「堆積」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明の課題は、媒体各々の厚さに基づいて媒体を堆積させた媒体堆積部内の媒体の数を検出し、異なる厚さの媒体が媒体堆積部に堆積されていても、媒体堆積部内の媒体の数を補正することができる画像形成装置の提供にある。例文帳に追加

To provide an image forming device capable of detecting the number of media inside a medium stack part in which media are stacked based on the thickness of the respective media and of correcting the number of the media inside the medium stack part even when media having different thickness are stacked inside the medium. - 特許庁

加工物（１０９）上に材料を堆積させ、堆積前、堆積中および／または堆積後にレーザビーム（１１５）を使用して加工物（１０９）の温度を制御することによって加工物（１０９）を製造および／または修理するための、レーザビーム（１０３）を使用するレーザ堆積装置（１００）を提供する。例文帳に追加

A laser deposition apparatus (100) is provided which employs a laser beam (103) to manufacture and/or repair a workpiece (109) by depositing a material on the workpiece (109) and controlling a temperature of the workpiece (109) using a laser beam (115) prior to, during and/or after deposition. - 特許庁

そこで、ススが堆積し易い部位を監視するスス堆積検知手段１３を設けて、排ガスの光透過率や堆積したススの量を検出し、電子式制御装置（ＥＣＵ）１４のようなスス堆積判断手段によって所定値と比較することによりスス堆積の判断を行う。例文帳に追加

An accumulation detecting means 13 is arranged for monitoring a part where the soot is easily accumulated, a light transmittance and of exhaust gas and a rate of accumulated soot are detected, and soot accumulation is judged by comparing with a prescribed value by the means 13 such as an electric control unite (an ECU) 14. - 特許庁

ダムＤ等の水底等に堆積した堆積土砂１０に水中で直接に団粒化剤を圧送充填し、堆積土砂１０を団粒化しながら該堆積土砂を回収手段１２により回収することを特徴とするダム等の堆積土砂の回収処理方法から構成される。例文帳に追加

In this collecting treatment method for the deposited sediment in the dam, an aggregate agent is force-fed through water into the deposited sediment 10 deposited on the bottom of the dam D. - 特許庁

アッシュの堆積量の仮推定値ＭＡがアッシュの堆積量の仮推定値ＭＢよりも大きい場合には、アッシュの堆積量の仮推定値ＭＡとＭＢの間にあって、アッシュの堆積量の仮推定値ＭＢにより近い値をアッシュの堆積量の推定値Ｍとして算出する。例文帳に追加

When the temporary estimate value MA of the ash deposit quantity is larger than the temporary estimate value MB of the ash deposit quantity, a value nearer to the temporary estimate value MB of the ash deposit quantity between the temporary estimate values MA and MB of the ash deposit quantity, is calculated as an estimate value M of the ash deposit quantity. - 特許庁

アッシュの堆積量の仮推定値ＭＢがアッシュの堆積量の仮推定値ＭＡよりも大きい場合には、アッシュの堆積量の仮推定値ＭＡとＭＢとの間にあって、アッシュの堆積量の仮推定値ＭＡにより近い値をアッシュの堆積量の推定値Ｍとして算出する。例文帳に追加

When the temporary estimate value MB of the ash deposit quantity is larger than the temporary estimate value MA of the ash deposit quantity, a value nearer to the temporary estimate value MA of the ash deposit quantity between the temporary estimate values MA and MB of the ash deposit quantity, is calculated as the estimate value M of the ash deposit quantity. - 特許庁

本発明は、選択取水機能と堆積物排出機能を備えた、堆積物排出装置および堆積物排出設備を提案するものであり、一年を通じて活用できる稼動率の高い堆積物排出装置および堆積物排出設備を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a sediment discharge device and facility having a high availability utilizable throughout the year, in the sediment discharge device and the sediment discharge facility having the selective water intake function and the sediment discharge function. - 特許庁

堆積量算出装置は、パティキュレート・フィルタ前後の排気圧力の差に基づいてパティキュレート堆積量を算出する堆積量算出手段と、堆積量がリミット値以下であるとき、パティキュレートの堆積量としてゼロを選択する選択手段と、を備える。例文帳に追加

This deposit quantity calculating device has a deposit quantity calculating means for calculating the particulate deposit quantity on the basis of a difference in exhaust pressure before and behind a particulate filter, and a selecting means for selecting zero as the deposit quantity of particulates when the deposit quantity is a limit value or less. - 特許庁

本発明は、微粒子・クラスターを堆積基板の二次元面内における任意の位置、または任意の付着強度で捕集・堆積でき、かつ、堆積基板での不純物の発生を抑制し、堆積基板へ捕集・堆積された微粒子・クラスターの結晶性制御を効率良く行うことができる、微粒子・クラスターの捕集・堆積方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a method of scavenging and depositing a cluster of fine particles, which is capable of scavenging and depositing the cluster of fine particles at an optional position on the two-dimensional plane of a deposition board with an optional adhesive strength, restraining impurities from occurring in the deposition board, and efficiently controlling the crystallinity of the cluster of fine particles scavenged and deposited on the board. - 特許庁

第一気相堆積チャンバ２４において気相堆積を用いて基板５６上に半導体材料の層を堆積させる工程、次いで、堆積成長後及び前記チャンバ２４を開ける前に、前記第一堆積チャンバ中に残留している気相堆積原料ガスを減少させるために成長チャンバ２４から排気する工程を含む。例文帳に追加

A method includes a step of depositing a layer of a semiconductor material on a substrate 56 by using vapor deposition in a first vapor deposition chamber 24, and a subsequent step of evacuating the first deposition chamber 24 to reduce vapor deposition source gases remaining in the first deposition chamber after the deposition growth and prior to opening the chamber 24. - 特許庁

原子層堆積膜形成が、膜原料を基体上に堆積させて前駆体膜を形成する堆積工程と、前駆体膜を水蒸気酸化処理して原子層堆積膜とする酸化工程とを有している場合、原子層堆積膜形成の成否の判定を、堆積工程と酸化工程との間、または酸化工程の後に行うようにする。例文帳に追加

The result about the formation of the atomic layer deposition film is determined between an deposition process and an oxidation process, or after the oxidation process, when having the deposition process depositing a film raw material on the base to form a precursor film and the oxidation process for steam-oxidation-treating the precursor to form the atomic layer deposition film, in the formation of the atomic layer deposition film. - 特許庁

少なくとも１つの金属層、特に柔軟性プリント回路ボード用のプラスチックフォイルを具備するプラスチック基板を堆積するためのプロセスおよびウェブ堆積機器であって、堆積される該プラスチック基板の表面上に第１の層を堆積する前に、この表面の非堆積事前処置が実行されるプロセスおよびウェブ堆積機器に関する。例文帳に追加

Before a first layer is accumulated on the surface of the plastic substrate to be accumulated, non-accumulated advance treatment is executed. - 特許庁

第二堆積チャンバ２６から第一堆積チャンバ２４を分離して第一堆積チャンバ２４中に存在する反応体が第二堆積チャンバ２６における堆積に影響を及ぼさないようにしながら、また、成長停止効果を最小限に抑えるか又は排除する環境を維持しながら、基板５６を第二堆積チャンバ２６へと搬送する。例文帳に追加

The substrate 56 is transferred to a second deposition chamber 26 while isolating the first deposition chamber 24 from the second deposition chamber 26 to prevent reactants present in the first deposition chamber 24 from affecting deposition in the second deposition chamber 26 and while maintaining an environment that minimizes or eliminates growth stop effects. - 特許庁

選鉱滓堆積層の風化特性が，その堆積層における黄鉄鉱の酸化反応影響を明らかに証拠づけている。例文帳に追加

The weathering characteristics of the tailings deposits provide visual evidence of effects of pyrite oxidation in the tailings. - 英語論文検索例文集

そして、活性化された微粒子を半導体ウエハＷに堆積させることにより、堆積された各微粒子間に空間を有する多孔質膜を形成する。例文帳に追加

Then, the activated particulates are deposited on the semiconductor wafer W to form the porous film having space between the deposited particulates. - 特許庁

石英バーナ１０から燃焼ガス及びガラス原料を供給し、ガラス微粒子を生成し、堆積させて、ガラス微粒子堆積体を製造する。例文帳に追加

A combustion gas and a glass raw material are fed from the quartz burner 10, and glass particulates are formed and deposited to produce the glass particulate deposit. - 特許庁

金属膜を基材上に堆積させる方法は、超臨界プレクリーンステップ、超臨界脱着ステップ、および金属堆積ステップを含む。例文帳に追加

A method of depositing a metal film on a substrate includes a supercritical preclean step, a supercritical desorb step, and a metal deposition step. - 特許庁

エスカレーターのオイルパンに堆積した塵埃堆積物をより確実に除去するエスカレーターのオイルパン清掃装置を提供する。例文帳に追加

To provide an oil pan cleaning device for an escalator for more reliably removing dust deposit accumulated on an oil pan of the escalator. - 特許庁

微粒子堆積方法、微粒子堆積層多層構造の形成方法、及び、表示装置用スクリーンの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING PARTICULATES, METHOD FOR FORMING MULTILAYER STRUCTURE OF PARTICULATE DEPOSITION LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING SCREEN FOR DISPLAY DEVICE - 特許庁

それらの選択的に堆積する化学種は、半導体ウエハ及び/又はＣＶＤ基板のトレンチの側面と底面上に、より急速に堆積する。例文帳に追加

The chemical species that are selectively built up are more quickly built up on the side and bottom surface of a semiconductor wafer and/or a CVD substrate. - 特許庁

ダクト内を流れる第１の気体中の液体吸収性繊維を堆積部に堆積することにより吸収体を製造する装置である。例文帳に追加

A device manufactures the absorbent body by depositing the liquid absorbing fibers in a first gas flowing inside the duct on the deposition part. - 特許庁

Ｓｉ基板上にＧｅ薄膜をエピタキシャル成長させることによって堆積させた後、このＧｅ薄膜上にＴｉ膜を堆積させる。例文帳に追加

After Ge thin film is deposited by epitaxial growth on an Si substrate, a Ti film is deposited on the Ge thin film. - 特許庁

また、ガラス微粒子堆積体Ｇにフッ素を添加した後、そのガラス微粒子堆積体を焼結することで、透明なガラス体を製造する。例文帳に追加

Also a transparent glass body is produced by adding fluorine to the glass microparticle deposit G and then sintering the glass microparticle deposit. - 特許庁

有機性廃棄物が投棄、堆積された処分場において、堆積廃棄物から発生する硫化水素やメタンガスを有効に除去する。例文帳に追加

To effectively remove hydrogen sulfide and a methane gas generating from a deposited waste in a disposal site where organic waste has been disposed and is deposited. - 特許庁

順次堆積技術を使用して耐熱金属層を堆積させ核生成層を形成させる方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING NUCLEATION LAYER BY DEPOSITING REFRACTORY METAL LAYER USING SEQUENTIAL DEPOSITING TECHNIQUE - 特許庁

多管式ＥＧＲガス冷却装置の煤堆積防止方法及びその煤堆積防止機能を備えた多管式ＥＧＲガス冷却装置例文帳に追加

SOOT DEPOSIT PREVENTION METHOD OF MULTI-PIPE TYPE EGR GAS COOLING DEVICE, AND MULTI-PIPE TYPE EGR GAS COOLING DEVICE HAVING ITS SOOT DEPOSIT PREVENTION FUNCTION - 特許庁

酸化イットリウムの適切な堆積温度は、堆積圧力が１ミリバールから２ミリバールの間であるとき２００℃から４００℃の間である。例文帳に追加

Suitable deposition temperatures for yttrium oxide are between 200 to 400°C when the deposition pressure is between 1 and 2 mbar. - 特許庁

堆積システムのウェハ・スループットを増加させることにより製造コストを減少させる、イオン・ビーム堆積システムを得る。例文帳に追加

To obtain an ion beam deposition system which reduces a production cost by increasing the wafer throughput of a deposition system. - 特許庁

陰極堆積物を安定して製造することができ、また、陰極堆積物生成毎に電極を交換する必要がない。例文帳に追加

To provide a method for producing a carbon nanotube by which a cathode deposit can stably be produced and electrodes need not be exchanged for each production of the cathode deposit. - 特許庁

ナノ粒子を高いスループットにて堆積させるとともに、ナノ粒子の飛行方向を揃えることができるナノ粒子堆積装置を提供する。例文帳に追加

To provide a nanoparticle deposition apparatus capable of depositing nanoparticles with a high throughput and aligning flight directions of the nanoparticles. - 特許庁

酸化ランタンの適切な堆積温度は、堆積圧力が１ミリバールから２ミリバールの間であるとき１６０℃から１６５℃の間である。例文帳に追加

Suitable deposition temperature for lanthanum oxide is between 160 and 165°C when the deposition temperature is between 1 and 2 mbar. - 特許庁

ガラス微粒子堆積体の変形の発生を効果的に防止できるガラス微粒子堆積体の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a glass particulate deposit which is capable of effectively preventing the occurrence of the deformation of the glass particulate deposit. - 特許庁

絶縁膜４のエッチング中に堆積した堆積物２１を、イオン衝撃を用いないラジカルエッチングにより除去する。例文帳に追加

A deposit 21 deposited during etching of the insulating film 4 is removed by radical etching without ion impact. - 特許庁

水中泥状堆積物の水中汚濁防止剤、その使用方法、及び水中汚濁防止剤を用いた水中泥状堆積物処理方法例文帳に追加

UNDERWATER POLLUTION PREVENTING AGENT FOR UNDERWATER MUDDY DEPOSIT, METHOD FOR USING THE SAME AND TREATMENT METHOD FOR UNDERWATER MUDDY DEPOSIT USING UNDERWATER POLLUTION PREVENTING AGENT - 特許庁

層を堆積させている間、第１および第２の依存関係に基づいて、層の堆積時間が動的に決定される。例文帳に追加

On the basis of the first and second dependence relationships, a deposition time for the layer is dynamically determined during deposition of the layer. - 特許庁

捕集器の前後差圧に基づいて捕集器への排気微粒子の堆積量を推定する際の、堆積量の推定精度を向上させる。例文帳に追加

To improve estimating accuracy of a deposition quantity when estimating the deposition quantity of exhaust particulate to a collector on the basis of longitudinal differential pressure of the collector. - 特許庁

１００nmから１μｍの極細繊維を繊維と繊維のからみ合い間の長さが1μmから１０μmの間隔で堆積させた繊維堆積物。例文帳に追加

The fiber deposit is obtained by depositing ultrafine fibers having 100 nm size to 1 μm size so that the length of entanglement between fibers becomes 1 to 10 μm interval. - 特許庁

Ｓｉ_3Ｎ_4は、シラン（ＳｉＨ_4）とアンモニア（ＮＨ_3）を原料ガスとして化学気相堆積法により、６００〜１４００℃で基板上に堆積する。例文帳に追加

The Si3N4 is deposited on the substrate 11 at 600-1,400°C by a chemical vapor deposition method using a silane (SiH4) and ammonia (NH3) as raw material gases. - 特許庁

単位成膜処理は、Ｍｇ膜をスパッタ法により堆積する工程と、堆積されたＭｇ膜を酸化する工程と、を含む。例文帳に追加

The unit deposition processing includes a step for depositing an Mg film by sputtering, and a step for oxidizing the Mg film thus deposited. - 特許庁

この際、エッチングガス中のＦがエッチング種、Ｃ、ＣＦ、ＣＦ2、ＣＦ3等が堆積種として作用し、エッチングと堆積とが同時に進行する。例文帳に追加

F in the etching gas works as etching species and C, CF, CF2, CF3 or the like as deposition species in this case, and the etching and a deposition simultaneously progress. - 特許庁

堆積量センサ３８は、パティキュレートフィルタ２０の上流側端面のパティキュレート堆積量を検出する。例文帳に追加

The deposit quantity sensor 38 detects a particulate deposit quantity of the upstream side end surface of the particulate filter 20. - 特許庁

ターゲット陰極を有するスパッタ堆積システム内で層を堆積させるための方法および制御システムを提供する。例文帳に追加

To provide a method and control system for depositing a layer in a sputter-deposition system having a target cathode. - 特許庁

原料ガス中の原料を反応させることにより粒子を生成させ、前記粒子を基板上に堆積させる粒子堆積装置。例文帳に追加

The particle deposition apparatus is directed at forming particles by reacting raw materials in a source gas and depositing the particles on the substrate. - 特許庁

その後、同じ手法により、半導体基板の温度を２１０〜２８０℃に上昇させ、高い堆積率によって、銅薄膜を堆積する。例文帳に追加

Then, the temperature of the semiconductor substrate 1 is elevated to 210-280°C by the same method to deposit the copper thin film 4 at a high deposition rate. - 特許庁

第１の金属酸化物の層を堆積する工程は、１〜５回のＡＬＤサイクルを用いて、金属酸化物の層を堆積する工程を含んでもよい。例文帳に追加

The step of depositing the first metal oxide layer may include a step of depositing a metal oxide layer by using an ALD cycle one to five times. - 特許庁