 5a, a second light-emitting layer 5b, an electron transport layer 6 and an electron injection layer are formed in turn on the hole injection electrode.例文帳に追加

基板上にインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）等の透明導電膜からなるホール注入電極を形成し、このホール注入電極上に、ホール注入層、ホール輸送層４、第１の発光層５ａ、第２の発光層５ｂ、電子輸送層６および電子注入層を順に形成する。 - 特許庁

The optical laminate comprises an antistatic layer 3, an antiglare layer 2 and a low refractive index layer 1 in this order on a light transmissive base material 4, wherein the antistatic layer 3 is a resin thin film layer containing antimony-doped tin oxide and a matting agent and having a rugged shape on its surface.例文帳に追加

光透過性基材上４に帯電防止層３、防眩層２及び低屈折率層１を順に備えてなる光学積層体であって、上記帯電防止層３は、アンチモンドープ酸化錫及びマット剤を含有し、表面に凹凸形状を有する樹脂薄膜層である光学積層体。 - 特許庁

Thus, the piezoelectric element 144 is electrochemically stable within a wide pH range and is provided with the insulating tin oxide film 162 having a few conductive carriers, which, even under a high temperature and high humidity condition, enables restraining the electrochemical reaction when a strong electric field is applied and preventing the deterioration of the piezoelectric characteristics of the piezoelectric element 144.例文帳に追加

幅広いｐＨ範囲で電気化学的に安定であり、且つ導電キャリアが少ない絶縁性酸化錫膜１６２を備えているので、高温高湿下であっても、強電界が印加されたときの電気化学的反応を抑制でき、圧電素子１４４の圧電特性の劣化を防止できる。 - 特許庁

To prevent deterioration in the quality of flat glass products caused by the build-up of fused tin and its oxide liable to occur at the surface of a lift-out roll, a lehr roll or the like, which are used for molten glass manufacturing equipment and also to prolong the service life of a film formed on the surface.例文帳に追加

溶融ガラス製造設備として用いられるリフトアウトロール、レアロールなどの表面で発生しやすい、溶融すずやその酸化物のビルドアップに起因する板ガラス製品の品質低下を防止し、併せて表面に形成されている皮膜の長寿命化をはかる。 - 特許庁

The transparent conductive substrate 10 has a transparent conductor 12 consisting of a fluorine added tin oxide film with a specific resistance of 4.0×10^-4 Ωcm or less is arranged on one face 11a of a treating body 11 made of a transparent member.例文帳に追加

本発明に係る透明導電性基板１０は、透明部材からなる被処理体１１の一方の面１１ａに、比抵抗が４．０×１０^−４Ωｃｍ以下であるフッ素添加酸化スズ膜からなる透明導電体１２を配したことを特徴とする。 - 特許庁

The tin-platinum double oxide expressed by a general formula, Sn_XPt_(1-X)O_2 (0.6<X<0.99) and having a rutile structure is synthesized, for example, by sputtering SnO_2 and Pt at the same time in an inert sputtering gas containing oxygen to form a film.例文帳に追加

例えば、酸素を含有する不活性スパッタガス中でＳｎＯ_２とＰｔとを同時スパッタで成膜して合成することにより、一般式Ｓｎ_ＸＰｔ_（１−Ｘ）Ｏ_２（０．６＜Ｘ＜０．９９）で示されるルチル構造を有する錫・白金複酸化物を合成する。 - 特許庁

This transparent conductive thin film lamination comprises a substrate on which ITO(indium/tin oxide) is formed by sputtering, featuring that the thin films are amorphous in crystal structure and the specific resistance of the films is 5×10-4 Ωcm or less.例文帳に追加

基材上にＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）薄膜が積層された透明導電性薄膜積層体おいて、該薄膜の結晶形態が無定型であり、且つ該薄膜の比抵抗値が５×１０^−４Ωcm以下であることを特徴とする、スパッタリング法によって形成された透明導電性薄膜積層体。 - 特許庁

The transparent conductive substrate is obtained by performing formation of a transparent conductive film of indium oxide tin at 150°C or above on a cured surface of a three dimensionally bridged radical reactive resin composition wherein a flat plate-like inorganic material with a specific nature is distributed, suitably in particular, on the cured surface of an allyl ester resin composition.例文帳に追加

特定の性状を有する平板状の無機物質が分散しているラジカル反応性３次元架橋型樹脂組成物、特に好適にはアリルエステル樹脂組成物の硬化物表面に１５０℃以上で酸化インジウムスズなどの透明導電膜を成膜して得られた透明導電性基板。 - 特許庁