「C-ステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A bonding stage 2 is heated to approximately normal temperature to 200°C by a heater section 13.例文帳に追加

ボンディング・ステージ２は、ヒータ部１３により、常温〜２００℃前後に加熱される。 - 特許庁

The stage 4 is housed in the chamber C, and an etching object W is mounted.例文帳に追加

ステージ４は、チャンバＣに収容され、エッチング対象物Ｗが載置される。 - 特許庁

Before mounting a sealed substrate 1 on which cutting portion patterns are previously aligned on an alignment stage B formed on the substrate cutting device independently of a cutting stage C to the cutting stage C, the prescribed number of markers 6 is searched, the sealed substrate 1 is mounted on the cutting stage C and then the sealed substrate 1 is cut off along the cutting portions 4 to separately form individual packages 5.例文帳に追加

基板の切断装置を用いて、切断ステージＣとは別に該装置に設けたアライメントステージＢで、切断部位パターンを予めアライメントされた封止済基板１を、切断ステージＣへ装着する前に、所要数の標識６を探知してから、切断ステージＣに封止済基板１を装着して切断部位４に沿って封止済基板１を切断して個々のパッケージ５を分離形成する。 - 特許庁

Moreover, the equipment 1 includes a cell placing stage 3 which arranges and places a plurality of the solar battery cells (c), and a cell transfer mechanism 18 which transfers a plurality of the solar battery cells (c) all together which are placed on the cell placing stage 3, to the connecting stage 10.例文帳に追加

さらに，複数枚の太陽電池セルｃを並べて載置させるセル載置ステージ３を備え，前記セル載置ステージ３に載置された複数枚の太陽電池セルｃを接続ステージ１０に一括して搬送するセル搬送機構１８を備えた。 - 特許庁

Two or more board materials are laminated on the same metal foil in a lamination process, or two or more B stage-conditioned board materials are laminated on the same C stage-conditioned board material in a lamination process, or two or more C stage-conditioned board materials are laminated on the same B stage-conditioned board material making their specific parts abut against each other in a lamination process.例文帳に追加

積層工程において同一の金属箔に対して２枚以上の基板材料を積層するもしくは、積層工程において同一のＣステージ状態基板材料に対して２枚以上のＢステージ状態基板材料を積層するあるいは、積層工程において同一のＢステージ状態基板材料に対して２枚以上のＣステージ状態基板材料を特定部位で互いに当接して積層する構成とする。 - 特許庁

Two or more substrate materials are stacked for an identical metallic foil in a lamination step, or two or more B-stage status substrate materials are stacked for an identical C-stage status substrate material in a lamination step, or two or more C-stage status substrate materials are stacked for an identical B-stage status substrate material in a lamination step.例文帳に追加

積層工程において同一の金属箔に対して２枚以上の基板材料を積層するもしくは、積層工程において同一のＣステージ状態基板材料に対して２枚以上のＢステージ状態基板材料を積層するあるいは、積層工程において同一のＢステージ状態基板材料に対して２枚以上のＣステージ状態基板材料を積層する構成とする。 - 特許庁

The inspection stage 20 is provided with a two-axis stage drive means 21 which is translated along a linear axis Y, passing through the center axis C of the imaging means 40 and which is rotated about a rotation axis D disposed on the linear axis Y, and controlled by a stage control means 22.例文帳に追加

検査ステージ２０は、撮像手段４０の中心軸Ｃを通る線型軸Ｙに沿って平行移動させ及びその線形軸Ｙ上に設けた回転軸Ｄ周りに回転移動させる２軸のステージ駆動手段２１を備え、ステージ制御手段２２によって制御される。 - 特許庁

A second rough floating area M_OUT in which a large number of the exhaust nozzles 12 are exclusively disposed is mounted on a carry-out stage block SB_C at the right edge.例文帳に追加

また、右端の搬出用ステージブロックＳＢ_Cには、専ら噴出口１２を多数配設した第２のラフ浮上領域Ｍ_OUTが搭載される。 - 特許庁

Alternatively, the wiring circuit substrate 10 is dried in the state of disposing it on a cooling stage 20, having a temperature that is not higher than 20°C, preferably, 15°C or lower.例文帳に追加

または、配線回路基板１０を、２０℃以下、好ましくは１５℃以下の温度を有する冷却ステージ２０上に設置した状態で乾燥させる。 - 特許庁

No liquid on the running stage 11 and the substrate W outflowing from the gap C can form a liquid film having no space on the running stage 11 and the substrate W.例文帳に追加

助走ステージ１１と基板Ｗ上の液体が隙間Ｃから流出することがないので，助走ステージ１１と基板Ｗ上に隙間のない液膜を形成できる。 - 特許庁

A workpiece is successively carried to the plurality of charging stages 6 to sufficiently charge a dielectric absorption factor D within the workpiece, and a main capacitance C in the workpiece is fully charged in the pre-measurement charging stage 10.例文帳に追加

複数の充電ステージ６に順次ワークを搬送して、ワーク内の誘電吸収因子Ｄを十分に充電した後、測定前充電ステージ１０でワーク内の主容量Ｃをフル充電する。 - 特許庁

The exposure apparatus EX includes a mask stage 1 and a chamber device C which covers a projection optical system PL and a substrate stage 2 and forming an inner space N1.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクステージ１、投影光学系ＰＬ及び基板ステージ２を覆う、内部空間Ｎ１を形成するチャンバ装置Ｃを備える。 - 特許庁

When the silicon rubber S is naturally cured, a stamper D is formed, and by raising the upper stage 15, the stamper D is held by the stamper holding substrate C of the upper stage 15.例文帳に追加

シリコンゴムＳが自然硬化してスタンパＤが形成され、上ステージ１５を上昇させることにより、スタンパＤが上ステージ１５のスタンパ保持基板Ｃにより保持される。 - 特許庁

Work for a horizontal working stage 2 is executed adjacently to a construction area; the PC member P is manufactured on the working stage 2; and the manufactured PC member P is transferred by a crane C, so as to be assembled for execution of work.例文帳に追加

建設領域に隣接して、水平の作業ステージ２を施工し、この作業ステージ２上でＰＣ部材Ｐを製造し、製造したＰＣ部材ＰをクレーンＣで移動して、組立て施工していく。 - 特許庁

An adhesive sheet contains an inorganic filler, an epoxy resin, and a curing agent for the epoxy resin and is in a B-stage state, wherein the adhesive sheet is disposed between a metal substrate and metal foil, and cured up to a C-stage state.例文帳に追加

無機フィラーとエポキシ樹脂とエポキシ樹脂の硬化剤とを含み、Ｂステージ状態にある接着シートを金属基板と金属箔との間に配置し、Ｃステージ状態まで硬化させる。 - 特許庁

A can body C is held at a transport mechanism 5, transporting can bodies C in and out from an inspection stage (a processing stage), by rotary pedestals 13 situated in a plurality of spots on an outer periphery, and a turret 12 (a first turret) on the transportation side to transport, in order, the can bodies C through rotation in a peripheral direction.例文帳に追加

缶胴Ｃの検査ステージ（処理ステージ）への搬入及び搬出を行う搬送機構５に、外周の複数箇所に設けられる回転台座１３で缶胴Ｃを保持し、周方向に回転することで缶胴Ｃを順次搬送する搬送側ターレット１２（第一のターレット）を設ける。 - 特許庁

Further, the coordinates (cx, cy) of the rotation center C in the stage are calculated using the rotation angle dT and the coordinates of the points, a1, a2, b1, b2.例文帳に追加

さらに、回転角度ｄＴと点ａ１，ａ２，ｂ１，ｂ２の座標とを用いてステージの回転中心Ｃの座標（ｃｘ，ｃｙ）を算出する。 - 特許庁

A semiconductor device 2 is mounted on a heating stage 6 and the temperature of the semiconductor device 2 is set at 60°C or above but lower than the melting point of solder.例文帳に追加

半導体装置２を加熱ステージ６の上に載置し、半導体装置２の温度を６０℃以上、はんだの融点よりも低く設定する。 - 特許庁

Thereafter, the substrate having these multi-layered films is mounted in a plasma etching chamber and a stage temperature is set to about 310°C.例文帳に追加

その後、これらの多層膜を有する基板２がプラズマエッチングチャンバ内に載置され、ステージ温度を３１０℃程度に設定する。 - 特許庁

The elastic modulus obtained when measuring the dynamic viscoelasticity of the bonding sheet 1 in the B-stage state at 25°C and at 900 Hz is smaller than 4,000 MPa.例文帳に追加

Ｂステージ状態の接着シート１の、２５℃で９００Ｈｚにおける動的粘弾性測定による弾性率は４０００ＭＰａ未満である。 - 特許庁

The charges excessively charged in the main capacitance C is discharged through an insulating resistor R1 while the workpiece is carried to the measuring stage 7.例文帳に追加

その後、測定ステージ７までワークを搬送する間に、主容量Ｃに過剰に充電した電荷を絶縁抵抗Ｒ１を介して放電する。 - 特許庁

The semiconductor chip test socket 1 attaches the probe 16 to the socket receiving part 10 and attaches a positioning stage 43 of the semiconductor chip C on the socket cover part 40.例文帳に追加

ソケット受部１０にはプローブ１６を取り付け、ソケット蓋部４０には半導体チップＣの位置決めステージ４３を取り付ける。 - 特許庁

The temperature of the press head 43 is raised thereafter to put the film adhesive 21 and sealing film 41 into a C stage.例文帳に追加

この後、プレスヘッド４３の温度をさらに上昇させてフィルム接着剤２１及び封止フィルム４１をＣステージ化する。 - 特許庁

The sustained gap C between the running stage 11 and the substrate W satisfactorily transfers the substrate W.例文帳に追加

助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間Ｃが維持されるので，基板Ｗの受け渡しを好適に行うことができる。 - 特許庁

A vacuum-attracting hole 3c of the stage 3 vacuum-attracts the adhesive sheet 1 to the lower side to peel the adhesive sheet 1 of the external circumference of the chip (c).例文帳に追加

ステージ３の真空吸着孔３ｃにより粘着シート１を下方に真空吸着し、チップ外周部の粘着シート１を剥がす〔（ｃ）〕。 - 特許庁

An etching device 1 includes a chamber C, a stage 4, a deposition preventive top plate 6, a deposition preventive plate 5, and a first heating part 9.例文帳に追加

本発明のエッチング装置１は、チャンバＣと、ステージ４と、防着天板６と、防着板５と、第１の加熱部９とを具備する。 - 特許庁

The probe tack of the surface of the B-stage material is 1-10N/5 mmφ, the tuck being measured at 25°C by using a probe of 5 mmφ.例文帳に追加

上記Ｂステージ状硬化物の表面の５ｍｍφのプローブを用いて測定された２５℃でのプローブタックは、１〜１０Ｎ／５ｍｍφである。 - 特許庁

A suction head 16 with a semiconductor chip 14 sucked thereto is lowered, and the semiconductor chip 14 is brought close to the transfer stage 10 (C), (D).例文帳に追加

そして、半導体チップ１４を吸着した吸着ヘッド１６が下降し、半導体チップ１４を転写ステージ１０に近接させる（Ｃ），（Ｄ）。 - 特許庁

The scanning laser microscope 100 is equipped with a stage 101 on which a specimen 105 is placed, a first scanning optical system A for scanning the specimen 105 placed on the stage 101 with a first light beam, a second scanning optical system B for scanning the specimen 105 placed on the stage 101 with a second light beam, and a detecting optical system C for obtaining the confocal scanning image.例文帳に追加

走査型レーザー顕微鏡１００は、標本１０５が載置されるステージ１０１と、ステージ１０１に載置された標本１０５に対して第一光ビームを走査する第一走査光学系Ａと、ステージ１０１に載置された標本１０５に対して第二光ビームを走査する第二走査光学系Ｂと、共焦点走査画像を得るための検出光学系Ｃを備えている。 - 特許庁

A display screen F of a pattern display device 6 is split to generate a plurality of stage image regions t in which stage images p having mutually different drawing concepts are drawn, and a collective pattern generating process is executed in which pattern generating processes for starting the change of special patterns A, B, C to be determined are executed and displayed in parallel in the stage image regions t.例文帳に追加

本発明は、図柄表示装置６の表示画面Ｆを分割し、各個で描出概念が相互に異なるステージ画像ｐが描出される複数のステージ画像領域ｔを生成するとともに、各ステージ画像領域ｔで、夫々特別図柄Ａ，Ｂ，Ｃを変動開始し確定に至る図柄生成行程が並行して実行表出される集合図柄生成行程を実行するようにした。 - 特許庁

Onto the master plate A, a liquid silicon rubber S is poured to be clamped between a stamper holding substrate C held by the suction face 15a of the upper stage 15 and the master plate A on the mounting face 11a of the lower stage 15.例文帳に追加

次にマスタ版Ａ上に液状のシリコンゴムＳを流し込み、上ステージ１５の吸着面１５ａに保持されたスタンパ保持基板Ｃと、下ステージ１５の載置面１１ａ上のマスタ版Ａとの間でシリコンゴムＳを狭持する。 - 特許庁

Tilt amounts of a laser interferometer support base on the body structure 7 and the projection optical system 6 are measured by tilt angle meters 17(a), 17(b), 17(c), and relative position error of the mask stage 4 and the plate stage 5 is corrected from the measurement results.例文帳に追加

本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 - 特許庁

A sheet of a B-stage resin composition with a metal leaf containing a base material for an additive which has a composition wherein a layer c of a base material reinforced B-stage resin composition is stuck to a layer of a resin composition for the additive formed on the surface of the metal leaf a having surface indentations, is used.例文帳に追加

表面凹凸を有する金属箔ａの表面に形成したアディティブ用樹脂組成物層に、基材補強Ｂステージ樹脂組成物層ｃが付着した構成のアディティブ用基材入り金属箔付きＢステージ樹脂組成物シートを使用する。 - 特許庁

Alternatively, the wiring circuit substrate 10 is dried under an air atmosphere, having a temperature of 10-20°C and in a state of disposing it on the cooling stage 20 having a temperature of 5-20°C.例文帳に追加

または、配線回路基板１０を、１０〜２０℃の空気雰囲気下において、５〜２０℃の温度を有する冷却ステージ２０上に設置した状態で乾燥させる。 - 特許庁

A stage block SB_e on the outlet side is attached onto an independently transportable trestle FL_C through a large number of posts 34 and adjusters 36.例文帳に追加

出口側のステージブロックＳＢ_eは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Cの上に多数の支柱３４およびアジャスタ３６を介して取り付けられている。 - 特許庁

Three intermediate stage blocks SB_b, SB_c, SB_d are attached onto an independently transportable trestle FL_B through a large number of posts 22, 24, 26 and adjusters 28, 30, 32.例文帳に追加

中間の３つのステージブロックＳＢ_b，ＳＢ_c，ＳＢ_dは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Bの上に多数の支柱２２，２４，２６およびアジャスタ２８，３０，３２を介してそれぞれ取り付けられている。 - 特許庁

Both the levitating stages 82, 84 are formed of metal materials, for example, aluminum having higher thermal conductivity and heated, for example, to a final reaching temperature of 120°C through an intermediate heating temperature of 70°C by the heat generation of sheath heaters 120, 122.例文帳に追加

両浮上ステージ８２，８４は、熱伝導率の高い金属たとえばアルミニウムからなり、シーズヒータ１２０，１２２の発熱により、たとえば中間加熱温度の７０℃、最終到達温度の１２０℃にそれぞれ熱せられる。 - 特許庁

In a case of a "minor win C", this game machine executes a consecutive performance at a tenth variation from the end of the game of the minor win C, notifies a failure (the end) in the consecutive performance and shifts to the regular stage.例文帳に追加

「小当りＣ」の場合は、小当りＣの遊技の終了後から１０変動目に継続演出が実行され、その継続演出において失敗（終了）が報知されて通常ステージに移行される。 - 特許庁

When an adhesive composition forming an adhesive layer is brought to a B-stage by irradiation with light, the tack force of the surface of adhesive layer is 200 gf/cm^2 or less at 30°C and is 200 gf/cm^2 or more at 120°C.例文帳に追加

接着剤層を形成している接着剤組成物を光照射によりＢステージ化したとき、接着剤層表面のタック力が、３０℃において２００ｇｆ／ｃｍ^２以下で、１２０℃において２００ｇｆ／ｃｍ^２以上である。 - 特許庁

This jogging stage device is provided with: at least a stage 2 supported so as to move in a one-dimensional direction; a lever 5 freely rotatably supported around a fulcrum C provided at the stage 2; a first actuator 6 fitted on one end of the lever 5; and a second actuator 7 applying a rotational moment in the opposite direction to the first actuator 6 to the fulcrum C.例文帳に追加

少なくとも一次元方向に移動可能に支持されたステージ２と、ステージ２に設けられた支点Ｃを中心として回動自在に支持されたテコ５と、テコ５の一端部分に設けられた第１のアクチュエータ６と、支点Ｃに対して第１のアクチュエータ６と反対方向の回転モーメントを付与する第２のアクチュエータ７と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

Then the positional deviation of each placed element C in the X- and Y-directions with respect to a reference line and a reference point provided on the stage 12 and the deviations in azimuth (θ) of the element C in the X-Y plane are measured by observing the position and azimuth of the ridge section of the element C by means of an image sensor 16.例文帳に追加

次に、半導体レーザ素子のリッジ部の位置及び方位をイメージセンサ１６で観測して、位置合わせステージ上の基準線及び基準点に対する半導体レーザ素子のＸ方向及びＹ方向の位置ずれ、並びにＸ−Ｙ平面内での方位（θ）のずれを測定する。 - 特許庁

Substrates W in a plurality of shelves in the cassette C mounted on an elevating stage 11 in an underwater loader are detected in batch by a substrate batch detecting unit including a substrate detecting probe P.例文帳に追加

水中ローダの昇降ステージ１１に載置されたカセットＣ内の複数の棚における基板Ｗの有無は、基板検出プローブＰを含む基板一括検知ユニットによって一括して検出される。 - 特許庁

The scanning laser microscope 100 is further equipped with an X-Y fine focus adjustment stage 135 for moving the confocal pinhole 133 in a direction nearly orthogonal with the optical axis of the detecting optical system C.例文帳に追加

走査型レーザー顕微鏡１００は、さらに、共焦点ピンホール１３３を検出光学系Ｃの光軸にほぼ直交する方向に移動させるためのＸＹ微動ステージ１３５を備えている。 - 特許庁

The laser machining stage 20 is formed by a rigid inorganic material having a transmissivity of 90% or larger for the laser beam, and preferably, a softening point of 800°C or higher.例文帳に追加

レーザ加工ステージ２０は、レーザ光の透過率が９０％以上の剛性を有する無機材料で構成されており、好ましくは軟化点温度が８００℃以上である。 - 特許庁

A nacelle 4 is mounted on a position separate from a tower axis C in a stage 4, and counter weights 29A, 29B are suspended on an opposite side of the nacelle 4 over a tower 3 to balance with the nacelle 4.例文帳に追加

ステージ４において、タワー中心軸Ｃから離間した位置にナセル４が載置され、また、ナセル４とはタワー３を挟んで反対側に、ナセル４とバランスをとるようにしてカウンタウェイト２９Ａ，２９Ｂが吊り下げられている。 - 特許庁