ACID-FORMINGの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1976件
The method for manufacturing a polyimide benzooxazole film comprises a first process of forming a polyamic acid by reacting aromatic diamines with a benzooxazole structure and aromatic tetracarboxylic anhydrides, a second process of coating a substrate with a solution containing the polyamic acid and drying it, to obtain a green film, and a third process of heat-treating the green film by the below described two stages.例文帳に追加
ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸無水物類とを反応させてポリアミド酸を得る第1の工程と、ポリアミド酸を含む溶液を支持体上に塗布し乾燥してグリーンフィルムを得る第2の工程と、グリーンフィルムを下記の2段階で熱処理する第3の工程とを含む、ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの製造方法。 - 特許庁
The method further comprises steps of removing a part included in the region 52 of the first insulating film 13A, and forming a second gate insulating film 15B, made of an acid nitride film having a thickness smaller than that of the first film 13A on the region 52 by heat-treating the substrate 11 in an acid nitride atmosphere.例文帳に追加
次に、第1のゲート絶縁膜13Aの第2の素子形成領域52に含まれる部分を除去し、半導体基板11に対して酸窒化性雰囲気で熱処理を行なうことにより、第2の素子形成領域52上に膜厚が第1のゲート絶縁膜13Aよりも小さい酸窒化膜からなる第2のゲート絶縁膜15Bを形成する。 - 特許庁
The chemically amplified photoresist composition used for forming a thick film photoresist layer of 20-150 μm thickness on a support comprises (a) a resin whose alkali solubility is varied by the action of an acid and (b) an N-sulfonyloxyimide compound which generates an acid upon irradiation with a radiation.例文帳に追加
支持体上に、膜厚20〜150μmの厚膜ホトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物であって、(a)酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂及び(b)放射線照射により酸を発生するN−スルホニルオキシイミド化合物を含有する厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物。 - 特許庁
This polyester resin produced by performing a polycondensation through an esterification or ester interchange reaction of a dicarboxylic acid component consisting mainly of terephthalic acid or its ester-forming derivative with a diol component consisting mainly of ethylene glycol is provided by exhibiting ≤50% haze of a molded material produced by an injection molding at 270°C measured at 5 mm thickness.例文帳に追加
テレフタル酸又はそのエステル形成性誘導体を主成分とするジカルボン酸成分と、エチレングリコールを主成分とするジオール成分とを、エステル化反応或いはエステル交換反応を経て重縮合させることにより製造されたポリエステル樹脂であって、270℃で射出成形した成形体のヘーズが厚さ5mmにおいて50%以下であるポリエステル樹脂。 - 特許庁
This organic wastewater treatment system includes a receiving tank 1 to which the wastewater is supplied, a methane fermentater 3 connected to the receiving tank 1 for fermenting the wastewater to methane, an acid forming tank 8 connected to the receiving tank 1 in parallel with the methane fermentater 3 for hydrolizing and fermenting the wastewater to acid to form a hydrogen doner required for the denitrification.例文帳に追加
有機性廃水処理システムは、廃水が供給される受入槽1と、受入槽1に接続され、廃水をメタン発酵するメタン発酵槽3と、受入槽1にメタン発酵槽3と並列に接続され、廃水を加水分解および酸発酵して、脱窒処理に必要な水素供与体を生成する酸生成槽8を備えている。 - 特許庁
The above scratching flaws exhibit an anchor effect in performing silver mirror plating to enhance the adhesion property of the silvering layers and therefore the need for forming anchor holes at the resin parts by performing etching by a chromic acid is eliminated and the resin parts of the urethane themselves and the boundaries between these resin parts and the build-up welding are prevented from being damaged by the chromic acid.例文帳に追加
銀鏡メッキを行う際に前記擦り傷がアンカー効果を発揮して銀メッキ層の密着性が高められるので、クロム酸によるエッチングを行って樹脂部品にアンカー孔を形成する必要がなくなり、ウレタン製の樹脂部品自体や、その樹脂部品と肉盛りとの界面がクロム酸により損傷するのを防止することができる。 - 特許庁
The method further comprises steps of removing a part included in the region 52 of the first insulating film 13A, and forming a second gate insulating film 15B made of an acid nitride film having a thickness smaller than that of the first film 13A on the region 52 by heat-treating the substrate 11 in an acid nitride atmosphere.例文帳に追加
次に、第1のゲート絶縁膜13Aの第2の素子形成領域52に含まれる部分を除去し、半導体基板11に対して酸窒化性雰囲気で熱処理を行なうことにより、第2の素子形成領域52上に膜厚が第1のゲート絶縁膜13Aよりも小さい酸窒化膜からなる第2のゲート絶縁膜15Bを形成する。 - 特許庁
To put it concretely, the alkoxylated product is obtained as follows: in an alkoxylation reaction, first of all, alkylene oxide, epoxy functional alkoxysilane, a glycidyl compound and/or lactone are added in an optional order by optional selection; and in the final alkoxylation step, a monosilanol forming compound, isocyanate, or annular or straight-chained carboxylic acid or its acid anhydride are reacted therewith.例文帳に追加
具体的には、アルコキシル化反応において、まず、任意選択により、アルキレンオキシド、エポキシ官能性アルコキシシラン、グリシジル化合物および/またはラクトンを任意の順で付加させ、最終アルコキシル化工程において、モノシラノール形成化合物、イソシアネート、または環状もしくは直鎖状カルボン酸もしくはその酸無水物と反応させたアルコキシ化生成物。 - 特許庁
This composition for forming a light scattering film is obtained by including (A) a copolymer of (a1) at least one carboxylic acid compound selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic acid anhydrides, (a2) an unsaturated compound containing an epoxy group and (a3) an olefinically unsaturated compound other than the compounds (a1) and (a2) and (B) resin particles.例文帳に追加
(A)(a1)不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも1種のカルボン酸化合物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物および(a3)前記化合物(a1)および(a2)以外のオレフィン性不飽和化合物の共重合体、並びに(B)樹脂粒子を含有する光散乱性膜形成用組成物。 - 特許庁
Before a step (a step S3) for forming a liquid film of sulfuric acid on a surface of a wafer W, while the wafer W is in high velocity revolution, the sulfuric acid is supplied to a center of the wafer W in high velocity revolution and all over the surface of the wafer W is in a wet state (a step S1 and a step S2).例文帳に追加
ウエハWの表面に硫酸の液膜を形成する工程(ステップS3)に先立って、ウエハWが高速回転されつつ、その高速回転しているウエハWの表面の中央部に硫酸が供給されることにより、ウエハWの表面の全域が硫酸によって湿潤した状態にされる(ステップS1,S2)。 - 特許庁
Here, the compressed rubber layer 2 is constituted by organic peroxide bridge forming substance of rubber component formed by blending short fibers of 5 to 50 pts.wt. containing PBO short fibers of 5 to 40 pts.wt. and methacrylic acid ester and/or acrylic acid ester of 0.1 to 10 pts.wt. into ethylene-α-olefin rubber of 100 pts.wt. containing ethylene of 40 to 70 wt%.例文帳に追加
ここで圧縮ゴム層2は、エチレン含量が40〜70重量%のエチレン・α−オレフィンゴム100重量部に対して、PBO短繊維を5〜40重量部含む短繊維が5〜50重量部、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステルが0.1〜10重量部配合されたゴム組成物の有機過酸化物系架橋物で構成される。 - 特許庁
There is provided a method for nucleic acid amplification, which comprises a step for forming a water-in-oil emulsion to prepare multiple aqueous microreactors provided by emulsifying nucleic acid templates, beads and an amplification reaction solution; a step for amplifying nucleic acids in the microreactors to form copies; and a step for bonding the amplified copies to the beads in the microreactors.例文帳に追加
油中水型エマルジョンを形成して、核酸鋳型、ビーズおよび増幅反応溶液が乳化された複数の水性マイクロリアクターを作製する段階;前記マイクロリアクター中で核酸を増幅してコピーを形成する段階;増幅されたコピーを前記マイクロリアクター中の前記ビーズに結合させる段階、を含む核酸の増幅方法。 - 特許庁
To obtain a black matrix forming material which allows curing reaction to proceed sufficiently up to the interface between the material and a substrate and has a wide development latitude even if the concn. of a black pigment is high by incorporating an alkali-soluble resin, an acid crosslinkable methylolated melamine compd., a photo-acid generating agent, a specified dispersant and the black pigment.例文帳に追加
黒色顔料が高濃度であっても、基板界面まで充分硬化反応が進行し、現像の許容度が広く、成分の混合、塗布、乾燥工程だけでは硬化反応は進まず、露光部と未露光部の現像液に対する溶解性のコントラストが充分大きいカラー液晶表示装置用ブラックマトリックス形成材料を提供すること。 - 特許庁
The cosmetic comprises (A) at least one or more kinds selected from nicotinic acid, a nicotinic acid derivative, nicotinic alcohol, a nicotinic alcohol salt, (B) at least one or more kinds selected from the group consisting of a monosaccharide and an oligosaccharide and (C) one or more kinds selected from the group consisting of water-soluble film-forming polymers.例文帳に追加
(A)ニコチン酸、ニコチン酸誘導体、ニコチニックアルコール、ニコチニックアルコール塩から選ばれる少なくとも1種以上と、(B)単糖及びオリゴ糖からなる群から選択される少なくとも1種以上と、(C)水溶性の皮膜形成性高分子からなる群より選択される1種以上とを含有することを特徴とする化粧料である。 - 特許庁
The moisture-proof laminate is produced by forming a moisture-proof layer containing a swelling inorganic laminar compound and a copolymer obtained by copolymerizing an aromatic vinyl monomer, an aliphatic conjugated diene monomer and an unsaturated fatty acid monomer and containing the unsaturated fatty acid monomer accounting for 5-40 mass% of the total monomer components on the surface of a paper substrate.例文帳に追加
あるいは、芳香族ビニル系単量体、脂肪族共役ジエン系単量体、及び不飽和脂肪酸単量体を共重合して得られた、不飽和脂肪酸単量体が全単量体成分の5〜40質量%である共重合体と、膨潤性無機層状化合物を含む防湿層を、紙支持体表面に設けた防湿積層体。 - 特許庁
There is provided the organic electronic device including a conductive polymer and high resistance buffer layers containing a plurality of nanoparticles dispersed therein, where the nanoparticles are selected from an organic polyacrylic acid, a carbon nanotube, a colloid forming sulfonic acid nanoparticle and a group consisting of these mixtures.例文帳に追加
本発明は、導電性ポリマーと、そこに分散した複数のナノ粒子とを含む高抵抗バッファー層を含むことを特徴とする有機電子デバイスであって、 前記ナノ粒子が、有機ポリアクリル酸、カーボンナノチューブ、およびコロイド形成スルホン酸ナノ粒子ならびに、これらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする有機電子デバイスである。 - 特許庁
Such a semiconductive resin sheet can be obtained by casting a film-forming solution containing a polymic acid and a polyaniline in a dedoped state on to a substrate to form a layer of the above solution on the substrate, heating the layer of the solution to form a resin sheet on the substrate, subsequently peeling the resin sheet from the substrate, and then heating the sheet to imidate the polyamic acid.例文帳に追加
このような半導電性樹脂シートは、ポリアミド酸と脱ドープ状態のポリアニリンとを含む製膜溶液を基材上にキャステイングし、基材上に上記溶液の層を形成し、加熱して、基材上に樹脂シートを形成し、次いで、その樹脂シートを基材から剥離した後、加熱して、ポリアミド酸をイミド化させることによって得ることができる。 - 特許庁
The thin laminated polyimide film is constituted by forming a nonmetal thin film layer by dry plating on a polyimide film used as a base material, which is composed of polyimide having at least pyromellitic acid residue as a residue of an aromatic tetracarboxylic acid and a diaminodiphenyl ether residue as a residue of an aromatic diamine, and characterized in that a degree of curling after heat treatment at 300°C is 10% or below.例文帳に追加
ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてピロメリット酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてジアミノジフェニルエーテル残基を有し、かつフィルムの300℃熱処理後のカール度が10%以下であるポリイミドフィルムを基材として使用し、その上に乾式めっきで非金属の薄膜層を形成した薄膜積層ポリイミドフィルム。 - 特許庁
The method of manufacturing the solar battery includes: a step of applying the alcoholic solution of phosphorous acid to a p-type semiconductor substrate by the inkjet method so that the dots of the alcoholic solution of the phosphorous acid partially overlap; and a step of forming the n-type diffusion layer of a different phosphor concentration on the p-type semiconductor substrate by thermally diffusing phosphor.例文帳に追加
リン酸のアルコール溶液のドットが一部重なり合うようにリン酸のアルコール溶液をインクジェット法によりp型半導体基板に塗布する工程と、リンを熱拡散させることによりp型半導体基板上にリン濃度の異なるn型拡散層を形成する工程とを備えることを特徴とする太陽電池の製造方法である。 - 特許庁
Impurities are removed from an electroless tin plating solution by performing electroless tin plating on copper or a copper alloy using the electroless tin plating solution containing thiourea or a thiourea compound and then forming deposits through the addition of benzenesulfonic acid or a benzenesulfonic acid hydrate, or a salt thereof to the electroless tin plating solution.例文帳に追加
チオ尿素又はチオ尿素化合物を含有する無電解スズめっき液を用いて銅又は銅合金に無電解スズめっきを行った後、前記無電解スズめっき液にベンゼンスルホン酸もしくはベンゼンスルホン酸水和物又はこれらの塩を添加して析出物を生成させることにより、めっき液中から不純物を除去する。 - 特許庁
The polyol composition for forming rigid polyurethane comprises a polyol compound, a polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, a catalyst, a flame retardant, and water as the foaming agent, and forms a rigid polyurethane foam by mixing and reacting with an isocyanate ingredient, wherein, the added amount of the polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester is 0.01-10 wt.% in the total polyol composition amount.例文帳に追加
ポリオール化合物、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、触媒、難燃剤、発泡剤として水を含有し、ポリイソシアネート成分と混合し、反応させて硬質ポリウレタンフォームを形成する組成物であり、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの添加量がポリオール組成物全量中0.01〜10重量%である硬質ポリウレタンフォーム用ポリオール組成物とする。 - 特許庁
In the oxygen gas barrier film obtained by forming a polyvinyl alcohol resin layer on at least one surface of a biaxially stretched polypropylene resin film through an adhesive layer, the adhesive layer comprises a modified polyolefinic resin with an acid modified quantity of 0.3-0.8 wt.% and a melt flow rate of 2.0-5.0 g/10 min containing an acid modified polyolefin.例文帳に追加
二軸延伸ポリプロピレン系樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、接着剤層を介してポリビニルアルコール系樹脂層を形成した酸素ガスバリア性フィルムにおいて、前記接着剤層が、酸変性ポリオレフィンを含有する、酸変性量0.3〜0.8重量%、メルトフローレート2.0〜5.0g/10分の変性ポリオレフィン系樹脂からなることを特徴とする。 - 特許庁
This image-forming member comprises at least one image layer and a base containing a cellulose paper the surface of which is impregnated with a water-dispersible ester-based condensation polymer and has the surface of the base having Ra<2.03 μm of roughness and >500 s of hydrophobicity when measured by 40/20 Acid Valley test.例文帳に追加
本発明は、少なくとも1層の画像層と、水分散性エステル系縮合ポリマーによって表面が含浸されているセルロース紙を含むベースとを含んでなる像形成部材であって、前記ベースの表面が、Raが2.03μm 未満の粗さおよび40/20 Acid Valley 試験によって測定した場合に 500秒を超える疎水性を有する像形成部材に関する。 - 特許庁
The invention provides an isolated nucleic acid encoding a polypeptide comprising a CNG3B subunit of a cation channel: (i) forming, with at least one additional alpha subunit, the cation channel having the characteristic of cyclic nucleotide-gating; and (ii) comprising a subsequence having at least 85% amino acid sequence identity to amino acids 210 to 661 in a specific sequence.例文帳に追加
(i)少なくとも1つの追加のαサブユニットと共に、環状ヌクレオチド−ゲートの特徴を有するカチオンチャンネルを形成し;そして(ii)特定の配列のアミノ酸210〜661に対して少なくとも85%のアミノ酸配列同一性を有する副配列を含んで成る、カチオンチャンネルのCNG3Bサブユニットを含んで成るポリペプチドをコードする単離された核酸。 - 特許庁
The substrate for forming the nucleic acid probe is characterized in that a plurality of electrode pairs, each of which is constituted of a first electrode and a second electrode for synthesizing nucleic acid by electrochemical control, are arranged unidimensionally or two-dimensionally and the first electrodes of the respective electrode pairs are electrically connected to each other to be formed as a common electrode.例文帳に追加
電気化学的に制御して核酸合成を行うための第1電極および第2電極で構成される電極対が一次元または二次元に複数配列されてなり、各電極対の第1電極同士が相互に電気的に接続されて共通電極として形成されたことを特徴とする、核酸プローブ形成用基板。 - 特許庁
The film structure of the zinc oxide film can be controlled by controlling the orientation property and the deposition state of the zinc oxide film by a method comprising controlling the concentrations of zinc ions and nitric acid ions or a method comprising controlling the liquid temperature, in a composition for forming the zinc oxide film, containing zinc ions, nitric acid ions, and an amine-borane compound.例文帳に追加
亜鉛イオン、硝酸イオン及びアミンボラン化合物を含む酸化亜鉛膜形成用組成物において、亜鉛イオン及び硝酸イオンの濃度を調整する方法、又は液温を調整する方法によって、酸化亜鉛膜の配向性及び析出状態を制御して酸化亜鉛膜の皮膜構造の制御することができる。 - 特許庁
In the method for forming an superfine pattern by using an irregular reflection preventing film containing an acid generator, an organic irregular reflection preventing film with addition of an excess amount of an acid generator is used so that a pattern having a vertical profile can be obtained even when a photoresist resin having rather high absorbance for the light from the light source is used.例文帳に追加
本発明は、酸発生剤を含む乱反射防止膜を利用した超微細パターンの形成方法に関し、過量の酸発生剤を添加した有機乱反射防止膜を用いることにより、光源に対する吸光度が多少高めのフォトレジスト樹脂を用いるとしても垂直のパターンを得ることができるパターンの形成方法に関する。 - 特許庁
The manufacturing method of the ferroelectric film 101 comprises (a) a process of mixing polycarboxylate containing niobium element, polycarboxylate containing bismuth element, polycarboxylic acid or polycarboxylic acid ester, organic solvent; and (b) a process of forming a ferroelectric film comprising BiNbO_4 by applying a mixed solution on a substrate and then heat treating them.例文帳に追加
本発明にかかる強誘電体膜101の製造方法は、(a)ニオブ元素を含むポリカルボン酸塩と、ビスマス元素を含むポリカルボン酸塩と、ポリカルボン酸またはポリカルボン酸エステルと、有機溶媒と、を混合する工程と、(b)混合した溶液を、基体上に塗布した後、熱処理することにより、BiNbO_4からなる強誘電体膜を形成する、工程と、を含む。 - 特許庁
To provide a photo acid generator which has excellent solubility in resist solvents and excellent compatibility with resins and is used for resist materials not producing foreign matters when forming a pattern after developed and when peeling a resist, scarcely causing adverse effects such as edge roughness and the like, giving an excellent pattern shape, and having excellent PED stability, and to provide a light-emitting acid.例文帳に追加
レジスト溶剤に対する溶解性及び樹脂との相溶性に優れた光酸発生剤であって、現像後のパターン形成時、更にレジスト剥離時に異物を生じず、エッジラフネスなどの影響が少なく、パターン形状に優れ、PED安定性に優れたレジスト材料に用いられる光酸発生剤及び光発生酸を提供する。 - 特許庁
The means for improving the forming stability of the powder cosmetic containing powder surface-treated with hyaluronic acid and/or its salt is provided, comprising compounding 0.01-0.1 mass%, based on the total amount of the cosmetic, of a solid hydrocarbon in the form of an oil solution.例文帳に追加
ヒアルロン酸及び/又はその塩で表面を処理された粉体を含有する粉体化粧料において、化粧料全量に対して、0.01〜0.1質量%の固体の炭化水素を、油脂溶液の形で配合させる。 - 特許庁
A first thick gate oxide film is formed, and an insulation film with etching resistance for washing, hydrofluoric acid treatment that is made for forming a second thin gate oxide film is formed on the surface of the first gate oxide film.例文帳に追加
膜厚の厚い第1のゲート酸化膜を形成し、第1のゲート酸化膜の表面に、膜厚の薄い第2のゲート酸化膜を形成するために行われる洗浄、フッ酸処理に対するエッチング耐性を有する絶縁膜を形成する。 - 特許庁
The polyorganosiloxane compound having an Mw of 300-200,000 is prepared by substituting the hydrogen atoms of part of the silicon-bonded hydroxyl groups contained in a polyorganosiloxane of the following formula (1) with acid labile groups of formula (2) and/or forming crosslinks with a crosslinking group of formula (3).例文帳に追加
式(1)のポリオルガノシロキサンに含まれるケイ素原子結合水酸基の一部の水素原子が式(2)の酸不安定基で置換及び/又は式(3)の架橋基で架橋され、Mwが300〜200,000のポリオルガノシロキサン化合物。 - 特許庁
To prevent deterioration of an intermediate transfer belt caused by nitric acid-based foreign matters produced after finishing printing in an image forming apparatus including a pre-electrifier for increasing electrification amount of a toner image transferred to the intermediate transfer belt.例文帳に追加
中間転写ベルトに転写されたトナー像の帯電量を増加させるプレ帯電器を備えた画像形成装置において、印刷終了後に発生する硝酸系異物による中間転写ベルトの劣化を防止すること。 - 特許庁
A ceramic membrane filter device 6 equipped with an acid backwashing means 7 due to acidic water with a pH of 1-3 is installed in the rear stage of flocculation and sedimentation equipment composed of a chemical mixing basin 2, a floc forming basin 3 and a flocculation and sedimentation basin 4.例文帳に追加
薬品混和池2と、フロック形成池3と、凝集沈殿池4とからなる凝集沈殿設備の後段に、pHが1〜3の酸性水による酸逆洗手段7を備えたセラミック膜ろ過装置6を設置する。 - 特許庁
The obtained resin composition satisfies the relations of the equations B>A and C>A (A is sheet-forming temperature (°C) of the methacrylic resin (a); B and C are each degradation-starting temperatures (°C) of the phosphoric acid esters (b) and (c) respectively.例文帳に追加
ただし、メタクリル系樹脂(a)のシート成形温度をA(℃)、ハロゲン原子含有リン酸エステル(b)の分解開始温度をB(℃)、ハロゲン原子含有リン酸エステル(c)の分解開始温度をC(℃)でそれぞれ示す場合、式B>A、式C>Aを満足する。 - 特許庁
As shown in Fig.(D2), in the target nucleic acid sequence, a sequence (B) present toward the 5'-terminal side of the sequence (A) is selected, and as a stem loop-forming sequence on the 5'-terminal side of the primer, the same sequence (B') as the sequence (B) is determined.例文帳に追加
(D2)前記標的核酸配列において、前記配列(A)よりも5’末端側に存在する配列(B)を選択し、前記プライマーの5’末端側のステムループ形成配列として、前記配列(B)と同じ配列(B’)を決定する。 - 特許庁
To provide boride-based cermet powder for thermal spraying for forming a thermal-sprayed coating film capable of sufficiently enhancing not only the hardness, the wear resistance, the thermal shock resistance, the oxidation resistance, and the heat resistance, but also the molten metal corrosion resistance, and the acid resistance.例文帳に追加
硬度、耐摩耗性、耐熱衝撃性、耐酸化性、耐熱性だけでなく、耐溶融金属腐食性および耐酸性を十分に向上させた溶射被膜を形成するための硼化物系サーメット溶射用粉末を提供する。 - 特許庁
To provide a resin composition for producing a biochip, forming a resin composition layer having excellent diffusion controlling properties of an acid generated by light exposure even in a case of little exposure value, and to provide a method for producing the biochip by using the resin composition.例文帳に追加
露光量が少ない場合であっても、露光により発生された酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成できるバイオチップ製造用樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the thin film on the substrate comprises applying the composition of the organic acid metal salt on the substrate and forming the thin film containing niobium element and lead element by heating the applied composition.例文帳に追加
更に、本発明の基体上への薄膜の製造方法は、基体上に、上記有機酸金属塩組成物を塗布し、加熱することによりニオブ元素と鉛元素とを含有してなる薄膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a conductive paste, a glass substrate covered with conductive film using this and a manufacturing method therefor containing no lead and capable of forming a conductive film with excellent abrasion-resistance, acid-resistance and alkali-resistance.例文帳に追加
鉛を含有せず,耐摩耗性,耐酸性及び耐アルカリ性に優れた導電性被膜を形成することができる導電性ペースト,及びこれを用いた導電性被膜被覆ガラス基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
This hair cosmetic comprises (a) an ester compound having an ester structure of a hardened castor oil with a fatty acid in the molecule and (b) a film-forming polymer and a mass ratio of the component (a) to the component (b) is not smaller than 1/2.例文帳に追加
(a)硬化ヒマシ油と脂肪酸とのエステル構造を分子中に持つエステル化合物と、(b)皮膜形成性高分子とを含有し、上記(a)/(b)が質量比で1/2以上であることを特徴とする毛髪化粧料。 - 特許庁
To provide a photosensitive polyamic acid varnish used for producing a specific polyimide, having high convenience and capable of forming a finer and more accurate pattern, and a method for producing an intermediate product by using the same.例文帳に追加
特定のポリイミドを製造するために用いられるものであって、利便性が高く、より微細で正確なパターン形成が可能となり得る感光性ポリアミック酸ワニス、およびこれを利用する製品中間体製造方法を提供する。 - 特許庁
The photosensitive composition contains (A) a high molecular compound having a structural unit represented by formula (1) and a phenolic hydroxyl group within a molecule, (B) an acid color-forming dye represented by formula (2), and (C) an infrared absorbent.例文帳に追加
(A)分子内に下記一般式(1)で表される構造単位とフェノール性水酸基とを有する高分子化合物、(B)下記一般式(2)で表される酸発色性色素、及び、(C)赤外線吸収剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁
It is a feature of this image forming method that the electrophotographic sensitive body including a pigment which is obtained through a process performing freezing treatment after the acid paste treatment is used and the image formation is performed through electrification, image exposure and reversal development processes.例文帳に追加
アシッドペースト処理後に凍結処理を行う工程を経て得られた顔料を含有する電子写真感光体を用い、帯電、像露光、反転現像工程を経て画像形成されることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
The inorganic board is manufactured by a method in which slurry is formed by dispersing a cement-based hydraulic material and a beated fiber reinforcement in water, adding a saturated carboxylic acid to the slurry, and after mixing them, sheet forming, dehydrating, pressing, hardening and curing them.例文帳に追加
セメント系水硬性材料と、叩解した繊維補強材とを、水に分散させたスラリーとなし、更に該スラリーに飽和カルボン酸を添加、混合した後、該スラリーを抄造、脱水、プレス、硬化養生して得た無機質板とその製造方法。 - 特許庁
To provide a lab-on-a-chip wherein the whole functions are arranged in one substrate by forming on one chip a passage part for carrying out the replication, synthesis, reaction, detection or the like of a nucleic acid, and a circuit part for regulating the reaction at the passage part.例文帳に追加
核酸の複製や合成、反応及び検出等を行う流路部と、流路部における反応を制御する回路部を一つのチップ上に設け、全ての機能が一つの基板上に設けられたラボオンチップの提供。 - 特許庁
The positive resist composition contains two kinds of resins each of which has a repeating unit selected from among general formulas (1) to (6) and has solubility in an alkali developing solution increased by action of an acid, and the pattern forming method is also provided.例文帳に追加
下記一般式(1)〜(6)から選ばれる繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を2種類含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。 - 特許庁
The composition for concealing information is characterized by containing (1) a salt of an 8-36C aliphatic carboxylic acid as a gel forming material, (2) a synthetic resin emulsion, (3) a black pigment, (4) a pearl pigment, and (5) water.例文帳に追加
(1)ゲル形成物質としての炭素原子数8〜36の脂肪族カルボン酸塩、(2)合成樹脂エマルジョン、(3)黒色顔料、(4)パール顔料、及び(5)水を含有することを特徴とする情報隠蔽用組成物を提供する。 - 特許庁
The oil-based ink for ballpoint pen comprises a salt formation body of C.I. Solvent Blue 5 and base-forming body comprising an alkylarylsulfonic acid as a colorant, a polyoxyethylene-hardened castor oil, at least one or more organic solvents selected from a glycol, a glycol ether and an alcohol.例文帳に追加
着色剤としてC.I.ソルベントブルー5とアルキルアリルスルホン酸の造塩体と、ポリオキシエチレン硬化ひまし油と、グリコール、グリコールエーテル、アルコールから選ばれる1種又は2種以上の有機溶剤とから少なくともなる油性ボールペン用インキ。 - 特許庁
The aggregate for forming an acid self-hardening mold is obtained from fused slug of nickel slug and treated with resin on the surface of granular material chiefly composed of 2MgO.SiO2, as the feature.例文帳に追加
ニッケル鉱滓の熔融スラグから得られ、2MgO・SiO_2を主成分とする粒状物の表面が樹脂で処理されてなる骨材からなることを特徴とする酸自硬化性鋳型形成用骨材により上記の課題を解決する。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|