「Alignment Mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent degradation of a yield due to a short circuit between wires by preventing degradation of a margin of the depth of focus due to a hard mask film and degradation of visibility of an alignment mark, and allowing a self-alignment via to be formed, and to improve an insulation property between wires to improve reliability thereof.例文帳に追加

ハードマスク膜による焦点深度のマージンの低下及びアライメントマークの視認性の低下を防ぎ、且つ、セルフアラインドビアの形成を可能とすることにより、配線同士のショートによる歩留まりの低下を防止すると共に、配線同士の絶縁性を高め、その信頼性を向上させるようにする。 - 特許庁

The wiring board is equipped with interconnect lines provided in an insulating film formed on a transparent board, board connection pads which are connected to the interconnect lines and provided on its surface as arranged in the same layout with the element connection pads of the semiconductor element and exposed, and a board alignment mark that is provided on its surface for alignment.例文帳に追加

配線基板は、透明基板上の絶縁膜内に設けられた配線と、配線に接続され、半導体素子の素子接続パッドと同じ配置で表面に露出して設けられた基板接続パッドと、表面に設けられた位置合わせ用の基板アライメントマークとを備える。 - 特許庁

To mark a line alignment number which is shown at a location where line alignment operation is performed for separating a part of a graphic string constituted by connecting a plurality of graphics to each other from the string for display, etc., in such a state that a user can easily see a drawing containing the graphic string or the graphic string.例文帳に追加

複数の図形を接続することにより構成される図形列から当該図形列の一部を表示等のために分離する行替え操作が行われた場所に表示される行替え番号を、ユーザが図形列を含む図面又は図形列を見やすいように付する。 - 特許庁

The problem can be solved by using a transmitted light having a wavelength of 600 nm or more as a confirming light for a through-hole used as the alignment mark previously formed on a substrate in the case of an alignment in the manufacturing method for the multilayer printed-wiring board.例文帳に追加

多層プリント配線板の製造方法において、位置合わせをする際に、前記基板に予め形成されたアライメントマークとして使用する貫通孔の確認光として、波長６００ｎｍ以上の透過光を使用することにより、前記課題を解決することができた。 - 特許庁

The second gate electrode 39 is formed by accumulating an electrode material on the first gate electrode 38 and polishing the electrode material with the cover pattern 47 as a stopper film, and patterned in highly accurate alignment with reference to the alignment mark 45 kept in an easy-to-observe condition by the cover pattern 47.例文帳に追加

第２ゲート電極３９は、第１ゲート電極３８等の上に電極材料を堆積し、カバーパターン４７等をストッパ膜として電極材料を研磨し、カバーパターン４７によって観察し易い状態に保たれたアライメントマーク４５を参照して高精度に位置合わせされてパターニングされる。 - 特許庁

Meanwhile, for a lens unit for assembling, the chart with the mark is imaged by a reference imaging device adjusted to the optical axis position through the lens and then, the attitude of the lens unit is controlled so as to perform alignment to the optical axis position, based on the mark position information of the imaged image.例文帳に追加

一方、組立て用のレンズユニットに対し、マーク付チャートを当該レンズを介して、上記の光軸位置に調整された基準撮像素子で撮像させた後、その撮像画像のマーク位置情報に基づいて、上記の光軸位置に合わせるように当該レンズユニットの姿勢制御を行う。 - 特許庁

A position adjusting device 26 can adjust the position of the wafer stage 16 relative to the mask stage 14, and adjusts the position of the wafer stage 16 based upon image data obtained by imaging the mask stage reference mark 15 and alignment mark 44 by the on-axis camera 20.例文帳に追加

位置調整装置２６は、マスクステージ１４に対するウェハステージ１６の位置を調整可能であって、かつ、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４をオンアクシスカメラ２０によって撮像することにより得られる画像データに基づいて、ウェハステージ１６の位置を調整する。 - 特許庁

To provide a printing system capable of accurately printing an image on a 2nd face while making the image coincide with an image on a 1st face, in a non-control period until the first alignment mark is detected by a mark sensor after Web-carrying is started at the start of printing.例文帳に追加

印刷開始時のウェブ搬送を開始した時点からマークセンサが最初の位置合わせマークを検出する時点までの無制御期間についても、第１の面の画像と一致させて第２の面に正確に画像を印刷することが可能な印刷システムを提供する。 - 特許庁

Since the reflection of the irradiation light in the mark body region 15 is remarkably suppressed, contrast is prevented from being easily degraded by interference by a thin film or the like even when the alignment mark 11 is covered with an optically-transparent film, and degradation of the image recognition accuracy can be suppressed.例文帳に追加

さらに、マーク本体領域１５での照射光の反射が大幅に抑制されるため、アライメントマーク１１を光透過性の膜が覆っている場合でも、薄膜による干渉等によってコントラストが低下しにくくなっており、画像認識精度の低下を抑制し得る。 - 特許庁

By forming recesses and projections for constituting a diffraction grating having a two-dimensional shape in either the body of the mark for forming an alignment pattern or the periphery of the mark, diffracted light from the diffraction grating and non-diffracted light are used to enhance light intensity contrast.例文帳に追加

アライメントパターンを形成するマーク本体部と、マーク周辺部のいずれかに、二次元的な形状を有する回折格子を構成する凹凸を設けることにより、回折格子からの回折光と、非回折光とを利用して、光強度コントラストを大きくすることができる。 - 特許庁

The lubricant application device 3 includes a tire angle alignment means 10 having a detection sensor 16 for detecting a discrimination mark 6 of a rotating tire T, for stopping rotation of the tire in a tire reference state J wherein the discrimination mark 6 agrees with a rotation reference position P of the tire T determined beforehand.例文帳に追加

潤滑剤塗布装置３は、回転するタイヤＴの識別マーク６を検出する検知センサ１６を有し、該識別マーク６が予め定めたタイヤＴの回転基準位置Ｐに一致するタイヤ基準状態Ｊにてタイヤの回転を停止させるタイヤの角度位置合わせ手段１０を具える。 - 特許庁

In a box mark area or an alignment mark area, a range from a trench 2 to an active area is etched to form a dummy pattern 7 around the trench 2 and CMP is applied to an insulating film 3 to form a step 8 within the trench 2 where the insulating film 3 is to be buried.例文帳に追加

ボックスマーク領域あるいはアライメントマーク領域において、トレンチ２からアクティブ領域にかかる範囲をエッチングすることにより、トレンチ２の周囲にダミーパターン７を形成し、絶縁膜３のＣＭＰを行うことにより、絶縁膜３が埋め込まれるトレンチ２内に段差８を形成する。 - 特許庁

The plasma display module 100 comprises the plasma display panel (PDP) 110 including a first substrate 111 and a second substrate 112 and having alignment marks 111a, and 112a and 112b formed thereon; and the chassis 130 having an alignment mark 130a corresponding to the alignment marks 111a, and 112a and 112b of the PDP 110 and supporting the PDP 110.例文帳に追加

プラズマディスプレイモジュール１００は、第１基板１１１及び第２基板１１２を備え、整列マーク１１１ａ及び１１２ａ，１１２ｂが形成されているプラズマディスプレイパネル１１０と、プラズマディスプレイパネル１１０の整列マーク１１１ａ及び１１２ａ，１１２ｂに対応する整列マーク１３０ａが形成されており、プラズマディスプレイパネル１１０を支持するシャーシ１３０と、を備える。 - 特許庁

A base alignment mark can be directly detected from a face of the color filter material 49 in a shorter distance from a substrate 41 in the transfer and expose of the pattern, so that detection error is reduced and thus image degradation is reduced.例文帳に追加

また、上記パターン転写露光時に下地アライメントマークを基板４１からの距離が近いカラーフィルタ材料４９の面から直接検出でき、検出誤差を小さくして画質劣化を少なくする。 - 特許庁

In exposing the alignment mark 9 covered with a build-up insulation layer 6, a laser beam is prevented from proceeding at least in a formation position of the barrier layer 50, so that there is no possibility of over-boring.例文帳に追加

ビルドアップ絶縁層６に覆われたアライメントマーク９を露出させる際には、少なくとも、バリア層５０の形成位置においてレーザビームの進行が阻止されるので、掘削しすぎる恐れはない。 - 特許庁

A forming method is provided for a junction substrate including a stage of providing the 1st substrate which has a 1st substrate shape and also has at least alignment mark disposed on a 1st surface side.例文帳に追加

本発明は、第１基板形状を有し、第１表面側に位置する少なくとも１つのアライメント・マークを有する第１基板を提供することを含む、接合基板の形成方法を提供する。 - 特許庁

Above each of the at least one processed region, a second groove 7 extending in the second direction y is formed with the alignment mark MK as a reference position with respect to the second layer 4.例文帳に追加

少なくとも１つの被加工領域の各々の上において第２層４に対してアライメントマークＭＫを基準位置として、第２方向ｙに沿って延在する第２溝７が形成される。 - 特許庁

In the case of the alignment with the eye to be examined, the first mark 51 for a position aligning with the image of the site having a relatively small personal difference of the eye to be examined is displayed in the ophthalmic anterior segment observing image of the monitor M.例文帳に追加

被検眼とのアライメントの際、被検眼の比較的個人差の少ない部位の画像と位置合わせするための第１のマーク５１をモニタＭの前眼部観察画像中に表示する。 - 特許庁

Under a state that a mask 15 is positioned on the formed alignment mark 7, an exposure process is applied to a back surface of the main substrate 1 through the mask 15 to form a pattern on the back surface of the main substrate 1.例文帳に追加

そして、形成されたアライメントマーク７とマスク１５とが位置決めされた状態で、マスク１５を介して本体基板１の裏面側に露光させ、本体基板１の裏面側にパターンを形成する。 - 特許庁

The control section, based on information on the displacement of the alignment mark 7, controls the action of the moving mechanism part so that the angle between the carrying direction of the brittle material 2 and the cutting edge direction can be as prescribed.例文帳に追加

制御部は、アライメントマーク７の変位情報に基づき、脆性材料２の搬送方向と刃先の方向とのなす角度が所定の角度となるように移動機構部の動作を制御する。 - 特許庁

Since V-grooves and optical waveguides are formed on separate substrates according to a conventional technique, a process for fixedly sticking an optical waveguide substrate to a V-groove substrate using an alignment mark has been required.例文帳に追加

従来技術では、Ｖ溝と光導波路とを別々の基板に形成していたことにより、位置置合わせマークを使ってＶ溝基板に光導波路基板を接着固定する工程が必要であった。 - 特許庁

An alignment mark, a black matrix formed on a color filter substrate, or a gate electrode pattern formed on an array substrate are distinguished from one another, and a position coordinate of a distinguished object is acquired (S304).例文帳に追加

アラインメントマーク、カラーフィルター基板に形成されたブラックマトリクスあるいはアレイ基板に形成されたゲート電極パターンなどを識別して、識別した対象の位置座標を取得する（Ｓ３０４）。 - 特許庁

To realize a stage mechanism for a laser beam machining apparatus with high positioning accuracy in machining an alignment mark or the like by a direct laser lithography or a direct laser machining on a glass substrate for a large display unit.例文帳に追加

大型ディスプレイ用のガラス基板にレーザ直接描画またはレーザ直接加工によりアライメントマークなどを加工するために、高い位置決め精度のレーザ加工装置用ステージ機構を実現する。 - 特許庁

To provide a position detector, with which the position information on an alignment mark for aligning a reticule and a wafer can be highly accurately detected by performing an edge emphasizing processing, and an exposure device using the same.例文帳に追加

レチクルとウエハとを位置合わせする為のアライメントマークの位置情報をエッジ強調処理を行って高精度に検出することができる位置検出装置及びそれを用いた露光装置を得ること。 - 特許庁

In the exposure device 1 exposing a mask pattern on a substrate 100 by aligning the substrate 100 and a mask 4, an alignment mark 51 arranged on a stage 2, a laser-length measurement system 6, and cameras 7 are mounted.例文帳に追加

基板１００とフォトマスク４とを位置合わせして基板１００にマスクパターンを露光する露光装置１において、ステージ２に配置されたアライメントマーク５１と、レーザー測長系６と、カメラ７とを備える。 - 特許庁

A first conducting layer 205 is formed on the whole surface of a semiconductor substrate 201, the layer 205 is made to remain on an alignment mark formation region and storage electrodes 205 are formed on a memory cell region.例文帳に追加

半導体基板２０１の全面に第１の導電層２０５を形成し、位置合わせマーク形成領域に第１の導電層２０５を残存させ、メモリセル領域に蓄積電極２０５を形成する。 - 特許庁

A positioning member 48 for positioning the chips 43 and 44 is formed with an alignment mark 410a of a semiconductor substrate wafer in which the photodetector is built in the wafer process as reference.例文帳に追加

これらのチップ４３、４４を位置決めする位置決め部材４８は、ウェハプロセスにおいて受光素子が作り込まれている半導体基板ウェハのアライメントマーク４１０ａを基準にして形成される。 - 特許庁

To provide a washing device of a solar cell substrate for uniformly washing the solar cell substrate without any need for a worker to visually verify the alignment mark and the transparent electrode of the solar cell substrate.例文帳に追加

作業者が太陽電池基板のアライメントマークや透明電極を目視で確認する必要がなく、太陽電池基板を一様に洗浄できる太陽電池基板の洗浄装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an exposing method in which a substrate can properly and inexpensively be positioned by a method using an alignment mark whatever arrangement style a pattern formed on the substrate takes.例文帳に追加

基板上に形成されるパターンがどのような配置態様をとる場合でも、アライメントマークを利用した手法により基板の位置決めを適正にかつ安価に行うことができる露光方法を提供する。 - 特許庁

The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.例文帳に追加

放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁

Thus, only the area where a driving circuit and the alignment mark are formed by a difference in a reflectance factor between an amorphism and a polycrystal, is formed on the polycrystal film growing in the lateral direction by use of the same laser source.例文帳に追加

これにより、非晶質と多結晶の反射率の差によるアライメントマークと駆動回路が形成される領域のみを横方向成長多結晶膜に同一レーザ源を用いて形成できる。 - 特許庁

To reduce the period required for only reading the alignment mark of a recording medium or for conveying a recording medium, and hereby reduce the time for processing from loading a stage member with the recording medium until completion of exposure.例文帳に追加

記録媒体に対してアライメントマークの読取や記録媒体の搬送のみを行う時間を短縮し、記録媒体をステージ部材に装着してから露光が完了するまでの処理時間を短縮する。 - 特許庁

Positioning operations are carried out in a photolithography process, an etching process, and a film removing process of removing a part of the above laminated insulating films on the semiconductor thin film from the substrate on the basis of the above alignment mark.例文帳に追加

前記アライメントマークを基準に、フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程、並びに上記半導体薄膜の上記積層膜の一部を基板上から除去する工程に際しての位置決めを行う。 - 特許庁

A recessed part 16 is formed on the substrate 11 so as to form a level difference at the outer edge part of a sticking region 15 where the die 13 is to be stuck on the substrate 11 simultaneously with the formation of an alignment mark 17.例文帳に追加

アライメントマーク１７の形成と同時に、基板１１におけるダイ１３が貼り付けられる貼付領域１５の外縁部分で段差が形成されるように基板１１に凹部１６を形成する。 - 特許庁

Further, for each circuit component mounted on the three-dimensionally molded circuit board 2, an alignment direction of the terminals is adjusted to a flowing direction (an arrow mark in the figure) of the synthetic resin at molding of the three-dimensionally molded circuit board 2.例文帳に追加

さらに、立体成形回路基板２に実装された各回路部品について、端子の並ぶ向きを、立体成形回路基板２の成形時に合成樹脂が流れる方向（図の矢印）に合わせている。 - 特許庁

Alignment of the terminals 12, 22 of the first and the second groups is performed by measuring relative positions of the first and the second electronic components 10, 20 with the scale 30 and the reference mark 40.例文帳に追加

第１及び第２のグループの端子１２，２２の位置合わせは、スケール３０及び基準マーク４０によって、第１及び第２の電子部品１０，２０の相対的な位置を測定しながら行う。 - 特許庁

A mark part 130 of a drum gear 110 is aligned to be located on an extension line, in the extending direction of an alignment part 162 of the semicircular part 160 of the housing 152 of a photoreceptor unit 150.例文帳に追加

感光体ユニット１５０の筐体１５２の半円形状部１６０の位置合わせ部１６２の延設方向の延長線上に、ドラムギア１１０のマーク部１３０が位置するように合わせる。 - 特許庁

This alignment mark is formed on a processing object film by using a first mask having a first graphic element and a second mask having a second graphic element in order to position a third mask.例文帳に追加

アライメントマークは、第３のマスクの位置合わせを行うために、被処理膜に、第１の図形要素を有する第１のマスク及び第２の図形要素を有する第２のマスクを用いて形成される。 - 特許庁

The selection rule is based on at least one of experimental and theoretical pieces of knowledge for optimizing the position of the substrate alignment mark or the overlay metering target according to at least one selection standard.例文帳に追加

選択規則は、１つまたは複数の選択基準に基づいて基板アラインメントマークまたはオーバレイ計量目標の位置が最適になる実験的および理論的知識のうち少なくとも１つに基づく。 - 特許庁

The substrate film 2 is removed corresponding to the alignment mark 4 by etching after transfer and the further left resist 3 is removed to expose the substrate film to manufacture the substrate for the processing master.例文帳に追加

転写後にエッチングにて前記アライメントマーク４に対応して前記下地膜２を除去し、更に残ったレジスト３を除去して前記下地膜を露出させることで加工マスター用基材を製造する。 - 特許庁

To prevent the oxidization of a W film embedded in a groove as an alignment mark even if a ferroelectric material is heat-treated in an oxygen atmosphere when forming a ferroelectric capacitive element of an FRAM.例文帳に追加

ＦＲＡＭの強誘電体容量素子を形成する際に強誘電体を酸素雰囲気中で熱処理しても位置合わせマークの溝に埋設するＷ膜の酸化を防止することができる - 特許庁

The semiconductor device 10 has an optically detectable alignment mark 1 and includes a semiconductor substrate 16 and a metallic wire 14 formed on an upper layer of the substrate 16.例文帳に追加

本発明による半導体装置１０は、光学的に検出可能なアライメントマーク１を有し、半導体基板１６と、半導体基板１６の上層に形成された金属配線１４とを具備する。 - 特許庁

The selection rules are based on experimental or theoretical knowledge about which substrate alignment mark or overlay metering targets locations are optimal based on one or a plurality of selection criteria.例文帳に追加

選択規則は、１つまたは複数の選択基準に基づいて基板アラインメントマークまたはオーバレイ計量目標の位置が最適になる実験的および理論的知識のうち少なくとも１つに基づく。 - 特許庁

To provide a product with an alignment mark that enables spatially varying reflective properties by using a pattern of fine lines for different polarization components for radiation of selectable orders of diffraction.例文帳に追加

選択可能な回折次数の放射のために様々な偏光成分に対する微細なラインパターンにより空間的に変化する反射特性を可能にするアライメントマークを製品にもたらすことである。 - 特許庁

When a well region is formed at first, for example, an alignment mark 14 for next exposure process is provided additionally in the integrated circuit chip region 12.例文帳に追加

例えば、始めにウェル領域を形成した場合、次の露光工程における位置合わせのためアライメントマーク１４を付加するが、このアライメントマーク１４を集積回路チップ領域１２内に設けるようにする。 - 特許庁