「洗浄用金属」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

半導体又は液晶基板、太陽電池の製造過程で使用されるドライエッチング装置、ＣＶＤ装置などで使用される冶具に対して、この冶具に付着した金属を有効に洗浄する洗浄装置を実現すること。例文帳に追加

To provide a cleaning apparatus for effectively cleaning a metal stuck to a tool in the tool used in a dry etching apparatus, a CVD (chemical vapor deposition) apparatus, or the like, used in a process for manufacturing a semiconductor, a liquid crystal substrate or a solar battery. - 特許庁

当該変色防止剤は、カルボン酸濃度換算で１ｍｇ／Ｌ〜１０００ｍｇ／Ｌの水溶液に調製して、当該水溶液を金属の水洗浄処理の洗浄用水として使用する。例文帳に追加

The discoloration ionhibitor is prepared into an aqueous solution having a concentration of 1 to 1,000 mg/L expressed in terms of the carboxylic acid concentration, and is used as water for washing to water washing treatment for metal. - 特許庁

本発明に係る有機ハロゲン汚染物の除染方法は、有機ハロゲン化合物で汚染された有機ハロゲン化合物を洗浄剤で洗浄する有機ハロゲン汚染物の除染方法であって、前記洗浄剤として、アルカリ金属が存在した状態の有機溶媒を用いることを特徴とする。例文帳に追加

The method for decontaminating the organic halogen-containing contaminant washes the organic halogen compound contaminated with the organic halogen compound by the detergent, and uses an organic solvent containing an alkali metal as the detergent. - 特許庁

金属石けんスカムや皮脂などの汚れに対する洗浄力、洗浄時の起泡力及びすすぎ性に優れ、且つトリガースプレー容器でスプレーして使用したときの泡の付着性も良好な液体洗浄剤組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid detergent composition having excellent detergent power to the scum of a metallic soap and the stain of sebum, etc., and the foaming power and rinsing property in washing and exhibiting good adhesiveness of the foam in the case of spraying the composition from a trigger spray vessel. - 特許庁

従来の金属加工工程等において、洗浄工程とさび止め工程の二つの工程を一元化することが可能になるとともに、使用油管理の負担の低減を図ることができる、洗浄性とさび止め性を兼ね備えた洗浄兼さび止め油組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a cleaning/rust preventing composition having cleaning property and rust preventing property in combination and capable of unifying two steps of a cleaning step and a rust-preventing step into one step and reducing the load for the management of oil to be used in a conventional metal working process or the like. - 特許庁

Ｎａ，Ｋ，Ａｌ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ｃａ及びＭｇ等の金属不純物を容易かつ十分に除去することのできる石英ガラス治具又は該石英ガラス治具の製作工程途中の部材の洗浄方法及び該洗浄方法に好適に用いられる超音波洗浄装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for cleaning a quartz glass tool or a member during the production process of the quartz glass tool, by which metal impurities, such as Na, K, Al, Fe, Cu, Ca and Mg, can be easily and sufficiently removed; and to provide an ultrasonic cleaning device suitably used in the same. - 特許庁

キッチン、トイレ、床その他の構造物、自動車、その他各種の金属等の洗浄に使用されるクリーナーであって、洗浄効果の持続性に優れると共に、洗浄剤の塗布・含浸量を少量から多量まで自由に変更でき、ベタ付き感がなく、良好なドライタッチ感のあるクリーナーを提供する。例文帳に追加

To provide a cleaner for kitchen, lavatory, floor, other construction, car, various kind of metal products and so on, which has superior efficiency and durability for washing, is freely changeable detergent painting or impregnation quantity from small to large and brings not sticky, but favorable dry feeling. - 特許庁

金属イオン担持ゼオライトを０．５〜２０重量％含有することを特徴とする水洗トイレオンタンク用固形洗浄剤。例文帳に追加

The on-tank solid detergent for flush toilet is characterized by containing 0.5-20 wt.% metal ion-carrying zeolite. - 特許庁

スカムや鉄粉などの分散性を高めて、生産性を向上させる、金属用洗浄剤組成物の提供。例文帳に追加

To provide a detergent composition for metals that enhances dispersibility of scum, an iron powder or the like thereby increasing productivity. - 特許庁

金属の表面を洗浄する際、水素を溶解させて比抵抗が１ＭΩ／ｃｍを越える超純水を用いることが基本になっている。例文帳に追加

When the front surface of the metal is cleaned, it is fundamental to use ultrapure water whose resistivity exceeds 1 MΩ/cm by dissolving hydrogen. - 特許庁

レジスト膜剥離後の金属配線を有する基体の洗浄に、防食剤及び水を含有するリンス液を用いる。例文帳に追加

The rinse liquid containing an anticorrosive and water is used to clean the base having the metal wiring after resist film peeling. - 特許庁

酢酸、無機酸、フッ素化合物、及び純水を含む洗浄液及びこれを用いた金属パターンの形成方法である。例文帳に追加

The cleaning liquid contains acetic acid, inorganic acid, a fluorine compound, and deionized water, and the method for forming a metallic pattern uses the same. - 特許庁

一般に、本発明の物品は皮膚、金属、木材、ガラス、およびプラスチックを含む表面の洗浄または処理において有用である。例文帳に追加

Generally, the article is useful for washing or treating the surface of skin, metals, wood, glass, and plastics. - 特許庁

酸化剤、金属エッチング剤、および界面活性剤を含み、ｐＨが１０〜１４である半導体デバイス用洗浄液。例文帳に追加

The cleaning liquid for the semiconductor device contains an oxidant, a metal etchant, and a surfactant, and has a pH of 10-14. - 特許庁

半導体基板の洗浄に用いた超純水に含まれる極く僅かな金属元素を、多元素同時に且つ短時間で分析する。例文帳に追加

To analyze trace metal elements contained in ultrapure water used for washing of a semiconductor substrate, in a short time while a large number of elements are analyzed at the same time. - 特許庁

本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。例文帳に追加

The present invention also relates to a method for cleaning the multi-metal microelectronic device using the composition of present invention. - 特許庁

アミノカルボン酸型のキレート剤を含みスケールと金属石けんを共に除去する食器洗い乾燥機専用庫内洗浄剤組成物例文帳に追加

The detergent composition for the chamber inside dedicated to the dish washer/drier, removes both the scale and the metal soap, by containing an amino carboxylic acid type chelating agent therein. - 特許庁

水等の活性炭洗浄液の使用量を抑制しつつ活性炭からアルカリ金属を除去できる活性炭の高純度化方法の提供。例文帳に追加

To provide a method of highly purifying activated carbon in which alkali metals can be eliminated from activated carbon while suppressing the amount of liquid for cleaning activated carbon such as water. - 特許庁

電極に由来する金属不純物や固体微粒子の全くない洗浄用イオン水の製造方法とその製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for producing ionized water useful for cleaning, which ionized water is completely free from metal impurities caused from electrodes or solid fine particles. - 特許庁

前記固体分を洗浄するヨウ素含有水溶液として，前記液分中から金属イオンを除去した再生液を用いても良い。例文帳に追加

As the aqueous solution containing iodine for cleaning the solid content, a regenerated solution may be used which has been regenerated by removing a metallic ion from the above liquid content. - 特許庁

下記（Ａ）成分ないし（Ｅ）成分が、それぞれ次の割合で配合されてなることを特徴とする、金属用液体洗浄剤組成物。例文帳に追加

The liquid detergent composition for metal is characterized by formulating following components (A)-(E) in a respective ratio. - 特許庁

洗浄水を用いることなく、メダルの表面の凹凸模様や傷の窪みに溜まっている手垢や金属粉等の汚れを確実に除去する。例文帳に追加

To securely remove handling soil or stains of metal powder or the like collected in uneven patterns or cracks on the surface of a token without using washing water. - 特許庁

ポリアミンを採用して、金属表面に対する腐食防止効果が優れた腐食食防止剤、酸洗浄液を提供する。例文帳に追加

To provide an excellent corrosion inhibitor to a metal surface by adopting polyamines, and a pickling solution containg the polyamines. - 特許庁

導電性ペースト用の金属粉末に対する水もしくは有機溶剤による洗浄工程を備える。例文帳に追加

The method includes a washing process where the metal powder for the conductive paste is washed with water or an organic solvent. - 特許庁

防汚効果に優れ、しかも金属材料の腐食性にも問題のない硬質表面用防汚洗浄剤を提供する。例文帳に追加

To provide a stain-proof detergent for a hard surface, having excellent stain-proof effect and no corrosion problem of metallic materials. - 特許庁

金属処理材料に酸洗い液または洗浄液を噴射するための装置において、噴射管の実用寿命または運転時間を延長する。例文帳に追加

To prolong the practical service life or the operation time of an injection pipe in a device of spraying the pickling solution or the cleaning solution on a metal work. - 特許庁

特殊ポンプと遠心分離装置及び凝集沈降剤を使用した、重金属等により汚染された土壌の現地洗浄修復システム例文帳に追加

ON-SITE WASHING RESTORATION SYSTEM FOR SOIL POLLUTED BY HEAVY METAL OR THE LIKE USING SPECIAL PUMP, CENTRIFUGAL SEPARATOR, AND FLOCCULATING AND PRECIPITATING AGENT - 特許庁

本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。例文帳に追加

The multi-metal microelectronic device is cleaned by using the composition. - 特許庁

アルカリ剤（Ａ）と、特定の一般式（１）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルの少なくとも１種（Ｂ）とを含有する浸漬式金属洗浄用アルカリ洗浄剤組成物。例文帳に追加

The alkali detergent composition for dipping type metal cleaning comprises: (A) an alkali agent; and (B) at least one selected from polyoxyalkylene alkyl ethers represented by specified general formula (1). - 特許庁

また、半導体設置面２ａを有するセラミック製サセプター２を洗浄する方法であって、金属原子と錯体を形成する錯化剤を用いて洗浄することを特徴とする。例文帳に追加

Moreover, in the method for cleaning the ceramics susceptor 2 having the semiconductor setting surface 2a, a complexing agent to form a complex with the metal atom is used for the cleaning process. - 特許庁

重大な金属腐食を伴わずにマイクロエレクトロニクスのデバイスを洗浄するのに有用であり、ＩＬＤに適合する洗浄製剤を提供する。例文帳に追加

To provide cleaning compositions which are useful to clean microelectronic devices without any significant corrosion of metal and are compatible with ILDs. - 特許庁

半導体基板の表面にシミを発生させず、しかも、金属配線を溶出させることのない半導体基板の洗浄方法と、そのような洗浄に使用される半導体基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning method of a semiconductor substrate which does not make metal wiring be eluted without generating a spot on the surface of a semiconductor substrate, and to provide a semiconductor substrate processing device used for such cleaning. - 特許庁

半導体製造装置中で使用するためのセラミック部材を洗浄する方法であって、セラミック部材から半導体への金属移行量を大きく低減できるようなセラミック部材の洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for cleaning a ceramic component capable of significantly reducing the amount of metal transition from the ceramic component to a semiconductor for use in a semiconductor manufacturing apparatus. - 特許庁

急速冷凍機などの食品加工機などに使用されているアルミニウムなどの金属部材などの洗浄に好適な水性液体洗浄剤組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an aqueous liquid detergent composition suitable for use in cleaning aluminum which is used in a food processing machine such as a quick refrigerating machine. - 特許庁

重量平均分子量が５０００〜１０万であり、カチオン性モノマーに由来する構造単位を含む高分子化合物（Ａ）と、アルケニルコハク酸金属塩（Ｂ）とを含有する食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。例文帳に追加

The liquid detergent composition for a dishwasher contains a polymer compound (A) having a weight average molecular weight of 5,000 to 100,000 and a structural unit derived from a cationic monomer, and a metal salt of an alkenyl succinic acid (B). - 特許庁

半導体装置の製造の間にウェハの化学機械平坦化（ＣＭＰ）後の半導体ウェハの洗浄に関し、金属、特に銅、相互接続を含むウェハの後ＣＭＰ洗浄用アルカリ薬品を提供する。例文帳に追加

To provide an improved alkaline chemical for post-CMP cleaning of a wafer including metal, copper in particular and interconnection in relation to cleaning of semiconductor wafers after chemical mechanical polishing (CMP) during production of a semiconductor device. - 特許庁

高圧の洗浄液を用いずとも金属部材の表面の付着物を洗浄することができ、強固な防錆膜を形成することができる防錆膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a rust preventing film by which deposit on the surface of a metallic member is cleaned without using a high pressure cleaning liquid and a firm rust preventing film is formed. - 特許庁

金属濃度が０．１ｎｇ／Ｌ以下の超純水を安定して製造することができる超純水製造装置と、これを用いた超純水製造方法、電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ultrapure water production apparatus which can stably produce ultrapure water having a metal concentration of 0.1 ng/L or less, and an ultrapure water production method and a washing method and apparatus for electronic component members using the ultrapure water production apparatus. - 特許庁

洗浄水の不要時の運転でも金属不純物が溶出せず、通常運転再開始時からの立ち上がりが早く、補助電源不要の経済性が高い洗浄用電解水生成装置の運転方法を提供する。例文帳に追加

To provide a highly economical operation method not eluting metal impurities even in operation in requiring no washing water, rapid in rising from a point of time when usual operation is resumed and requiring no auxiliary power supply. - 特許庁

抄紙機のロール等の金属部材や、毛布、ワイヤー、フェルトなどの布部材等に発生する汚れを効果的に除去洗浄できる抄紙機用洗浄剤を提供する。例文帳に追加

To provide a detergent for a papermachine, capable of effectively removing and cleaning stain formed on a metal member such as a roll, a fabric member such as a blanket, a wire and a felt, and the like. - 特許庁

その結果、ＣＭＰ工程後のフッ酸を用いた洗浄工程において、洗浄液が、バリアメタル膜９とヴィアホール８の側壁との間の隙間を通って金属膜３内に染み込むことはない。例文帳に追加

As a result, in a cleaning step using a hydrofluoric acid after a CMP (chemical mechanical polishing) step, a cleaning solution can be avoid from passing through the gap between the film 9 and the side wall of the via hole 8 and being impregnated into the film 3. - 特許庁

ショットピ−ニングを用いて表面改質している機械加工業、および、部品洗浄を要する分野に好適な金属部品等の表面改質および洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of reforming and washing the surface of a metal component suitable to fields of surface reform machining using shot peening and of component washing. - 特許庁

従来の貴金属電極で生成した電解水を使用する洗濯機等より安価で洗浄効果の高い洗浄装置を提供する。例文帳に追加

To provide a washing machine at a lower price than that of a washing machine which uses an electrolyzed water produced by a conventionally used noble metal electrode or the like and with a higher washing efficiency than that of the former or the like. - 特許庁

金属板の種類や異物の性状等に対応した濾過機の濾過精度を変更可能にするのとともに、洗浄油を浄化して再利用を計ることができる洗浄システムを得る。例文帳に追加

To provide a cleaning system which can change the filtering accuracy of a filter corresponding to a type of a metal sheet and properties of foreign materials, and at the same time recycle a cleaning oil by clarifying it. - 特許庁

搬送ローラを有するガラス基板の洗浄装置において、搬送ローラに金属基複合材料を用いることにより部材の軽量化と高剛性化が同時に達成でき、高性能洗浄機が提供できる。例文帳に追加

In the glass substrate washing apparatus having a transportation roller, a metal-based composite material is used for the transportation roller to make the member lightweight and highly tough and thus a high-performance washing apparatus can be provided. - 特許庁