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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 60 patternの意味・解説 > 60 patternに関連した英語例文

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60 patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 497



例文

An alignment layer 52 for aligning the liquid crystal 50 is formed on the pattern electrodes 58 and 60.例文帳に追加

パターン電極58、60の上には、液晶50を配向させるための配向膜52が形成されている。 - 特許庁

In this case, nitrogen discharged from the resist pattern 60 into a film formation atmosphere is doped in the tantalum film 13.例文帳に追加

その際、レジストパターン60から成膜雰囲気中に放出された窒素は、タンタル膜13にドープされる。 - 特許庁

An element shape pattern which is formed every working partition of a print mask material 60 is specified based on working shape data relating a kind, a dimension and a forming position on the print mask material 60 of a working shape which composes a working pattern incorporated in design data (garber data) of the working pattern formed in the print mask material 60.例文帳に追加

印刷マスク材60に形成する加工パターンの設計データ(ガーバーデータ)に含まれる該加工パターンを構成する加工形状の種類、寸法及び印刷マスク材60上での形成位置に関する加工形状データに基づいて、印刷マスク材60の各加工区画ごとに形成する要素形状パターンを特定する。 - 特許庁

In the mold making method of the mold for full mold casting using the lost foam pattern, kneaded sand having 60-90° sand dropping resistant angle is filled up into the recessed part of the pattern.例文帳に追加

消失模型を使用するフルモールド鋳造用鋳型の造型法において、該模型の凹部に耐砂落ち角度が60〜90°の混練砂を充填する。 - 特許庁

例文

The end of a resist barrier rib pattern 60 of the barrier rib is extended as a resist extension pattern 62 to an area, to which barrier rib material layer 61 is not formed.例文帳に追加

次に隔壁のレジスト隔壁パターン60の端部を隔壁材料層の形成していない領域までレジスト延長パターン62として延長する。 - 特許庁


例文

For example, when a dry film resist 60 is negative, the pattern of the light transmissive region 201a of the mask 201 corresponds to only part of a (designed) prescribed pattern of the dry film resist 60 to be left after exposure and development.例文帳に追加

例えば、ドライフィルムレジスト60がネガ型の場合、マスク201の透光部201aのパターンは、露光現像後に残存させるべき(設計上の)ドライフィルムレジスト60の所定パターンの一部のみに対応する。 - 特許庁

An insulating layer 20 is formed on the insulating substrate 10 so as to surround all periphery of the center contact pattern 50, the periphery contact pattern 70 is formed on the insulating layer 20 including the upper part of the first extraction pattern 60, and the thickness of the first extraction pattern 60 is formed thinner than the thickness of the insulating layer 20.例文帳に追加

絶縁基板10上に中央接点パターン50の全周を囲むように絶縁層20を形成し、且つ外周接点パターン70は、第一引出パターン60の上部をも含む絶縁層20上に形成され、さらに第一引出パターン60の厚みは絶縁層20の厚みよりも薄く形成されている。 - 特許庁

The IC chip 60 has an outer edge at a position beyond outer edges of the first wiring pattern and the second wiring pattern in the wiring layer 110 to inhibit the leakage of the electromagnetic field from both the wiring pattern.例文帳に追加

ICチップ60は、配線層110における第1配線パターンおよび第2配線パターンの外縁を越えた位置に外縁をもち、両配線パターンからの電磁界の漏洩を抑制する。 - 特許庁

The pattern control means 60 retransmits the lamp control command LCi to the lamp control means 75.例文帳に追加

図柄制御手段60は、最新に送信したランプ制御コマンドLCiをランプ制御手段75に再送信する。 - 特許庁

例文

A score detecting part 33 refers to a score dictionary 31a and detects the score 60 by pattern recognition.例文帳に追加

楽譜検出部33は、楽譜辞書31aを参照してパターン認識によって楽譜60を検出する。 - 特許庁

例文

A traffic monitoring means 60 monitors the traffic in the node A and compares it with a traffic pattern every IP address.例文帳に追加

トラフィック監視手段60は、ノードA中のトラフィックをIPアドレス毎に監視しトラフィックパターンと比較する。 - 特許庁

A gas flow rate of 60 L/min is used to process a substrate formed with a pattern having an aspect ratio of 2.2 or higher.例文帳に追加

アスペクト2.2以上のパターンが形成された基板に対して、気体流量60L/minで処理を行う。 - 特許庁

In breakdown evaluation pattern 60, these contact holes 68, 70 are arranged symmetrically to the centerline.例文帳に追加

耐圧評価用パターン60は、これらのコンタクトホール68、70が中心に対して線対称に配置してある。 - 特許庁

A pen nib 69a of an electronic pen 60 points out the position on the medium 50 on which a code pattern image is formed.例文帳に追加

電子ペン60のペン先69aは、コードパターン画像が形成された媒体50上の位置を指示する。 - 特許庁

The plurality of light emitting elements 60 are connected by each of the plurality of conductive pattern division pieces 12a to connect the plurality of light emitting elements 60 in series.例文帳に追加

複数の導電パターン分割片12aのそれぞれによって複数の発光素子60間を連結することにより、複数の発光素子60を直列接続する。 - 特許庁

A particle kind setting part 60 sets a printing particle for dot formation and an empty particle for blank formation based on the printing pattern designation by an operation part 7.例文帳に追加

粒種設定部60は、操作部7による印写パターンの指定に基づいて、ドット形成のための印写粒と空白形成のための空白粒とを設定する。 - 特許庁

A method for forming wiring pattern includes a first step of providing a catalyst 60 in an exposed state in the forming area of a wiring pattern and a second step of forming the wiring pattern with a conductive material 30 by performing electroless plating for depositing the material 30 on the exposed area of the catalyst 60.例文帳に追加

触媒60を配線パターンの形成領域で露出させて設ける第1工程と、前記触媒60の露出領域に導電材料30を析出させる無電解メッキを行い、前記導電材料で前記配線パターンを形成する第2工程と、を含む。 - 特許庁

An insulating resin film 20 is placed on the open shaping die 10, a pattern following pressurizing medium 60 attached on a frame member 61 is pressed onto the insulating resin film 20 and an uneven micro-pattern is transferred to the insulating resin film pressed by the pattern following pressurizing medium 60.例文帳に追加

開放成形型10上に絶縁樹脂フィルム20を配備させ、枠材61に取り付けられたパターン追従加圧媒体60を絶縁樹脂フィルム20に向けて押圧させて、パターン追従加圧媒体60による加圧成形によって、凹凸状の微細パターンを絶縁樹脂フィルム20に転写させる。 - 特許庁

The pattern correction apparatus for correcting the pattern formed on the color filter 60 is provided with a baking mechanism 3 for locally heating the ink applied to the defective portion 15 of the pattern on the color filter 60 by using the radiant heat H.例文帳に追加

またパターン修正装置は、カラーフィルタ60上に形成されたパターンを修正するパターン修正装置であって、カラーフィルタ60上におけるパターンの欠陥部分15に塗布されたインクを輻射熱Hにより局所的に加熱するための焼成機構3を備えている。 - 特許庁

The pattern correction method for correcting the pattern formed on a color filter 60 comprises a heating step of locally heating ink applied to the defective portion 15 of the pattern on the color filter 60 by using radiant heat H from a heating element 7.例文帳に追加

パターン修正方法は、カラーフィルタ60上に形成されたパターンを修正するパターン修正方法であって、カラーフィルタ60上におけるパターンの欠陥部分15に塗布されたインクを発熱体7からの輻射熱Hにより局所的に加熱する加熱工程を含んでいる。 - 特許庁

A pattern control means 60 receives a control command from a main control means 50, outputs a control command to a lamp control means 75 and a sound control means 80, and sends a retransmit command to the pattern control means 60 when a transmission error of a lamp control command LCi sent from the pattern control means 60 occurs in the lamp control means 75.例文帳に追加

図柄制御手段60は、主制御手段50から制御コマンドを受けて、ランプ制御手段75 とサウンド制御手段80に制御コマンドを出力し、ランプ制御手段75において、図柄制御手段60から送信されたランプ制御コマンドLCiの送信エラーが発生したとき、再送信指令を図柄制御手段60に送信する。 - 特許庁

A pattern electrode 60 as a common electrode is formed on the transparent substrate 55 and a pattern electrode 58 comprising a plurality of annular pattern electrodes 30 and draw-out wirings 35 from the annular pattern electrodes 30 is formed on the transparent substrate 56.例文帳に追加

透明基板55には共通電極としてパターン電極60が形成され、透明基板56には、複数の輪帯パターン電極30と、各輪帯パターン電極30からの引き出し配線35とからなるパターン電極58が形成されている。 - 特許庁

Moreover, the wiring pattern of one surface of the cable is connected to one surface of each of the printed circuit boards 60 and 62 and the wiring pattern of the other surface is connected to the other surface of each of them.例文帳に追加

また、ケーブルの一面の配線パターンがプリント基板(60、62)の一面側に接続され、他面の配線パターンがプリント基板の他面側に接続される。 - 特許庁

When the photomask 60 is irradiated with the first irradiation light, a trench pattern can be formed by the exposure; and when the photomask is irradiated with the second irradiation light, a contact hole pattern can be formed by the exposure.例文帳に追加

フォトマスク60に第1照射光を照射すれば、トレンチのパターンを露光でき、第2照射光を照射すればコンタクトホールのパターンを露光できる。 - 特許庁

A heat buffer pattern 60 and a heat radiation pad 61, etc., dedicated to heat radiation are provided in an area with no circuit pattern 40, etc., required for power supply and signal transmission.例文帳に追加

電力供給や信号伝達のために必要な回路パターン40等が空いているところに放熱専用の熱バッファパターン60や放熱パッド61等を設ける。 - 特許庁

On the basis of the result of selecting the test mode, the test pattern is emitted from a pattern producing circuit 60 synchronously with the external clock exck, and the test for the semiconductor memory 20 is conducted.例文帳に追加

このテストモード選択結果に基づき、パターン生成回路60から、外部クロックexckに同期してテストパターンが出力され、半導体メモリ20のテストが行われる。 - 特許庁

Consequently, when the green sheets are stacked and baked, deformation by the wiring pattern 41 and deformation by the dummy pattern 60 cancel each other in the sixth-layer green sheet 56.例文帳に追加

そのため、グリーンシートを積層して焼成するとき、第六層グリーンシート56は配線パターン41による変形とダミーパターン60による変形とが互いの変形を相殺する。 - 特許庁

A sealing position regulating pattern 100 and a sealing waviness regulating pattern 90 are formed in a periphery of at least one substrate of two substrates 50, 60 constituting a liquid crystal cell.例文帳に追加

液晶セルを形成する2枚の基板50・60の少なくとも1つの基板の周囲にシール位置制御パターン100及びシールうねり制御パターン90を形成する。 - 特許庁

A mirror drive control part 48 reads out an Hadamard modulation pattern from a drive pattern storage part 50 to incline the respective mirror elements, and makes reflected light get into reception parts 60, 62.例文帳に追加

ミラー駆動制御部48は、駆動パターン記憶部50からアダマール変調パターンを読み出して各ミラー素子を傾斜させ、受信部60、62に反射光を入射する。 - 特許庁

If a second pattern (110) is formed by using an SOG film, a hard mask pattern (111) having a pitch of 30 nm can be formed by using ASML1400 ArF DRY equipment that has, for example, a resolution ability of 60 nm.例文帳に追加

SOG膜による第2パターン(110)を形成すれば、例えば、60nmの解像能力を有するASML1400 ArF DRY装備を用いて30nmのピッチを有するハードマスクパターン(111)を形成できる。 - 特許庁

The controller 80 controls the DC/DC converter 60 at low-efficiency operation in a switching pattern in which a reactor current falls rather than in a switching pattern at normal operation.例文帳に追加

コントローラ80は、DC/DCコンバータ60を通常運転時のスイッチングパターンよりもリアクトル電流が低下するスイッチングパターンで低効率運転時に制御する。 - 特許庁

In order to sense a main scanning length difference between respective laser beams, a pattern for compensation is formed by a forming speed of 1/(beam quantity), and the pattern for compensation is sensed by a photo-sensor 60.例文帳に追加

各レーザビームの主走査長差を検知するために、補正用パターンを1/(ビーム数)の形成速度で形成し、フォトセンサ60で補正用パターンを検知する。 - 特許庁

According to the mask pattern of the mask composed of the coagulated coating material 40, the copper foil 60 is etched for patterning.例文帳に追加

そして、凝固した塗布剤40で構成されるマスクのマスクパターンに基づいて銅箔60をエッチングしてパターニングする。 - 特許庁

A first illumination optical system 10 includes a first light source part 11 for illuminating the eye 60 with the luminous flux of a prescribed pattern.例文帳に追加

第1照明光学系10は、被測定眼60に所定パターンの光束を照射する第1光源部11を含む。 - 特許庁

And, the printing means Q forms the pattern 60 separately for the beam A and B.例文帳に追加

および、前記印字手段Qは、前記色味検知パターン60をビームA、B別々に形成するカラー画像形成装置。 - 特許庁

A focus detection pattern having repeated contrasts is projected onto a receiving plane 60A of the CCD line sensor 60.例文帳に追加

そして、コントラストが繰り返される焦点検出用パターンを、CCDラインセンサ60の受光面60Aに投影する。 - 特許庁

Then the resist film 102 after pattern exposure is baked by a hot plate at 105°C for 60 seconds.例文帳に追加

その後、パターン露光が行なわれたレジスト膜102に対して、ホットプレートにより105℃の温度下で60秒間ベークする。 - 特許庁

Breakdown evaluation pattern 60 has a pair of sources 62 (62a, 62b) and a pair of drains (64a, 64b).例文帳に追加

耐圧評価用パターン60は、一対のソース62(62a、62b)と一対のドレイン64(64a、64b)とを有する。 - 特許庁

An electrode pattern 70 and an auxiliary layer 60 by ceramic paint are printed on one surface of a ceramic paint layer 51.例文帳に追加

セラミック塗料層51の一面上に、電極パターン70と、セラミック塗料による補助層60とを印刷する。 - 特許庁

The physical ground patterns 60 and the like are insulated electrically from a signal ground pattern 50 and the like by a gap 70.例文帳に追加

フィジカルグランドパターン60等は、隙間部70によってシグナルグランドパターン50等に対して電気的に絶縁されている。 - 特許庁

A waist panel unit 60 has a picture pattern sheet case 61 while being detachably mounted on the cabinet of the game machine.例文帳に追加

腰部パネルユニット60は、絵柄シートケース61を有するとともに、遊技機筐体に対して着脱可能となっている。 - 特許庁

The gate use aluminum wiring pattern 54 includes a frame part 55 surrounding the MOS transistor aggregate section 51 and a plurality of gate upper side extension wire parts 60-1 to 60-4(60-n) traversing the frame part 55 in a direction of Y1-Y2.例文帳に追加

ゲート用アルミ配線パターン54は、MOSトランジスタ集合部51を囲む枠部55と、この枠部55をY1−Y2方向に横切る複数のゲート上面延在配線部60−1〜60−4(60−n)とを有する。 - 特許庁

Signal transmission boards 13, 14 are formed by providing a signal transmission pattern 61 and a ground pattern 62 that are double-ring- shaped onto a ring form printed circuit board 60, and a feeding point 63 is provided at a plurality of positions of the signal transmission pattern 61 and the ground pattern 62.例文帳に追加

信号伝送基板13,14を、リング形状のプリント基板60上に二重リング形状の信号伝送パターン61と接地パターン62を設けて形成し、各信号伝送パターン61と接地パターン62には複数箇所に給電点63を設ける。 - 特許庁

When a pattern for separating by color is formed at an installation place 60, a concrete layer 61 is removed and asphalt pieces 1 are arranged in the section where the concrete layer is removed at the installation place 60 merely.例文帳に追加

設置場所60に色分け模様を形成する場合に、その設置場所60においては、コンクリート層61を除去し、その除去した箇所にアスファルト片1を並べるだけで良い。 - 特許庁

The multilayered printed board 100 is formed by laminating a plurality of one-sided conductor pattern films 21 each having a plurality of divided product areas 60 and slits between the areas 60 upon another and heating and pressurizing the laminate.例文帳に追加

区画された複数の製品領域60が形成された片面導体パターンフィルム21において、その区画された製品領域60の間にスリット30を形成する。 - 特許庁

A rotation sensor repeats the detection of the position of the lock holder 60 in the rotational direction to output a similar sensor pattern a plurality of times while the lock holder 60 makes one turn.例文帳に追加

回転センサは、ロックホルダ60が1回転する間に、ロックホルダ60の回転方向の位置の検出であって同様のセンサパターンを出力する検出を複数回繰り返す。 - 特許庁

After an adhesive tape T is applied to a substrate W on which a resist pattern is formed, pressurized air is supplied into a chamber 60 by a pressure pump 34 to form a pressurized atmosphere in the chamber 60.例文帳に追加

レジストパターンが形成された基板W上に粘着テープTを貼付けた後、加圧ポンプ34からチャンバー60内へ加圧空気を供給して、チャンバー60内を加圧する。 - 特許庁

Work control data for driving and controlling an aperture mask 40 and a print mask material 60 are generated so that an optical pattern corresponding to the specified element shape pattern is irradiated onto a prescribed working partition on the print mask material 60.例文帳に追加

この特定した要素形状パターンに対応する光パターンが印刷マスク材60上の所定の加工区画に照射されるようにアパーチャーマスク40及び印刷マスク材60を駆動制御するための加工制御データを生成する。 - 特許庁

In the case of forming a lower electrode of a wire or a non-linear element by a tantalum pattern 13x containing nitrogen, a nitrogen-contained resist pattern 60 having an inverted pattern of the tantalum pattern is formed on a substrate 20x in a resist pattern formation process, and then a tantalum film 13 is formed on the substrate 20x in a film formation process.例文帳に追加

配線や非線形素子の下電極を窒素含有のタンタルパターン13xにより形成するにあたって、レジストパターン形成工程において、タンタルパターンの反転パターンを有する窒素含有のレジストパターン60を基板20x上に形成した後、成膜工程において、基板20x上にタンタル膜13を成膜する。 - 特許庁

例文

The POD server 60 converts the first print data into image data, and performs impartment of an image ID and allocation of the dot pattern.例文帳に追加

さらに、PODサーバ60は第1印刷データを画像データに変換し、画像IDの付与及びドットパターンの割当を行う。 - 特許庁




  
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