「チャンファ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

肩部２８に施されたチャンファホーニングのホーニング幅を、切刃２５に施されたチャンファホーニングのホーニング幅以下に設定する。例文帳に追加

A honing width of the chamfer honing applied to the shoulder part 28, is set to a honing width or less of chamfer honing applied to a cutting edge 25. - 特許庁

メモリディスク基板のチャンファー部角度の判別装置および方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR DETERMINING CHAMFER PART ANGLE OF MEMORY DISK SUBSTRATE - 特許庁

主ころ13は、チャンファ面51およびクラウニング面を有する。例文帳に追加

The main roller 13 has a chamfered surface 51 and a crowning surface. - 特許庁

このチャンファ１６の厚みｔ、ｔ´は、０．１０ｍｍ以上であり、チャンファの面取り角度θ、θ´は３０°〜６０°の範囲内であり、かつ、チャンファの厚みｔ、ｔ´はチャンファ面がオーバーコート層１４を有する被覆燃料粒子１２に接する時の厚みを上限値とする。例文帳に追加

Each thickness t, t' of the chamfers 16 is 0.10 mm or more, and each chamfering angle θ, θ' of the chamfers is in the range of 30°-60°, and the upper limit value of each thickness t, t' of the chamfers is the thickness when each chamfering face is brought into contact with the coated fuel particle 12 having an overcoat layer 14. - 特許庁

研磨部材２は、ワークＷの外周面Ｗａを研磨する円筒状の外周研磨面３ａと、ワーク表面チャンファ部Ｗｂを研磨する表面チャンファ部研磨面３ｂと、ワーク裏面チャンファ部Ｗｃを研磨する裏面チャンファ部研磨面３ｃとを有している。例文帳に追加

A polishing member 2 has: a cylindrical outer periphery polishing surface 3a for polishing the outer peripheral surface Wa of a work W; a surface chamfered part polishing surface 3b for polishing the work surface chamfered part Wb; and a back chamfered part polishing surface 3c for polishing the work back chamfered part Wc. - 特許庁

このチャンファ１６の厚みｔ、ｔ´は、０．１０ｍｍ以上であり、チャンファの面取り角度θ、θ´は３０°〜６０°の範囲内であり、かつ、チャンファの厚みｔ、ｔ´はチャンファ面が被覆燃料粒子１２Ａに接する時の厚みを上限値とする。例文帳に追加

Thickness t, t' of the chamfers 16 are 0.10 mm or more, chamfering angles θ, θ' of chamfers are within 30-60°, and the thickness t, t' of the chamfers 16 are set to make a thickness when a chamfer face contacts with the coated fuel particle 12A serve as an upper limit value. - 特許庁

また、完全山部にも同様のチャンファホーニングを施すのが好ましい。例文帳に追加

The similar chamfer honing is preferably applied to a complete mountain portion. - 特許庁

主表面とチャンファー面との間に曲面を設けても良い。例文帳に追加

A curved surface may be provided between the main surface and the chamfer. - 特許庁

突起電極形成ツール２の先端にチャンファー角度θを９０度以下とし、チャンファー径ｒを突起電極１の直径より大きくしてチャンファー２ａを形成する。例文帳に追加

A bump electrode forming tool 2 is tipped with a chamfer 2a with a chamfer angle θ of 90° or smaller and a chamfer diameter r is made larger than the diameter of a bump electrode 1. - 特許庁

アクチュエータでスリーブを駆動し、スリーブのチャンファをブロッキングリングのチャンファに係合させることで回転軸およびギヤの回転を同期させた後に、スリーブのチャンファをギヤのドグ歯に係合させてギヤを回転軸に結合する。例文帳に追加

After driving the sleeve by the actuator and engaging the chamfer of the sleeve with the chamfer of the blocking ring to synchronize the rotation of the rotation shaft with the rotation of the gear, the chamfer of the sleeve is engaged with the dog teeth of the gear to connect the gear with the rotation shaft. - 特許庁

また、チャンファ２６部分の逃げ角α_C が正の範囲で元の逃げ角αより小さくなるように、刃先２１側に部分的にチャンファ２６が設けられているため、面倒なチャンファ２６の研削加工領域が小さくなって製造コストが節減される。例文帳に追加

As the chamfer 26 is partially formed at a cutting edge 21 side to adjust a relief angle αC of the chamfer 26 part to be within a positive range and smaller than the original relief angle α, an area for troublesome grinding work, of the chamfer 26 is reduced, which reduces the manufacturing cost. - 特許庁

チャンファ１９は、主軸１０及びハブ１１とギア２０及び同期コーン２１との間に回転差があるとき、先端頂点１９ｈにてスリーブ１２のチャンファ１４のチャンファ面１４ａに当接してスリーブ１２の同期コーン２１側への変位を規制する。例文帳に追加

The chamfer 1, abutting to a chamfer surface 14a of a chamfer 14 of a sleeve 12 in the tip end vertex 19h when a difference of rotation is generated between a main shaft 10 and a hub 11 and between a gear 20 and a synchronous cone 21, regulates displacement to a side of the synchronous cone 21 of the sleeve 12. - 特許庁

チャンファー部がすぐれた疲労強度を有する銅合金製熱間型鍛造シンクロナイザーリング例文帳に追加

COPPER ALLOY-MADE HOT-DIE FORGED SYNCHRONIZER RING HAVING EXCELLENT FATIGUE STRENGTH IN CHAMFER PART - 特許庁

前記チャンファは、前記の回転角β_１及び切込量δ_１に基づいて形成される。例文帳に追加

The chamfer is formed based on the rotary angle β_1 and the cutting amount δ_1. - 特許庁

チャンファが形成された金属シリサイド層を備えた半導体素子の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT WITH CHAMFERED METALLIC SILICIDE LAYER - 特許庁

ガラスディスクのチャンファリング加工方法およびこれに用いるガラスディスク積層用治具例文帳に追加

GLASS DISC CHAMFERING METHOD, AND GLASS DISC LAMINATING JIG USED FOR THE SAME - 特許庁

第１ワークＷ１の接合面１に隣接してチャンファー部２を形成する。例文帳に追加

A chamfered area 2 is formed adjacent to the bonded surface 1 of the first work piece W1. - 特許庁

この手動変速機の同期機構において、同期リング１７のチャンファ１９は、外側に形成された第１チャンファ１９ａと、内側に形成されてその先端稜線１９ｆの軸方向の傾きが第１チャンファ１９ａの先端稜線１９ｅの軸方向の傾きより小さい第２チャンファ１９ｂとからなる。例文帳に追加

In this synchronous mechanism for the stick shift, a chamfer 19 of a synchronous ring 17 consists of a first chamfer 19a formed in an outer side and a second chamfer 19b formed in an inner side to decrease a tilt in the axial direction of a tip end ridge line 19f thereof smaller than a tilt in the axial direction of a tip end ridge line 19e of the first chamfer 19a. - 特許庁

さらに、下側チャンファ部を蒸気エリアに再浸漬することで下側チャンファ部に移動したウオータマークや異物の残留部部に対してドレーンにより下側チャンファ部の残留異物を流し落としかつ下側チャンファ部にできるであろうウオータマークの痕跡を除去して、再引き上げをしてディスクを乾燥する。例文帳に追加

By re-dipping the lower side chamfer part into a vapor area, residual foreign matters of the lower side chamfer part is washed down by drain to the residual part of the watermark and foreign matters moved to the lower side chamfer part, and trace of the watermark supposed to occur in the lower side chamfer part is removed to dry the disc by raising up again. - 特許庁

成形装置は、被加工体Ｗを塑性加工してその軸線Ｓ−Ｓ方向の一端面にチャンファＣを歯形に対応するように形成する複数のチャンファ形成部１１を有するチャンファ形成型１と、前記チャンファＣと対応して外周面に歯形を形成する歯形形成型と、を備えている。例文帳に追加

A forming equipment is provided with a mold 1 for forming chamfers that has multiple parts 11 for forming chamfers that form a chamfer C to meet tooth profiles on a surface of an edge of an axis line connecting S to S used when a body W is worked under plastic machining and with a mold for forming tooth profiles that form tooth profiles on a peripheral surface while corresponding with the chamfer C. - 特許庁

半導体ウエハなどの円板状ワークのチャンファ面を高精度で研磨加工し得るようにする。例文帳に追加

To give highly precise grinding machining to chamfered surfaces of a disc workpiece such as a semiconductor wafer. - 特許庁

外方部の切刃６ａに、丸め加工、チャンファ加工等を施し、その切削性を鈍化させる。例文帳に追加

Rolling and chamfering are applied to a cutting blade 6a of the outward part, so as to make a cutting property dull. - 特許庁

この発明は、凝縮されたディスクを下側チャンファ部からのみ滴下するような速度で冷却エリアに引き上げることで、ウオータマークや異物の残留を下側チャンファ部に移動させて冷却乾燥に入る。例文帳に追加

Watermark or foreign matter residue is moved to a lower side chamfer part for cooling drying by raising up a condensed disc to a cooling area at a speed of dripping only from the lower side chamfer part. - 特許庁

これ以降、前記と同様の手法により、その両端が図中符号Ｔ_１及びＴ_２であるチャンファ、更にはその両端が図中符号Ｔ_２及びＢ_３であるチャンファが形成される。例文帳に追加

Subsequently, a chamfer having both ends to be codes T_1 and T_2 in the figure and a chamfer having both ends to be codes T_2 and B_3 in the figure are formed by the same method. - 特許庁

複数枚のガラスディスクを同時にチャンファリング加工することができ、加工設備費及び加工時間の大幅な節減を可能とするガラスディスクのチャンファリング加工方法を提供する。例文帳に追加

To reduce product cost of a glass substrate by fastening and integrating a plural number of glass disc in accordance with intervals of grinding surfaces of grindstones for chamfering machining. - 特許庁

外周チャンファー面および内周チャンファー面のいずれをも鏡面状態に研磨することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing method for a glass substrate for an information recording medium, polishing both an outer peripheral chamfer surface and an inner peripheral chamfer surface to the mirror-finished state. - 特許庁

ＣＢＮチップ１６にて構成されているボール刃１８のすくい面２０側にチャンファ２２を設けるとともに、そのチャンファ２２の幅寸法Ａを、工具中心側から外周側へ向かうに従って大きくなるようにした。例文帳に追加

A chamfer 22 is set at a rake face side 20 of a ball blade 18 constituted of a CBN tip 16, and the width dimension A of the chafer 22 is made to be gradually increased towards the outer circumferential side from the tool center side. - 特許庁

透磁部材１７は断面四角形の半径方向外周側の両角部にチャンファ部２５が形成され，ステータ４の櫛部２０の両角部にチャンファ部２４が形成されている。例文帳に追加

A chamfered section 25 is formed at both the corner sections of the outer periphery side in the radial direction of a second quadrilateral in the magnetic permeation members 17, and a chamber section 24 is formed at both the corner sections of the comb section 20 of the station 4. - 特許庁

このチャンファ４に代えて刃先先端の前切れ刃角を８４度を上限にして後部側の前切れ刃角よりも大きくするチャンファを設けてもよい。例文帳に追加

A chamfer whose front cutting edge angle of the edge tip increases more than the front cutting edge angle in the rear part side by setting its upper limit to 84° may be provided as a substitute of the chamfer 4. - 特許庁

同期作用終了時におけるシンクロスリーブのスリーブチャンファとシンクロリングのリングチャンファとの再当接による二段入り現象を防止する。例文帳に追加

To prevent occurrence of a double-bump phenomenon by re-butting a sleeve chamfer of a synchronizer sleeve against a ring chamber of a synchronizer ring at the completion of a synchronous action. - 特許庁

磁性層を含む膜を形成するための表面（データ面）と、外周端面（ストレート面）との間に、チャンファー（面取り）面を有するガラス基板。例文帳に追加

This is a glass substrate, having chamfered surface (rounded surface corners) between the surface for forming films which includes a magnetic layer (data surface) and the outer end surface (straight surface). - 特許庁

半導体ウエハなどの円板状のワークの表面に段差を発生させることなくチャンファ面を加工し得るようにする。例文帳に追加

To perform machining of a chamfer surface without the occurrence of a step to the surface of a disc-form work, such as a semiconductor wafer. - 特許庁

チャンファを高精度に形成可能な円筒研削盤及びそれを用いた面取り加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cylindrical grinding machining capable of forming a chamfer with high accuracy and a chamfering method using the same. - 特許庁

該ガラス基板において、半径方向で外周のチャンファー面におけるダブオフ（Dub Off）が１２０Å以下である。例文帳に追加

The dub-off (Dub Off) in the outside chamfered surface is 120 Å or smaller in the radial direction. - 特許庁

該ガラス基板のデータ面とチャンファー面との間に、曲率が０．０１３〜０．０８０ｍｍのＲ面を設ける。例文帳に追加

Further, a rounded surface of a curvature 0.013-0.080 mm is provided between the data surface and the chamfered surface of this glass substrate. - 特許庁

同期装置のスリーブのチャンファがギヤのドグ歯に係合する際のショックや異音を低減する。例文帳に追加

To reduce shock and allophone at the time of the engagement of the chamfer of the sleeve of a synchronizer with the dog teeth of a gear. - 特許庁

この円筒形状の燃料コンパクト１０の上端及び下端の隅部１０ａには、チャンファ１６が形成されている。例文帳に追加

Chamfers 16 are formed on corners 10a of the upper end and the lower end of the fuel compact 10 having the cylindrical shape. - 特許庁

食い付き部の切れ刃にネガ角のチャンファホーニングを施した形状とし、切れ刃部の表面には硬質膜を被覆する。例文帳に追加

Negative-angle chamfer honing is applied to the cutting edge of a biting portion and a hard coating is applied to the surface of the cutting edge. - 特許庁

また、面取部２３のすくい面５側の角部２４に、面取部２３に沿って直線状にチャンファ２５を設けている。例文帳に追加

The corner part 24 on the cutting face 5 side of the chamfered part 23 is provided with a chamfer 25 formed linearly along the chamfered part 23. - 特許庁

チャンファホーニングの幅は食い付き部の切れ刃の切込深さ以上で切れ刃の直径の２０％以下とする。例文帳に追加

The width of the chamfer honing is not smaller than the cutting depth of the cutting edge of the biting portion and not greater than 20% of the diameter of the cutting edge. - 特許庁

簡単な構成で、チャンファ付歯形製品を、精度よく、容易に成形することができる歯形製品の成形方法および装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming articles of tooth profiles and its equipment with which articles of tooth profiles with chamfers are easily formed in a simple construction accurately and easily. - 特許庁

挿入孔の周囲全体にチャンファ面が形成されており、且つ、部品点数の増加を抑えられるコネクタハウジングを提供する。例文帳に追加

To provide a connector housing having a chamfered face formed over an entire periphery of an insertion hole and for suppressing an increase of the number of components. - 特許庁

フロントカバー部８１においては、挿入孔８１ｈの周囲全体に亘って四つのチャンファ面８１ｓが形成されている。例文帳に追加

In the front cover part 81, there are formed four chamfered faces 81s over an entire periphery of the insertion holes 81h. - 特許庁

この円筒形状の燃料コンパクト１０の上端及び下端の隅部１０ａには、チャンファ１６が形成されている。例文帳に追加

Chamfers 16 are formed in corner parts 10a of an upper end and a lower end in the cylindrical fuel compact 10. - 特許庁

またハウジング７の内周縁部には、接着剤溜り１１と繋がった内周チャンファ７ｆが設けられており、この内周チャンファ７ｆと軸受スリーブ８の間に形成される第１の縮径空間１２は接着剤１３で封止されている。例文帳に追加

Additionally, an inner circumferential chamfer 7f connected with the adhesive pool 11 is provided in an inner circumferential edge of the housing 7, moreover a first diameter contracting space 12, formed between this inner circumferential chamfer 7f and the bearing sleeve 8, is sealed by an adhesive 13. - 特許庁