「Defect Intensity」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The retrieval is performed under the condition of two agreements, namely, the agreement between both position data of the position data of the defect data and the position data of the pseudo-defects in the pseudo-defect information, and agreement between both intensity data of the intensity data of the defect data and the intensity data of the pseudo-defects in the pseudo-defect information.例文帳に追加

検索では、欠陥データの位置データと疑欠陥情報の疑欠陥の位置データの両位置データの合致、および、欠陥データの強度データと疑欠陥情報の疑欠陥の強度データの両強度データの合致の２つの合致を条件として行う。 - 特許庁

For example, the intensity values from a target die are compared to the intensity values from a corresponding portion of a reference die, wherein a significant intensity difference may be defined as a defect.例文帳に追加

例えば、ターゲットダイからの強度値は、レファレンスダイの対応する部分からの強度値と比較され、大きな強度差は欠陥として定義される。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and a defect inspection method capable of enlarging a taking range of light scattered from a fine defect, and heightening signal intensity.例文帳に追加

微細な欠陥から散乱した光の取込範囲を拡大し信号強度を高める欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting device capable of reducing a loss of signal intensity, and capable of inspecting a defect accurately and precisely.例文帳に追加

信号強度のロスが少なく、正確で精度の高い欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect inspection device, capable of implementing defect inspection with correct, high accuracy, and less loss in the signal intensity.例文帳に追加

信号強度のロスが少なく、正確で精度の高い欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁

The defect determination circuit 55 determines the presence or absence of defects, based on the maximum intensity information.例文帳に追加

欠陥判定回路５５は、最大強度情報に基づいて、欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

When detecting a painting defect based on the intensity of the light reflected from the paint film of the base material, with each detection result of the light reflected having an intensity below the exception intensity is excluded.例文帳に追加

基材の塗膜からの反射光の強度に基づいて塗装不良を検出する際に、前記除外強度以下の強度の反射光の検出結果を除外する。 - 特許庁

To precisely detect a defect having a low reflection echo intensity existing in a body to be inspected.例文帳に追加

被検査体中に存在する反射エコー強度が弱い欠陥を精度よく検出する。 - 特許庁

The determination is carried out by discriminating an existence of a defect in the measurement position in accordance with whether or not the intensity of the P polarized light component is within the reference intensity range and whether or not the intensity of the S polarized light component is within the reference intensity range and discriminating the type when there is a defect.例文帳に追加

この判定は、Ｐ偏光成分の強度が基準強度範囲外であるか否かとＳ偏光成分の強度が基準強度範囲外であるか否かとに応じて、測定位置での欠陥の有無を判別し且つ欠陥がある場合にはその種類を判別することでなされる。 - 特許庁

To prevent defect determination by an influence of erroneous defect data by reducing the influence of the erroneous defect data from an intensity value, when calculating the intensity value of one pixel portion by using beam data acquired from a plurality of data detection domains of the pixel.例文帳に追加

画素の複数のデータ検出領域から取得したビームデータを用いて一画素分の強度値を算出する場合において、強度値から誤欠陥データの影響を低減し、誤欠陥データの影響による欠陥判定を防ぐ。 - 特許庁

The defect is determined by taking account of whether the normalized intensity values for the pixels are higher than the pixels thresholds.例文帳に追加

欠陥は、画素についての該正規化強度値が画素閾値よりも大きいか否かを考慮して判定する。 - 特許庁

The measuring mechanism 40 measures the intensity of the laser beam L2 for measurement that is reflected by a luminance spot defect 21.例文帳に追加

計測機構４０は、輝点欠陥２１で反射された計測用レーザＬ２の強度を計測する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus and a defect inspection method for enlarging the take-in range of light scattered due to minute defects and enhancing signal intensity.例文帳に追加

微細な欠陥から散乱した光の取込範囲を拡大し信号強度を高める欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

Erroneous defect data are removed and selected from inside the beam data acquired from the plurality of data detection domains of the pixel, and the intensity value of one pixel portion is calculated by using the selected beam data, and thereby the influence of the erroneous defect data is reduced from an intensity value, and defect determination by the influence of the erroneous defect data is prevented.例文帳に追加

画素の複数のデータ検出領域から取得したビームデータの中から誤欠陥データを排除して選択し、選択したビームデータを用いて一画素分の強度値を算出することによって、強度値から誤欠陥データの影響を低減し、誤欠陥データの影響による欠陥判定を防ぐ。 - 特許庁

The evaluation image 52 is binarized to a defect region 52a and a normal region 52b, and the maximum intensity information of the defect region 52a of the evaluation image 52 is outputted to a defect determination circuit 55.例文帳に追加

評価画像５２は、欠陥領域５２ａと正常領域５２ｂとに二値化され、評価画像５２の欠陥領域５２ａの最大強度情報は、欠陥判定回路５５に出力される。 - 特許庁

A space filter 6 converts a Fourier transformation image into a intensity change to detect the phase defect easily and quickly.例文帳に追加

空間フィルタ６がフーリエ変換像を強度変化に変換して、簡易かつ高速に位相欠陥を検出する。 - 特許庁

When the sound intensity is smaller than a predetermined level g, a determination part 16 decides that the weld defect occurs and the coordinate points of the weld defect is stored by a storage part 17.例文帳に追加

この音の強さが所定レベルｇより弱い場合には、溶接不良と判別部１６が判断して、その溶接不良箇所の座標を記憶部１７が記憶する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a pattern defect capable of stably detecting a target defect in various processes by reducing the misdetection of grain or morphology or the effect of interference light intensity irregularity, and an inspection device of the pattern defect.例文帳に追加

グレインやモホロジーの誤検出や干渉光強度ムラの影響を低減して、様々なプロセスにおけるターゲット欠陥を安定に検出できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

A control mechanism 103 performs signal processing relative to the intensity of a reflected wave signal obtained from defect DE-V, defect DE-H or the like, when scanning at an optional angle with the ultrasonic wave, to thereby detect a defect and measure a length.例文帳に追加

制御機構１０３は、超音波を任意の角度で走査したとき、欠陥ＤＥ—Ｖおよび欠陥ＤＥ—Ｈ等から得られる反射波信号の強度を、信号処理を行うことで欠陥の検出および長さ測定を行う。 - 特許庁

Meanwhile, if the defect of the material different from the object 12 by mixing, for example, a foreign matter, exists at the examining point, the light is shielded by the foreign matter, and hence the defect is detected as a dark defect having a low light intensity.例文帳に追加

これに対して、例えば異物混入等の、被検査物１２の材質とは異なる材質の欠点が検査点に存在する場合は、それら異物によって光が遮られるため、光強度の低い暗欠点として検出される。 - 特許庁

If the defect of the same material as that of the object 12 to be examined such as, for example, a ruggedness, a density unevenness or the like exists, the light detoured at the plate 18 is bent by the defect, and arrived at the unit 16, and hence the defect is detected as a bright defect having a strong light intensity.例文帳に追加

また、例えば、凹凸や密度ムラ等の、被検査物１２の材質と同じ材質の欠点が存在する場合には、拡散板１８を回り込んだ光が欠点にて屈曲して、撮像装置１６に到達するため、光強度の強い明欠点として検出される。 - 特許庁

By dispersing a beam of laser induction plasma generated in welding, presence or absence of defect generation is discriminated based on an intensity ratio between the emission spectrum intensity of the specific element relating to welding defect generation and the emission spectrum intensity of the material to be welded having a wave length close to a wave length of the specific element.例文帳に追加

溶接時に発生するレーザ誘起プラズマの光を分光し、溶接欠陥の発生に関わる特定の元素の発光スペクトルの強度と、この元素の発光スペクトルの波長に近接する波長を持つ被溶接材の元素の発光スペクトルの強度との強度比に応じて欠陥発生の有無を判定する。 - 特許庁

Because the terahertz light generated by the defect part 2 can be resonated within the defect part 2, the intensity of the terahertz light outputted from the terahertz light source 1 to the outside can be amplified.例文帳に追加

欠陥部２が発生したテラヘルツ光を欠陥部２内で共振させることができるから、テラヘルツ光源１から外部に出力されるテラヘルツ光の強度を増幅することができる。 - 特許庁

By combining this series of scanning, the protruding defect 201 is detected with higher intensity of reflected light at a part higher than the center and lower intensity of reflected light at a part lower than the center in the reflected light intensity measuring device 108.例文帳に追加

この一連の走査を組み合わせることにより、反射光強度測定器１０８において、凸欠陥２０１は中心より上部分の反射光強度が大きく、中心より下部分の反射光強度が小さくなって検出される。 - 特許庁

On the other hand, if the luminous intensity detected is lower than the second reference value of a predetermined luminous intensity, it is judged there is a possibility of generating a weld defect in the weld zone.例文帳に追加

一方、上記検出された発光強度が、予め求めた発光強度の第２基準値よりも低い場合は、溶接部に溶接品質不良の発生する可能性があると判断する。 - 特許庁

To use the intensity differences between a target pixel and eight surrounding comparison pixels separated by a repetitive pitch, extract minute defect regions with the low intensity difference from a captured image of an inspected object, and to inspect the defects.例文帳に追加

被検査対象物の撮像画像から、注目画素と繰り返しピッチ離れた周囲８箇所の比較画素の輝度差を用いて、輝度差の低い微少欠陥部分を抽出し欠陥検査を行う。 - 特許庁

With further scanning, since reflected light from a right slope of the protruding defect 201 is reflected in a direction of retreating from the reflected light intensity measuring device 108 as shown in 207 when the reflected light intensity measuring device 108 passes through the right slope, the protruding defect looks dark at this part.例文帳に追加

さらに走査して、反射強度測定器１０８が凸欠陥２０１の右斜面を通過すると、右斜面からの反射光は、２０７に示すように反射光強度測定器１０８からより遠ざかる方向に反射するので、この部分では凸欠陥が暗く見える。 - 特許庁

To accurately eliminate a defect in a Levenson type phase shifting mask having an undercut structure in such a way as not to cause lowering of light intensity.例文帳に追加

アンダーカット構造を持つレベンソン型位相シフトマスクの欠陥に対して、光量の低下が起こらないような高精度な欠陥修正を行う。 - 特許庁

Then, a signal showing the signal intensity of the acquired image which is equal to or more than the detection threshold is determined as the defect in the desired inspection area.例文帳に追加

そして、取得された所望検査領域の像の信号強度が前記検出しきい値以上を示す信号を欠陥として判定する。 - 特許庁

A signal processing circuit 60 discriminates between the surface defect and the internal defect of the substrate 1 from the intensity difference between the scattered light received by the first light receiving system and the scattered light received by the second light receiving system.例文帳に追加

信号処理回路６０は、第１の受光系が受光した散乱光と第２の受光系が受光した散乱光との強度の違いから、基板１の表面の欠陥と内部の欠陥とを弁別する。 - 特許庁

By reflecting reflected light from a left slope of a protruding defect 201 in a direction of incidence onto a reflected light intensity measuring device 108 in a scanning initial period, the protruding defect 201 looks bright at this part.例文帳に追加

走査初期において、凸欠陥２０１の左斜面からの反射光を反射光強度測定器１０８に入射する方向に反射させることにより、この部分で凸欠陥２０１が明るく見える。 - 特許庁

The device is also characterized by heightening defect discrimination accuracy by combining the frequency component information with the intensity/ratio/differential value of leakage flux signals having different magnetization conditions and the length/width/area or the like of the defect signals.例文帳に追加

また、周波数成分情報と、磁化条件の異なる漏洩磁束信号の強度・比・差分値、欠陥信号の長さ・幅・面積等とを組み合わせることで、欠陥の弁別精度を上げることができる。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device for a band like body capable of detecting a surface defect by carrying out image pickup of a band like body surface at a optional pickup angle by a light source with low light intensity in regard to a surface defect inspecting device using a time delay integration type video camera.例文帳に追加

時間遅延積分型ビデオカメラを用いた表面欠陥検査装置において、低い光強度の光源により任意の撮像角度で帯状体面を撮像し、表面欠陥を検出することができる帯状体の表面欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of detecting defects where the light intensity felt by the image of inspected object is not much difference from that of a normal section.例文帳に追加

被検査物体像が感じる光強度が正常部とあまり変わらない欠陥を検出することが可能な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

A part from which a reflection echo above a predetermined intensity is measured continuously more than a predetermined distance in the rolling direction of the body to be inspected is detected as a defect.例文帳に追加

所定強度以上の反射エコーが、被検査体の圧延方向に所定距離以上連続して測定された部分を欠陥として検出する。 - 特許庁

Thus, oxygen defect of the host crystal caused by treatment in the reducing atmosphere is restored by being treated in the ozone atmosphere, so that the phosphor having high light emission intensity is formed.例文帳に追加

還元雰囲気中処理工程で生じた母体結晶の酸素欠陥が、オゾン雰囲気中処理により修復され、高発光輝度の蛍光体となる。 - 特許庁

A haze region is formed at least in a part of the main surface of the semiconductor wafer, and when the defect measurement is carried out in the haze region, the threshold value Vref2 of the scattered light intensity for distinguishing the crystal defect measurement point is set higher than the average scattered light intensity level of the entire haze region.例文帳に追加

半導体ウェーハは、主表面の少なくとも一部にヘイズ領域が形成されているものであり、該ヘイズ領域における欠陥測定を行なう際に、結晶欠陥測定点を識別するための散乱光強度の閾値Ｖref２を、ヘイズ領域全体の平均的な散乱光強度レベルよりも高く設定する。 - 特許庁

While the main surface of the semiconductor wafer is scanned by a light beam, the intensity of scattered light from the respective measurement points by the light beam is measured, the measurement point with the intensity of scattered light set above a predetermined threshold value is distinguished as a crystal defect measurement point, and thus the defect measurement is carried out.例文帳に追加

半導体ウェーハの主表面を光ビームにて走査しつつ、該光ビームによる個々の測定点からの散乱光強度を測定し、該散乱光強度が予め定められた閾値以上となっている測定点を結晶欠陥測定点として識別することにより欠陥測定を行なう。 - 特許庁

The variation of the intensity of the monitor light with time reflects the degree of progress of the defect formation and the time at which the irradiation of the electromagnetic wave is halted is decided on the basis of the variation of the intensity of the monitor light in time, thus the electromagnetic wave for generating the glass defect is irradiated for a necessary and sufficient period of time.例文帳に追加

モニター光強度の時間的変化は欠陥生成の進行度合いを反映することから、モニター光強度の時間的変化に基づいて電磁波の照射を停止する時期を決定することにより、ガラス欠陥生成用の電磁波照射を必要十分な時間にわたって行うことができる。 - 特許庁

An edge intensity image and edge angle image are generated by differential processing applied to an original image of the inspecting object, an angle change intensity image is generated by applying differential processing to the edge angle image, and a defect of the inspecting object is detected based on a feature common to the edge intensity image and angle change intensity image.例文帳に追加

検査対象物の原画像に対して適用する微分処理により、エッジ強度画像とエッジ角度画像を生成し、前記エッジ角度画像に対して、さらに微分処理を適用することにより、角度変化強度画像を生成し、前記エッジ強度画像と前記角度変化強度画像に共通する特徴に基づいて前記検査対象物の欠陥を検出する。 - 特許庁

Thus, oxygen defect of the host crystal caused by treatment in the reducing atmosphere is restored by being treated in the oxygen plasma atmosphere, so that the phosphor having high light emission intensity is obtained.例文帳に追加

還元雰囲気中処理工程で生じた母体結晶の酸素欠陥が酸素プラズマ雰囲気中処理により修復され、高い発光輝度の蛍光体が得られる。 - 特許庁

In addition, since the lattice defect present therein can be reduced by, for example, allowing Al present in the phosphor to form a solid-solution with SrIn2O4, the emission intensity is further enhanced.例文帳に追加

しかも、蛍光体には含まれるAlがSrIn_2O_4 に固溶すること等によって、それに存在する格子欠陥が減じられることから、発光強度が一層高められる。 - 特許庁

Thus, oxygen defect of the host crystal caused by treatment in the reducing atmosphere is restored by being calcined in the oxidizing atmosphere, so that the phosphor having high light emission intensity is obtained.例文帳に追加

還元雰囲気中処理工程で生じた母体結晶の酸素欠陥が、酸化雰囲気焼成により修復され発光輝度の高い蛍光体が得られる。 - 特許庁

When an optical disk is inserted, the defect is detected based on measurement results of curvature of the optical disk, intensity of reflected light from a recording surface and error rate in reproduction.例文帳に追加

光ディスクが挿入されると、光ディスクの反りと記録面からの反射光の強度と再生時のエラーレートの計測結果に基づいて欠陥を検出する。 - 特許庁

In the first process, a monitor light 14 absorbed by the glass defect is made incident on the core and the intensity of the monitor light 16 emitted from the optical waveguide is measured.例文帳に追加

第１工程では、ガラス欠陥に吸収されうるモニター光１４をコアに入射させ、光導波路から出射するモニター光１６の強度を測定する。 - 特許庁