「Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce a transition time and to decrease a transition voltage by facilitating transition from splay alignment to band alignment without deteriorating optical characteristics of a liquid crystal in an OCB (optically compensation bend) mode liquid crystal display apparatus.例文帳に追加

ＯＣＢモード液晶表示装置で液晶の光学的特性を低下させずにスプレイ配向からバンド配向への転移を容易にして転移時間を短縮し，転移電圧を下げる。 - 特許庁

To provide a printing plate which reduces defects in an alignment film induced by structural problems of a printing plate, and to provide a method of printing an alignment film using the same.例文帳に追加

印刷板の構造的問題によって誘発される配向膜の不良を減らすようにした印刷板とこれを利用した配向膜印刷方法を提供することである。 - 特許庁

The optical element 10 is provided with the alignment property providing layer 12 laminated on a transparent substrate 11 and the refractive index anisotropic layer 13 laminated on the alignment property providing layer 12.例文帳に追加

光学素子１０は、透明基材１１上に積層された配向性付与層１２と、配向性付与層１２上に積層された屈折率異方性層１３とを備えている。 - 特許庁

PRE-ALIGNMENT DEVICE, ALIGNMENT DEVICE AND LIQUID DROPLET EJECTION APPARATUS PROVIDED WITH THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

プリアライメント装置及びこれを備えたアライメント装置及び液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器及び電子機器の製造方法 - 特許庁

To provide a substrate detection method for detecting the number of substrates that are carried to a treatment section in an alignment state and an alignment position, and to provide a substrate detection apparatus.例文帳に追加

整列状態で処理部に搬送されて処理に供される複数の基板の枚数及び整列位置を検出する基板検出方法及び基板検出装置を提供すること。 - 特許庁

With the light fixture 12 further lifted up, the alignment hardware 84 is inserted in an alignment hole part 57 so that the light fixture 12 side is positioned in the circumferential direction of the shaft part 74, relative to a structure 14 side.例文帳に追加

照明装置12をさらに持ち上げて、位置決め金具84を位置決め孔部57に挿入して照明装置12側を構造物14側に対して軸部74の周方向に位置決めする。 - 特許庁

The optical film has an optical anisotropic layer formed by alignment of optical elements, and an order parameter representing a degree of alignment of the optical elements varies in the direction of film thickness.例文帳に追加

光学要素の配向によって形成された光学異方性層を有し、該光学要素の配向の程度を表すオーダーパラメータが、フイルムの厚さ方向に変化している光学フイルムである。 - 特許庁

These steps are repeated for alignment of subsequent substrates, but before measuring the position of the mark, the position of the window is corrected using the relation memorized for one or more alignment in prior arts.例文帳に追加

後の基板の整列のためにこれらを繰返すが、マーク位置測定の前に、ウインドウの位置を一つ以上の先行整列について記憶した上記関係を使って修正する。 - 特許庁

A projecting part 44b for alignment is formed at the center of the end face of the mandrel 40, and the preform 30 is aligned by fitting the mandrel in the recessed part 34 for alignment of the preform 30.例文帳に追加

マンドレル４０の端面中央には芯出し用凸部４４ｂが形成され、プリフォーム３０の芯出し用凹部３４に嵌まることにより、プリフォーム３０の芯出しが行なわれる。 - 特許庁

To improve practicality by suppressing alignment disorder of liquid crystal molecules caused by an environmental electric field or the shape of an alignment face in a liquid crystal display device of the OCB(Optically Compensated Bend system.例文帳に追加

ＯＣＢ（Optically Compensated Bend ）方式の液晶表示装置において、環境電界や配向面の形状による液晶分子の配向乱れを抑えた実用性の高い液晶表示装置を得る。 - 特許庁

In a light beam that the projection member takes in, an aperture angle in a direction perpendicular to the alignment direction of the light-emitting point is made smaller than that in the alignment direction thereof.例文帳に追加

前記投影部材が取り込む光線において、発光点の配列方向に対して直交する方向の開口角は、発光点の配列方向の開口角より小さくされる。 - 特許庁

To regulate the direction of a pile 5 of rubbing cloth 7 and to perform the rubbing without re-adhering the residue of an alignment layer to the alignment layer, in a rubbing device for rubbing a polymer film to a substrate of a liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルの基板に高分子膜をラビング処理するラビング装置において、ラビング布７のパイル５の方向を規制しかつ配向膜に配向膜の残さを再付着させない。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligning agent which provides a liquid crystal alignment film having excellent liquid crystal alignment capability and seize resistance, and further which has an excellent coating property.例文帳に追加

良好な液晶配向性能および焼き付き特性を有する液晶配向膜を与えることができ、しかも高度の塗布性を有する液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

In the method of operating the boxing apparatus 100, an operation pattern of an alignment conveyor 2 is divided depending on a treating capacity of an article on the alignment conveyor 2 in delivering the article 1.例文帳に追加

箱詰め装置１００の運転方法は、整列コンベア２の運転パターンが、物品１の受け渡しにおける整列コンベア２での物品の処理能力に応じて区分けされている。 - 特許庁

To provide alignment equipment of a semiconductor exposure equipment, capable of automatically sensing beams of orders which exclude +/- first-order beam of the alignment beam, generated due to twisting, scattering or the like of the beam.例文帳に追加

整列ビームの捩れと散乱などにより発生する整列ビームの＋／−１次光を除いた他の次数の光を自動的に感知できる半導体露光装備の整列システムを提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent suitable for a liquid crystal display element provided with a vertical alignment layer consisting of an oblique deposition film of an inorganic oxide and capable of enhancing aging stability of alignment and light resistance by surface treatment of the alignment layer and to provide its treatment method.例文帳に追加

無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。 - 特許庁

Even when water invades the inside of a liquid crystal display element via the alignment layer 30, as the moisture capturing element contained in the alignment layer 30 captures the water, the water scarcely reaches the vertical alignment liquid crystal 40 during an operating process of the liquid crystal display element over an extended period of time.例文帳に追加

液晶表示素子の内部に配向膜３０を通じて水が侵入すると、その配向膜３０中に含まれている水分捕獲元素が水を捕獲するため、液晶表示素子の長期間に渡る動作過程において垂直配向液晶４０まで水が到達しにくくなる。 - 特許庁

In the case of the alignment, when the work mark does not exist inside either of the visual fields of the two alignment microscopes, an alignment mark detecting means 21 provided on a control part 20 spirally moves the work W, and detects the work mark.例文帳に追加

上記アライメントに際し、２個のアライメント顕微鏡のうちのいずれの顕微鏡の視野内にもワークマークＷＡＭが入らないとき、制御部２０に設けられたアライメントマーク検出手段２１により、ワークＷを渦巻き状に移動させワークマークＷＡＭを検出する。 - 特許庁

A first liquid crystal mixture material prepared by adding a polymerization initiator in a hardening type liquid crystal material is deposited on an alignment film 12 formed on a substrate 11 and subjected to rubbing treatment, and the first liquid crystal mixture material is aligned by the alignment regulating force of the alignment film 12.例文帳に追加

基板１１上に形成されたラビング処理済みの配向膜１２上に、硬化型液晶材料中に重合開始剤が添加された第１液晶混合材料を成膜し、配向膜１２の配向規制力により第１液晶混合材料を配向させる。 - 特許庁

The manufacturing method of the liquid crystal device includes steps S1 and S3 for forming inorganic alignment layers on each pixel electrode and a counter electrode on a TFT substrate and a counter substrate and steps S2 and S4 for supplying liquefied nitrogen to the inorganic alignment layers to wash the inorganic alignment layers.例文帳に追加

ＴＦＴ基板及び対向基板の各画素電極、対向電極上に無機配向膜を形成するステップＳ１、ステップＳ２と、無機配向膜に対し液体窒素を供給して、無機配向膜の洗浄を行うステップＳ３、ステップＳ４とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display element wherein the transition from a spray alignment state to a bend alignment state in an OCB type liquid crystal display element is promptly and reliably performed in low voltage and to provide liquid crystal aligning agent varnish for forming an alignment layer for the liquid crystal display element.例文帳に追加

ＯＣＢ型の液晶表示素子におけるスプレイ配向状態からベンド配向状態への転移が、低電圧で迅速に且つ確実に行なわれる様な液晶表示素子および該液晶表示素子用配向膜を形成する液晶配向剤ワニスを提供する事。 - 特許庁

When press-fitting the mold 3 to a transfer object substrate 1, position coordinates of an alignment mark 8 arranged on the mold 3, are measured by an alignment mark detector 12, and a strain quantity of a transfer pattern area on the mold 3 is calculated by performing a recursive analysis from a displacement quantity of the alignment mark 8 in press-fitting.例文帳に追加

被転写基板１にモールド３を圧着させる際に、モールド３上に設けたアラインメントマーク８の位置座標をアラインメントマーク検出器１２により測定し、圧着時のアラインメントマーク８変位量から回帰解析を行いモールド３上の転写パターン領域の歪み量を算出する。 - 特許庁

To provide an imprint method and an imprint device in which an alignment mark composed of the same material as a mold material can be identified optically without requiring a complex process in production of a mold, and alignment can be performed with high alignment accuracy.例文帳に追加

本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント方法およびインプリント装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A sufficient contrast is secured between the alignment mark 1 and its surrounding environment, so that inspection and measurement facilities easily recognize the alignment mark 1 as a unique mark and then an error in alignment mark recognition is prevented to accurately align the wafer.例文帳に追加

アライメントマーク１とその周囲環境との間において十分なコントラストを確保できるため、検査・測定設備がアライメントマーク１をユニークマークとして容易に認識することができるので、アライメントマーク認識不良を防止してウェハのアライメントを正確に実施することができる。 - 特許庁

The above-mentioned problem is solved by configuring an alignment mark formed on a reflective mask with slit structures having a fine line width and a space less than the resolution limit for a wavelength of alignment light of a laser drawing device and reducing intensity of a reflection signal in alignment light irradiation.例文帳に追加

反射型マスクに形成するアライメントマークを、レーザ描画装置のアライメント光の波長に対し、解像限界以下の微細な線幅および間隔を有するスリット状の構造体で構成して、アライメント光照射における反射信号の強度を小さくすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

A lithographic projection apparatus has an alignment sensor comprising an electron beam supply source 10 for supplying an electron beam 12 for impinging on an alignment mark 14 on a substrate W, and a back- scattered electron detector 16 for detecting electrons being back-scattered from the alignment marker 14.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置は、基板Ｗ上のアライメント・マーク１４に当たる電子ビーム１２を供給するための電子ビーム供給源１０、およびアライメント・マーク１４から後方散乱された電子を検出するための後方散乱電子検出器１６を備えるアライメント・センサを備える。 - 特許庁

To provide an image processing device capable of performing each of the position alignment for the image not depending on operation by an operator, stably obtaining a projective-transformation matrix for the position alignment for the image, and also reducing the amount of the processing for the position alignment for the image.例文帳に追加

画像の位置合わせの処理の全てを操作者による操作によるものではなくすることができ、画像の位置合わせのための射影変換行列を安定的に求めることができ、さらに画像の位置合わせの処理量を少なくすることができるようにした画像処理装置を提供する。 - 特許庁

The alignment method includes a step for performing first alignment based on a notch position on the outer periphery of a substrate, a step for performing second alignment based on the outer peripheral shape of the substrate including the notch, and a temperature adjustment step for adjusting the temperature of the substrate to a target management temperature.例文帳に追加

基板の外周上の切り欠き位置に基いて第１の位置合わせを行う工程と、前記基板の切り欠きを含む外周形状に基いて第２の位置合わせを行う工程と、前記基板を目標管理温度に調整する温調工程とを含む位置合わせ方法を行う。 - 特許庁

To obtain an alignment mark used for alignment of a mask pattern in a semiconductor device manufacturing process, in which high diffraction efficiency and alignment of high accuracy can be obtained, even if a conductive film is as thick as a gate electrode film whose thickness is determined by the process conditions of a MOS semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程におけるマスクパターンの位置合わせに使用するアライメントマークにおいて、ＭＯＳ半導体装置のプロセス条件より決定されるゲート電極膜と同一の導電膜の膜厚でも、高い回折効率を得、高精度のアライメントを可能にする。 - 特許庁

An image processing device 50 compares images of the alignment mark captured by respective image capturing devices with an image of a predetermined alignment mark to perform image recognition and detects an image recognition rate, a sharpness value and a contrast value of each image of the alignment mark captured by respective image capturing devices.例文帳に追加

画像処理装置５０は、各画像取得装置により取得されたアライメントマークの画像と予め用意したアライメントマークの画像とを比較して画像認識を行い、各画像取得装置により取得されたアライメントマークの画像の画像認識率、シャープネス値、及びコントラスト値を検出する。 - 特許庁

To provide a vertical alignment film of high reliability aligning display liquid crystal molecules in a slightly inclined direction from a substrate normal direction and a method of manufacturing the same, to provide a vertical alignment substrate having the vertical alignment film and a method of manufacturing the same, and to provide a liquid crystal display element.例文帳に追加

表示用液晶分子を基板法線方向からわずかに傾いた方向に配向させる、信頼性の高い垂直配向膜及びその製造方法、その垂直配向膜を備えた垂直配向基板及びその製造方法、並びに液晶表示素子を提供すること。 - 特許庁

If there is no alignment mark AM in a range of an image obtained by a camera 62, coordinates of the alignment mark AM are calculated on the basis of an identification mark which exists in the range of the image and a positional relation between the identification mark and the alignment mark AM stored in advance.例文帳に追加

カメラ６２により得られる画像の範囲内にアライメントマークＡＭが存在しない場合に、画像の範囲内に存在する識別マークおよび予め記憶されたアライメントマークＡＭと識別マークとの位置関係に基づいてアライメントマークＡＭの座標が算出される。 - 特許庁

Optical fiber guide sections 21 on both sides of the butt alignment section 9 have guide grooves 23 having their centers positioned on substantially straight lines interconnecting the centers of one or a plurality of pairs of opposing butt alignment grooves 7 and are able to ascend and descend above the butt alignment section 9.例文帳に追加

突合わせ部９の両サイドの光ファイバガイド部２１は、前記突合わせ部９に設けた対向する一対もしくは複数対の突合わせ用溝７の中心を結ぶほぼ一直線上に中心を位置せしめたガイド溝２３を有しており、突合わせ部９よりも上方に昇降自在である。 - 特許庁

To provide an exposure system capable of improving through-put by shortening an alignment processing time and performing an alignment correction without stopping an exposure line by correcting a deviation amount of alignment measured by a sensor by using recipes to control respective devices, and a method for controlling the exposure system.例文帳に追加

センサにより計測されたアライメントのズレ量を、各装置を制御するためのレシピを用いて補正することにより、アライメント処理時間を短縮し、露光ラインを止めずにアライメント補正することを可能として、スループットを向上させることができる露光システム及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

The alignment films 4 are formed by coating the entire surfaces of the substrates 1 and 2 with aligning agents by using a coating device and then drying and curing them, and then the alignment films after being rubbed are irradiated with laser light to remove the alignment films 4 in an area (b) coated with the seal material 3 and on the external connection terminal 9.例文帳に追加

配向膜４は、塗布装置を用いて基板１、２の全面に配向剤を塗布し、これを乾燥・硬化させて配向膜を形成し、ラビングした後、レーザ光を照射してシール材３の塗布領域ｂと外部接続端子９上の配向膜４を取り除く。 - 特許庁

To prevent an alignment film from being damaged by ultraviolet light without using a light-shielding mask for the ultraviolet light in a step for hardening a resin for bonding a TFT substrate having the alignment film on which optical alignment treatment is performed to a counter substrate with the use of the ultraviolet light.例文帳に追加

光配向処理が行われた配向膜を有するＴＦＴ基板と対向基板を接着する樹脂を、紫外線を用いて硬化させる工程において、該紫外線に対する遮光マスクを用いることなく、該紫外線によって配向膜がダメージを受けることを防止する。 - 特許庁

The inner side surface 41a has a shape in which intermediate portions of the terminal parts in an alignment direction are recessed outward in a diameter direction of the wire harness body 12 further than both end parts in the alignment direction are, and a plurality of the portions in the alignment direction can contact with the wire harness body 12 simultaneously.例文帳に追加

この内側面４１ａは、端子部の配列方向の中間部位が当該配列方向の両端部よりもワイヤハーネス本体１２の径方向外側に凹んで当該配列方向について複数の部位が前記ワイヤハーネス本体１２に同時に接触可能となる形状を有する。 - 特許庁

A method includes the steps of laminating a new interlayer film 3C on an interlayer film 3A on the undersurface, of which an alignment mark 2B is formed, subjecting the top surface to planarization, and forming a new alignment mark 2C in a portion 32, located directly above the alignment mark 2B of the top surface of the interlayer film 3C.例文帳に追加

下面にアライメントマーク２Ｂが形成された層間膜３Ａの上に、新たな層間膜３Ｃを積層してその上面を平坦化処理し、層間膜３Ｃの上面のうち、上記アライメントマーク２Ｂの直上に位置する部分３２に新たなアライメントマーク２Ｃを形成する。 - 特許庁

The liquid crystal device has an alignment layer and a conductive pattern on a substrate, where the substrate is subjected to rubbing treatment in a prescribed directions and the conductive pattern existing resent in an alignment layer absent region, where alignment layer has not been formed on the substrate, is embedded in the substrate surface.例文帳に追加

基板上に配向膜及び導電パターンを備える液晶装置において、基板にはそれぞれ所定方向からラビング処理が施してあり、基板における配向膜が形成されていない配向膜非形成領域に存在する導電パターンが、基板表面に埋設してある。 - 特許庁

The method selects a target chip 'a' among laser emission object chips RC1 to RC5 and selects the alignment range AR1 including most of the laser emission object chips RC1 to RC5 among a plurality of the alignment ranges including the target chip 'a' to generate alignment range setting data.例文帳に追加

レーザー照射対象チップＲＣ１〜ＲＣ５の中から注目チップａを選択し、該注目チップａを含む複数のアライメント範囲から、レーザー照射対象チップＲＣ１〜ＲＣ５を最も多く含むアライメント範囲ＡＲ１を選択して、アライメント範囲設定データを生成する。 - 特許庁

After one and the other are collectively subjected to rubbing, heat treatment is made at a temperature higher than the glass transition temperature of the other and under a glass transition temperature of one, whereby the other alignment layer is made lower in alignment regulating force for aligning liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 30 than one alignment layer.例文帳に追加

一方と他方とが一括してラビング処理された後に他方のガラス転移温度以上一方のガラス転移温度未満の温度で熱処理されたことにより、他方は液晶層３０の液晶分子を配向させる配向規制力が一方よりも弱くなっている。 - 特許庁

To surely perform alignment by allowing a separating part to predict the types and the number of tickets to be separated with respect to a plurality of collectively inserted tickets and performing alignment operation in advance before the tickets are fed to an aligning part to bring about room in alignment control and a mechanism.例文帳に追加

この発明は、一括して投入される複数枚の券に対して、分離される券種と枚数を分離部にて予測することができ、整列部に券が搬送される前から、あらかじめ整列動作を行うことができ、整列制御、機構に余裕ができ、確実な整列を行えるようにできる。 - 特許庁

To provide an inorganic alignment layer having light fastness and capable of generating a pretilt angle, to provide a substrate for an electronic device, a liquid crystal panel and the electronic equipment provided with the inorganic alignment layer and to provide a depositing method for the inorganic alignment layer.例文帳に追加

耐光性に優れ、かつ、プレチルト角を発生させることが可能な無機配向膜を提供すること、そのような無機配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供すること、また、そのような無機配向膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To form a mask alignment mark part comprising a deep trench formed on the same substrate as that of a semiconductor device by forming a polycrystal silicon embedded in a deep trench in an optimal depth, in order to increase a signal strength at the time of the alignment and to improve an accuracy of the mask alignment.例文帳に追加

半導体装置と同じ基板に形成されたディープトレンチからなるマスクアライメントの合わせマーク部を、ディープトレンチ内に埋め込まれた多結晶シリコンを最適な深さに形成することにより、アライメント時の信号強度をあげ、マスク位置あわせの精度を向上させる。 - 特許庁

The device which performs alignment by using a plurality of transport means completes the alignment until a work W is transported to a target position by causing the transport means transport the work W after or while the means makes partial alignment.例文帳に追加

複数の搬送手段を用いてアライメント処理をなすものであって、各搬送手段にアライメント処理を部分的に実行させた後にまたは実行させながらワークＷを搬送させ、それによりワークＷを目標位置に搬送するまでにアライメントを完了させるものである。 - 特許庁