「パターン密度」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

密度計算領域における設計パターンの面積密度を計算する（面積密度計算部４６）。例文帳に追加

The area density of a design pattern in the density calculation area is calculated (an area density calculating part 46). - 特許庁

そして、これらの複数のダミーパターン群は、ダミーパターンの密度、ダミーパターンの大きさ又はダミーパターン形状が異なる。例文帳に追加

In a plurality of the dummy pattern groups, density and scale or shape of the dummy patterns are different. - 特許庁

パターンデータ密度検査装置及び密度検査方法並びにパターンデータ密度検査プログラムが記憶された記録媒体例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR PATTERN DATA DENSITY INSPECTION AND RECORDING MEDIUM STORED WITH PATTERN DATA DENSITY INSPECTING PROGRAM - 特許庁

光触媒を用いて配線パターンを形成するので、配線パターンの高密度化が可能となる。例文帳に追加

Since the photocatalyst is used to form a wiring pattern, high density of the wiring patterns can be achieved. - 特許庁

高密度パターン化メディア上でサーボパターンを加工するための装置、方法、およびシステム例文帳に追加

APPARATUS, METHOD AND SYSTEM FOR FABRICATING SERVO PATTERN ON HIGH DENSITY PATTERNED MEDIA - 特許庁

参照パターン抽出部１０１１は、最も線密度が高い部分を第１の参照パターンとする。例文帳に追加

A reference pattern extraction part 1011 decides the part of the highest line density as a 1st reference pattern. - 特許庁

ダミーパターンと設計パターンとの密度を分割領域毎に算出する（ステップＳ３）。例文帳に追加

(Step S3) The density of the dummy pattern and the design pattern is calculated for every division region. - 特許庁

微細な高密度パターンを高精度に形成できるパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a pattern which can form a fine and high-density pattern with a high precision. - 特許庁

露光領域７以外のメンブレン膜１上にダミーパターン４を配置するととも、このダミーパターン４のパターンルール及びパターン密度を露光領域７のメンブレン膜１上に設けたＸ線吸収体パターン３のパターンルール及びパターン密度と実効的に等しくする。例文帳に追加

Dummy patterns 4 are arranged on a membrane film 1 except an exposure region 7, and the pattern rule and pattern density of the dummy patterns 4 is practically made equal to the pattern rule and pattern density of an X-ray absorber pattern 3 which is provided on the membrane film 1 in the exposure region 7. - 特許庁

該突起は、冷却効果が増すように、第一の密度のパターン及び第二のより高密度のパターンにて配置されている。例文帳に追加

The projections are arranged in a second pattern higher in density than a pattern of a first density so that a cooling effect is increased. - 特許庁

平面視したときの第２導電パターン１３２の面積密度は、第１導電パターン１３１の面積密度よりも小さくなるようにする。例文帳に追加

Area density of the second conductive pattern 132 is lower than that of the first conductive pattern 131 in the planar view. - 特許庁

算出された要素領域内のパターン密度を各製造工程上考慮する必要のある単位領域あたりの平均パターン密度に計算し直す。例文帳に追加

The calculated pattern density in the element region is recalculated to average pattern density per unit region required for considering each manufacturing process. - 特許庁

ポリゲートのレーザーアニーリングでパターン密度効果を低減する。例文帳に追加

To reduce the pattern density effect with poly-gate laser annealing. - 特許庁

高密度銅パターンを有したプリント配線板の製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD HAVING HIGH-DENSITY COPPER PATTERN - 特許庁

残された構造はレジスト・パターンよりも２倍の高密度を有する。例文帳に追加

The left structure has high density twice that of the resist pattern. - 特許庁

高密度磁気記録媒体パターンドメディアとその製造方法例文帳に追加

HIGH DENSITY MAGNETIC RECORDING MEDIUM PATTERNED MEDIA AND ITS PRODUCTION - 特許庁

片面に高密度凹状パターンを有する導光パネル。例文帳に追加

The light guide panel has a high-density concave pattern on one surface. - 特許庁

半導体基板においてダミーパターンの配置密度を高める。例文帳に追加

To increase arrangement density of a dummy pattern in a semiconductor substrate. - 特許庁

高密度微細パターンの短絡導線位置検出のための磁気センサ例文帳に追加

MAGNETIC SENSOR FOR DETECTING POSITION OF SHORT-CIRCUITED CONDUCTING WIRE OF HIGH DENSITY FINE PATTERN - 特許庁

高密度なインク流路形成用のパターンを高精度に形成する。例文帳に追加

To highly precisely form a pattern for forming a high density ink passage. - 特許庁

高密度に配置されるパターンを充分なプロセス裕度で転写する。例文帳に追加

To transfer the patterns arranged at high density with a sufficient process allowance. - 特許庁

配線パターンの高密度化に容易に対応することができる。例文帳に追加

To easily respond to densification of a wiring pattern. - 特許庁

確率密度関数を用いたパターン認識装置および方法例文帳に追加

PATTERN RECOGNITION DEVICE AND METHOD USING PROBABILITY DENSITY FUNCTION - 特許庁

加圧パターン部と非加圧パターン部の局部密度比（加圧パターン部／非加圧部）は３／２以上で、かつ、加圧パターン部の局部密度は０．０５ｇ／ｃｍ^3以上、好ましくは０．０７ｇ／ｃｍ^3以上である。例文帳に追加

The local density ratio of the pressurized pattern part and the non-pressurized pattern part (pressurized pattern part/non-pressurized pattern) is 3/2 or more while the local density of the pressurized pattern part should be 0.05 g/cm^3 or more, preferably 0.07 g/cm^3 or more. - 特許庁

本発明は、低印刷密度パターンから高印刷密度パターンまで、全ての印刷密度パターンに対し、かぶりおよび印刷濃度薄のない良好な印刷品質を得ることを課題とする。例文帳に追加

To obtain an excellent printing quality without causing fogging and a thin printing density over all printing density patterns from a low printing density pattern to a high printing density pattern. - 特許庁

配線間容量低減という要求から導き出される許容パターン密度と、研磨面の表面段差低減という要求から導き出される適正パターン密度とに基づいてパターン密度の修正値を決める。例文帳に追加

The correction value of pattern density is determined on the basis of allowable pattern density derived from the request of inter-wiring capacity reduction and proper pattern density derived from the request of surface step reduction on the polished surfaces. - 特許庁

電子線露光量に対応したパターン密度を有する複数個のダミーパターン部Ｂ、Ｃと、ダミーパターン部に近接して設けられた寸法測定パターン部Ａ、Ａ´と、を備えたことを特徴とする現像ローディング評価パターン。例文帳に追加

The development-loading evaluation pattern includes a plurality of dummy pattern parts B, C having pattern density corresponding to an electron beam exposure amount, and size measurement pattern parts A, A' provided in the vicinity of the dummy pattern parts. - 特許庁

配線などの実パターンに対し効果的に配置されたダミーパターン（実ダミーパターン）を具備し、所望のパターン密度を有する半導体装置及びそのような実ダミーパターンを配置する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device which is equipped with a dummy pattern (actual dummy pattern) that is effectively arranged to an actual pattern such as a wiring and as high in pattern density as required, and to provide a method of arranging the actual dummy pattern. - 特許庁

一方、マスク上の補正対象領域に対する設計パターン密度を算出し、この設計パターン密度に対応するマスクパターン密度の補正データを選択し、これに基づいて、補正対象領域の設計パターンデータに補正を行う。例文帳に追加

Design pattern density for a correction object area on the mask is computed and correction data for the mask pattern density corresponding to the design pattern density are selected to correct design pattern data of the correction object area according to the data. - 特許庁

マスクパターン密度ごとに、マスクパターンとこれを用いたフォトリソグラフィプロセスにより実際に得られるウエハ上のパターンとの比較より求めた、マスクパターンに必要な補正量を、マスクパターン密度ごとの補正データとして予め準備する。例文帳に追加

Correction quantities, needed for the mask pattern, which are found by comparing the mask pattern with patterns on the wafer actually obtained through the photolithography process using the mask pattern are prepared by mask pattern density as correction data by the mask pattern density. - 特許庁

硬化処理部７ｃでの体積密度は、配線パターンの硬化処理部以外の部位７ｄでの体積密度より高密度である。例文帳に追加

The volume density of the curing units 7c is higher than that of portions 7d of the wiring pattern except the curing units. - 特許庁

半導体基板１上にホールパターン６ｂおよびホールパターン６ｃを含むレジストパターン３ａを形成し、ホールパターンの分布密度が相対的に疎な領域Ｃのホールパターン６ｃを樹脂層パターン７ａで選択的に埋め込む。例文帳に追加

A resist pattern 3a including hole patterns 6b and a hole pattern 6c is formed on a semiconductor substrate 1, and a resin-layer pattern 7a is buried selectively in the hole pattern 6c of a region C wherein its distributive density is made low relatively to others. - 特許庁

前記補正された露光データＤ２００は照射を遮断する露光遮断パターンの位置とパターン密度を補正する密度補正パターンの位置を規定する情報とを含むように用意する。例文帳に追加

The corrected exposure data D200 includes the information which regulates the position of an exposure shut-off pattern to shut off irradiation and the position of a density correction pattern to correct the pattern density. - 特許庁

レチクルパターンの描画データに基づいて、描画領域のパターン密度ＰＤを算出し、該パターン密度に基づいてＰＥＢ処理工程における化学増幅型レジスト膜への加熱量を調節する。例文帳に追加

The pattern density PD in the drawing region is calculated based on the drawing data of the reticle pattern and the heating energy on the chemically amplifying resist film in the PEB treatment process is controlled based on the pattern density. - 特許庁

パターン密度が異なる複数の種類のパターンが存在する半導体基板の熱処理において、半導体基板温度のパターン密度依存性を低減することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which decreases dependence of temperature of a semiconductor substrate on a pattern density, in heat-processing the semiconductor substrate where multiple patterns with different pattern densities exist. - 特許庁

凹凸パターンが非一様な密度で形成された回折面１０ｃを有する回折光学素子１０において、形成密度の低い凹凸パターン１０ｃ−１ほどその凹凸パターンの平滑部の表面粗さを小さくする。例文帳に追加

In the diffraction optical device 10 having a diffraction surface 10c where the recessed and projecting pattern is formed with non-uniform density, the surface roughness of the smooth part of the recessed and projecting pattern is made smaller according as it is the recessed and projecting pattern 10c-1 having the lower formation density. - 特許庁

ここで、該擬似パターン３の密度および配置方向は、回路パターン２が配置される領域における回路パターン２の密度および配置方向と同一にする。例文帳に追加

Here, the density and arrangement direction of the dummy pattern 3 are equalized to the density and arrangement direction of the circuit pattern 2 in the region where the circuit pattern 2 is arranged. - 特許庁

同じ基板上にパターン密度またはパターン幅の相異なる多様な大きさ及び多様なピッチのパターンを同時に形成できる半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming fine patterning of a semiconductor device in which patterns differing in pattern density or pattern width and having various sizes and various pitches are formed on one substrate at the same time. - 特許庁

従来に比べてより一層の高密度化が可能なパターンドメディア、そのパターンドメディアを比較的容易に製造できるパターンドメディアの製造方法、及びそのパターンドメディアを用いた磁気記録装置を提供する。例文帳に追加

To provide a patterned medium with higher density than before, to provide a manufacturing method of the patterned medium by which the patterned medium can be comparatively easily manufactured and to provide a magnetic recording device using the patterned medium. - 特許庁

密度が所望の値となるように、分割領域毎のダミーパターンのパターンルールを、レイアウトパターン１ｄの分割領域拡大図Ｂのダミーパターン４ｂに示すように変更する（ステップＳ４）。例文帳に追加

(Step S4) The pattern rule of the dummy pattern for every division region is changed as shown in a dummy pattern 4b of a division region enlarged view B of a layout pattern 1d so that the density becomes a desired value. - 特許庁

ＣＶＤを使用することなく、被覆されたパターンを形成することが可能な被覆パターン形成方法およびこれを利用してより高密度なパターンを形成するパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a forming method of a coated pattern capable of forming a coated pattern without using CVD, and a forming method of a high density pattern using the method. - 特許庁

これにより、メタル層別に、メインパターン形態と方向性を考慮してダミーパターンが挿入され、より多くのダミーパターンが挿入されるようにし、パターンの密度を高める。例文帳に追加

Thus more dummy patterns are inserted in consideration of a configuration and orientation of the main pattern on respective metal layers to raise pattern density. - 特許庁

領域３１〜３４の各々についてパターン面積密度α_pを求め、マトリックスパターン又はＬ／Ｓパターンに変換し、隣り合う分割領域を互いにコンプリメンタリーなサブパターンとする。例文帳に追加

Obtain a pattern area density αp for each region 31-34, convert it into a matrix pattern or L/S pattern, and make adjacent divisions mutually complementary sub-patterns. - 特許庁

前記パターン密度とは、ウエハの全面積に対するパターンの合計の開口面積の割合（％）であり、前記変換差とは、レジストパターンの寸法と、得られたパターンの寸法との差である。例文帳に追加

The pattern density means a percentage of a total opening area of the pattern to a total area of a wafer, while the conversion difference means a difference between the dimensions of a resist pattern and dimensions of the obtained pattern. - 特許庁

従来品では、扇形状マグネットピース側面の延長線がマグネットローラ中心を通る為、複雑な磁束密度パターン（磁束密度ピークに対して非対称な磁束密度パターン）を形成することができない。例文帳に追加

To solve the problem of the conventional products being unable to form complicated magnetic flux density pattern (asymmetric magnetic flux pattern for magnetic flux density peak), because the extending line of the side surface of a sector type magnet piece passes the center of a magnet roller. - 特許庁