| 例文 (999件) |
生膜の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 18525件
形成する膜の物性を容易に制御でき、また、生産性良く膜の形成が可能な制御性の良い成膜装置を提供する。例文帳に追加
To provide a film forming device having high controllability which can easily control the physical properties of a film to be formed and can form a film with excellent productivity. - 特許庁
さらに、第２の平坦化膜を遮光膜７が酸化される温度よりも高い温度で成膜すれば、生産性の向上が図れる。例文帳に追加
Moreover, when the second flattened film 10 is formed at a temperature higher than the oxidizing temperature of the light shielding film 7, the productivity of the solid-state image pickup device can be improved. - 特許庁
膜厚プロファイルに変化が生じたときの異常検知を可能とした成膜装置及び成膜方法を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a deposition apparatus in which abnormality can be detected if a film thickness profile is changed, and to provide a deposition method. - 特許庁
ボイド等の発生を防止できるように凹部内に金属膜の成膜を施すことができる成膜方法である。例文帳に追加
To provide a film forming method and a film forming device capable of forming a metal film in a recess to prevent a void or the like from occurring. - 特許庁
基板の反り若しくは歪みが生じず膜厚の均一な膜が成膜される基板保持装置を与える。例文帳に追加
To give a substrate-holding device for forming a film, having a uniform film thickness without the occurrence of warpages or distortions of a substrate. - 特許庁
多層膜成膜における生産効率の低下を防止し、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供する。例文帳に追加
To provide a vacuum film forming device capable of preventing the reduction of the productive efficiency in multilayer film formation and preventing the increase of the dimensions of the device. - 特許庁
厚膜塗装による耐傷付き性に優れ、成型加工部の塗膜に熱クラックの発生がない塗膜を形成できる塗料組成物を得る。例文帳に追加
To obtain a coating material composition which gives excellent marring resistance by thick coating and can form a coating film free from the occurrence of thermal cracks on a film at a formed and processed part. - 特許庁
酸化皮膜形成後、皮膜形成時の温度より高温として皮膜５にひび割れ７を生じさせる。例文帳に追加
After the formation of the oxide film, a crack 7 is generated in the coating 5 at a temperature higher than that during the film formation. - 特許庁
発光部１５が位置する凹部１３が充填膜２７で充填されてから無機膜２８が形成されるので、無機膜２８に亀裂が生じない。例文帳に追加
A crack does not occurs in an inorganic film 28 because the inorganic film 28 is formed after a recess 13 in which a light-emitting part 15 is located is filled with a filling film 27. - 特許庁
低誘電率膜(Low-k膜、例えばSiOCH)において、膜ダメージを発生せず、高選択比で高精度なエッチングを実現可能な処理条件を提供する。例文帳に追加
To provide processing conditions under which a low-dielectric-constant film (Low-k film, e.g. SiOCH) can be etched at a high selection ratio with high precision without being damaged. - 特許庁
Ｃｕ埋め込み配線上へＰ−ＳｉＮ膜を成膜した時あるいは成膜した後におけるブリスタ不良の発生を防止する。例文帳に追加
To prevent blisters from being deposited in a P-SiN film, at or after the P-SiN film is deposited on a Cu embedded wiring. - 特許庁
該高融点金属膜の上層に、まず初期の第１段階では、ウイスカが発生しない条件領域で、Ａｌ系合金膜８を成膜する。例文帳に追加
First, in the initial first step, an Al alloy film 8 is formed on the region, on the condition that a whisker is not generated on the upper layer of said high-melting point metal film. - 特許庁
ＦＳＧ膜と反射防止膜との界面で膜剥がれが生じない半導体装置及びその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor device not generating peeling of a film at the interface between FSG film and anti-reflection film, and also to provide a method of manufacturing the semiconductor device. - 特許庁
これにより、反射膜Ｒの膜応力の作用により反射膜面４で生じた収差を抑制することができる。例文帳に追加
Thereby the aberration generated on the reflection film face 4 can be suppressed by the action of film stress of the reflection film R. - 特許庁
生産性を向上させつつ、基板上に成膜される膜の面内膜厚均一性を向上させることができる半導体製造装置を提供する。例文帳に追加
To improve uniformity of film thickness of a film formed on a substrate, while improving productivity. - 特許庁
ステンレス鋼の表面に、Sn系皮膜中のFeSnと、FeSn_2の薄膜Ｘ線回折ピーク強度比FeSn／FeSn_2が2.4以上を満足するSn系皮膜を生成する。例文帳に追加
An Sn-based film which satisfies a thin-film X-ray diffraction peak intensity ratio FeSn/FeSn_2 of FeSn to FeSn_2 in the Sn-based film of 2.4 or larger is formed on a surface of a stainless steel. - 特許庁
膜厚の大きく異なる薄膜状の被印刷物を、高生産性を維持したまま製造することが可能な薄膜形成装置を提供する。例文帳に追加
To provide a thin film forming apparatus producing a thin film printing material with greatly different film thicknesses while maintaining high productivity. - 特許庁
高機能性の薄膜を、生産性高く形成する薄膜形成方法、該薄膜を有する基材及び光学フィルムを提供する。例文帳に追加
To provide a forming method of a thin film wherein the thin film having high functionality is formed with high productivity, and also to provide a base having the thin film, and an optical film. - 特許庁
シワが発生していない状態の可撓性基板の表面に薄膜を良好な品質で成膜することができる薄膜製造装置を提供する。例文帳に追加
To provide equipment for manufacturing thin film capable of forming a thin film on the surface of a flexible substrate in the state of producing no wrinkles with preferable quality. - 特許庁
析出しためっき膜（金属膜）上にノジュールの発生が抑制された金属膜を有する積層体の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for manufacturing a laminate having a metal film that inhibits the formation of nodules on a precipitated plating film (metal film). - 特許庁
低トライボマイクロプラズマ発生ダイヤモンド状カーボン膜及び同膜をコーティングした摺動部品並びに同膜の形成方法例文帳に追加
LOW TRIBOMICROPLASMA GENERATION DIAMOND LIKE CARBON FILM, SLIDING PARTS COATED WITH THE SAME FILM, AND METHOD OF DEPOSITING THE FILM - 特許庁
窒化反応が良好で窒化物薄膜の生成に適し、かつ、スパッタリングイールドが高く成膜速度が高い成膜を行う。例文帳に追加
To provide a film-forming method which causes an adequate nitriding reaction, is suitable for producing a nitride thin film, and forms a film at a high sputtering yield and at a high film-forming speed. - 特許庁
処理槽内に浸漬した各膜ユニットの間で膜面の汚れ状況に偏りが生じ難く、膜ユニットの平均寿命を延ばすことができる。例文帳に追加
To produce few bias in a stain situation on a film surface among respective film units dipped in a treatment tank and to extend the average life of the film units. - 特許庁
汚染物質の発生を抑制することができる薄膜形成装置、薄膜形成装置の洗浄方法及び薄膜形成方法を提供する。例文帳に追加
To provide a thin film formation apparatus, a method for washing the thin film formation apparatus, and a thin film formation method, for suppressing the generation of contaminant. - 特許庁
常圧ＣＶＤ法により成膜されたＳｉＯ_2膜は、Ｓｉ−Ｈ結合や未結合手の発生が抑制された高品質のＳｉＯ_2膜である。例文帳に追加
The SiO_2 film formed by the normal-pressure CVD method is an SiO_2 film of high quality in which generation of an Si-H bond and a dangling bond is suppressed. - 特許庁
高パワー、高圧力条件で製膜しても、基板の反りが発生しない製膜装置及び製膜方法を提供する。例文帳に追加
To provide a film forming apparatus and a film forming method which do not generate warpage of a substrate even when a film is formed under the high power and high pressure conditions. - 特許庁
電子ビーム蒸着法にて蒸着しても、スプラッシュが殆ど発生せずかつ成膜されるＭｇＯ膜の膜特性の向上を図る。例文帳に追加
To provide an electron beam vapor deposition method, in which splash is hard to occur even on vapor deposition and the film properties of an MgO film to be deposited is improved. - 特許庁
電子ビーム蒸着法にて蒸着しても、スプラッシュが殆ど発生せずかつ成膜されるＭｇＯ膜の膜特性の向上を図る。例文帳に追加
To provide an electron beam vapor deposition method in which splashes are hard to occur even on vapor deposition, and the film properties of an MgO film to be deposited is improved. - 特許庁
副生成ガスによる成膜速度の低下を抑制することができる成膜装置及び成膜方法を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a film deposition device and depositing method for suppressing the deterioration of deposition speed by by-product gas. - 特許庁
磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド、記録再生分離型薄膜磁気ヘッド及び磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの製造方法例文帳に追加
MAGNETO-RESISTANCE EFFECT THIN-FILM MAGNETIC HEAD, RECORDING/REPRODUCING SEPARATION TYPE THIN-FILM MAGNETIC HEAD, AND MANUFACTURING METHOD OF MAGNETO-RESISTANCE EFFECT THIN-FILM MAGNETIC HEAD - 特許庁
基板上に配向膜を形成する際に、異物の発生を抑制し、配向膜を良好に形成できる成膜装置を提供する。例文帳に追加
To provide a film forming device where occurrence of foreign matters is controlled at the time of forming an orientation film on a substrate and the orientation film can sufficiently be formed. - 特許庁
前記眼内血管新生性疾患としては、虚血性増殖性網膜症、黄斑浮腫、加齢性黄斑変性症、血管新生緑内障、角膜血管新生及び脈絡膜血管新生等が挙げられる。例文帳に追加
The intraocular neovascularization disease includes ischemic proliferative retinopathy, macular edema, age-related macular degeneration, neovascular glaucoma, corneal neovascularization, and choroidal neovascularization. - 特許庁
一重項酸素発生膜の製造方法、該製造方法により製造した一重項酸素発生膜、及び該一重項酸素発生膜を用いた一重項酸素を発生する方法例文帳に追加
PRODUCTION METHOD OF SINGLET OXYGEN GENERATION FILM, SINGLET OXYGEN GENERATION FILM PRODUCED BY THE PRODUCTION METHOD, AND METHOD FOR GENERATING SINGLET OXYGEN USING THE SINGLET OXYGEN GENERATION FILM - 特許庁
強誘電体膜の評価方法は、一対の電極間に形成した強誘電体膜に電圧を印加して、強誘電体膜にリークを生じさせるリーク発生工程と、発生したリークの発生数を測定し、発生数に基づいて強誘電体膜の評価を行う評価工程とを備える。例文帳に追加
The method for evaluating the ferroelectric film includes a step of generating a leak in the ferroelectric film by applying a voltage to the ferroelectric film formed between a pair of electrodes, and a step of evaluating the ferroelectric film by measuring the number of generated leaks for evaluation based on the number of generated leaks. - 特許庁
介在する中間膜がイオン導電性膜と電子導電性膜とが反応した場合に生成すると考えられる反応生成物を含み、化学的に安定化した膜であるため、その両側に設けられたイオン導電性膜と電子導電性膜との反応が抑制される。例文帳に追加
Since this intervening middle film contains the reaction-generated thing considered to be generated when the ion conductive film and the electron conductive film react, and it is stabilized chemically, the reaction of the ion conductive film and electron conductive film, which are prepared in the both sides, is suppressed. - 特許庁
従って、ＩＴＯ膜４上の機能膜３に傷等が発生していた場合には、ＩＴＯ膜４をエッチングしてＩＴＯ膜４上の機能膜３を剥離したのち、再度、剥離した機能膜３を形成することで、眼鏡レンズ１を再生することができる。例文帳に追加
Accordingly when a flaw or the like occurs in the functional film 3 on the ITO film 4, the functional film 3 on the ITO film 4 is exfoliated by etching the ITO film 4 and then a spectacle lens 1 can be reproduced by forming the exfoliated functional film 3 again. - 特許庁
多層膜で構成され、前記多層膜は、積層方向に第一構成膜部分と第二構成膜部分とから成り、前記第一構成膜部分内に発生するモーメントの大きさを、前記第二構成膜部分内に発生するモーメントにより相殺して低減するように構成されている。例文帳に追加
The multilayer film element is composed of the multilayer film, which consists of 1st and 2nd composition film parts in a laminating direction; and moment quantity generated in the 1st composition film part is reduced by being canceled by moment generated in the 2nd composition film part. - 特許庁
本発明のウエハ処理は、半導体ウエハ２１に所望の厚さのメッキ膜２２を成膜し、次に、メッキ膜２２内にマイクロバブル２３が起因して発生したピット欠陥２４を消滅させるために、メッキ膜２５を成膜する（この際に、メッキ膜２５内には、新たなピット欠陥２７が発生している）。例文帳に追加
Plating films 22 of a desired thickness are deposited on the semiconductor wafers 21 and thereafter plating films 25 are deposited thereon in order to annihilate the pit defects 24 arising in consequence of microbubbles 23 in the plating films 22 (at this time, the fresh pit defects 27 are generated in the plating films 25). - 特許庁
基台１１の表面に導電膜１２を形成し、導電膜１２の上に保護膜１００を形成し、その後に溝１３を保護膜１００及び導電膜１２の双方に設けることによって、導電膜１２のバリ発生や酸化物の発生を防止できる。例文帳に追加
A conducting film 12 is formed on the surface of a base stand 11, a protective film 100 is formed on the film 12 and after that, grooves 13 are provided in both of the film 100 and the film 12, whereby the generation of burrs of the film 12 and the generation of an oxide in the film 12 can be prevented. - 特許庁
少なくとも分離膜と該分離膜の下方に気泡を発生させる散気装置とを備えた浸漬型膜分離装置を、微生物含有液に浸漬設置して、前記散気装置から発生する気泡を前記分離膜の表面に作用させて、分離膜表面を洗浄しながら前記微生物含有液を膜分離処理するに際し、前記散気装置を連続的または間欠的に動かす膜分離方法を特徴とする。例文帳に追加
In the membrane separation method, when membrane-separating the microorganism-containing liquid while cleaning the surface of the separation membrane, the air dispersion device is continuously or intermittently moved. - 特許庁
ダミーとなる犠牲被膜３を凹部に形成して、第１被膜２によって生じた凹凸を平滑化しておき、次に犠牲被膜３上に形成したい所望の第２被膜４を犠牲被膜３上に作製した後、犠牲被膜３を取り除くことで、不具合なく所望の被膜を形成することができる。例文帳に追加
The sacrifice film 3 to be a dummy is formed in the recesses and the unevenness caused by the first film 2 made flat and after the desired second film 4 to be formed on the sacrifice film 3 is formed on the sacrifice film 3, the sacrifice film 3 is removed to form a desired film without any problem. - 特許庁
本発明は、シート状のフレキシブル基材を真空中で繰返し成膜し、成膜中に成膜面がローラもしくはシートに触れることがなく、かつ膜厚及び膜組成が均一な成膜面の品質に優れる、生産性を向上した真空成膜装置を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a vacuum film deposition system where a sheet-shaped flexible base material is repeatedly film-deposited in a vacuum, the film deposition face is not contacted with rollers or a sheet in the process of the film deposition, and the uniform film thickness and film composition, the excellent quality in the film deposition face and improved productivity can be realized. - 特許庁
従来のＥＣＲプラズマ成膜装置における、成膜原材料として用いる炭化水素に起因する成膜室内における水素の発生およびそのＤＬＣ膜への混入を排除し、ＥＣＲプラズマ成膜法によるＤＬＣ膜の膜質を改善する。例文帳に追加
To exclude the generation of hydrogen in a film deposition chamber caused by hydrocarbon used as a film deposition raw material in the conventional ECR (Electron Cyclotron Resonance) plasma film deposition system and its intrusion into a DLC (Diamond Like Carbon) film, and to improve the film quality of the DLC film by an ECR plasma film deposition process. - 特許庁
炭素を主成分とする硬質膜（ＤＬＣ膜）を成膜するに際し、熱負けによる成膜ムラの発生を防止して、歩留のよい成膜を実現できる成膜装置および成膜方法並びに磁気記録媒体の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a film deposition apparatus and a film deposition method in which film deposition irregularities are prevented from being caused by heat puckering, and film deposition of excellent yield can be realized when depositing a hard film (DLC film) mainly consisting of carbon, and a method for manufacturing a magnetic recording medium. - 特許庁
光学薄膜に好適なＮｂ酸化膜をスパッタ成膜するにあたって、Ｎｂ酸化膜の成膜速度を向上させることによって、Ｎｂ酸化膜ひいては光学薄膜等の生産効率を高めることを可能にしたスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering target with which the production efficiency of an Nb oxide film and eventually an optical thin film etc., can be enhanced by improving the deposition rate of the Nb oxide film when the Nb oxide film appropriate for the optical thin film is deposited by sputtering. - 特許庁
成膜部品の相異なる複数の成膜面に対して相異なる仕様の成膜を同時に実施することができ、基板の片面のみに成膜を形成した場合に生起する基板の変形を防止し、成膜効率を向上する複数面同時薄膜成膜装置を提供する。例文帳に追加
To provide an apparatus for simultaneous deposition of thin films on tow or more sides, which apparatus can subject a plurality of deposition surfaces varying in deposition components to simultaneous deposition of different specifications and can improve deposition efficiency by preventing the deformation of a substrate to be induced when only the one side of the substrate is subjected to the deposition. - 特許庁
Al導電膜および透明導電膜を有する電子装置において、透明導電膜用のエッチャントによるAl導電膜の腐食の問題ならびにAl導電膜と透明導電膜との直接コンタクトによる電触発生の問題を、バリア膜を用いることなく解決すること。例文帳に追加
To solve a problem of corrosion of an Al conductive film by the etchant for a transparent conductive film and a problem of galvanic corrosion due to direct contact between an Al conductive film and a transparent conductive film in an electronic device having an Al conductive film and a transparent conductive film without using a barrier film. - 特許庁
結膜上皮細胞を用いることにより、結膜上皮細胞の角膜上皮細胞様への化生により高い治療効果が期待できる、角膜ないし結膜治療用培養シートおよびその作製方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a cornea or conjuctive curing cultured sheet by which a high curing effect is expected by the metaplasia of conjuctiva epitheliocyte into a cornea epitheliocyte state through the use of epitheliocyte, and to provide its manufacturing method. - 特許庁
本発明の糖尿病網膜症治療剤は、糖尿病網膜症、特に増殖糖尿病網膜症における血管新生を有意に抑制することから糖尿病網膜症、特に増殖糖尿病網膜症の治療に用いることができる。例文帳に追加
The therapeutic agent for diabetic retinopathy is useful for treating diabetic retinopathy, especially proliferating diabetic retinopathy since it significantly controls vascularization in diabetic retinopathy, especially proliferating diabetic retinopathy. - 特許庁
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