Defectsを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 10273件
To manufacture an electrophotographic photoreceptor with high yield by forming a film with less film deposition defects, such as minute projections on a cylindrical substrate, as well as, suppressing film peeling.例文帳に追加
円筒状基体に対して微小突起なの成膜欠陥の少ない膜を形成できるようにするとともに膜剥がれが生じることを抑制し、歩留まり良く電子写真感光体を製造できるようにする。 - 特許庁
To obtain a cosmetic that has excellent correction effect on color unevenness such as stains, freckles, somberness, etc., and skin defects of skin unevenness such as pores, wrinkles, etc., sufficient transparent feeling and provides a natural finish.例文帳に追加
優れたシミ・ソバカス・くすみ等の色ムラや毛穴、しわ等の肌の凹凸等の肌の欠点を補正する効果を有し、十分な透明感を有し、自然な仕上りが得ることができる化粧料の提供。 - 特許庁
To provide a weft length measuring and reserving device preventing weave defects, mispicking and the like through maximally reducing weft damage or the like associated with the contact between an unreeled weft and peripheral members in weft insertion.例文帳に追加
緯糸測長貯留装置において、緯入れ時における解舒緯糸と周辺部材との接触に伴う緯糸の損傷等を可及的に減少させて、織り欠点や緯入れミス等を防止する。 - 特許庁
Defects can be detected efficiently by performing defect examination S22 detecting magnetization inversion part based on variation of a base line of a signal read out from the medium in this state.例文帳に追加
この状態にて媒体から読み出される信号のベースラインの変動に基づいて、磁化反転部分を検出する欠陥調査S22を実施することで、欠陥を効率的に検出することができる。 - 特許庁
To make it possible to decrease the splitting defects in a splitting stage by the arrangement constitution of columnar film spacer patterns arranged in the spacing between an array substrate and a counter substrate.例文帳に追加
アレイ基板と対向基板との間隙に配置する柱状膜スペーサパターンの配置構成によって、割断工程における割断不良を減少できる液晶表示パネルのスペーサ形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when an exposure light source of ≤160 nm, concretely F_2 excimer laser light (157 nm) is used and ensuring improved line edge roughness and development defects.例文帳に追加
160nm以下、具体的にはF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a process for producing single crystals with the Czochralski method which produces high quality single crystals having only few crystal defects and single crystals produced by the process.例文帳に追加
結晶欠陥の少ない高品質の単結晶を作製することが可能なチョクラルスキー法による単結晶の製造方法、及びこの製造方法により作製された単結晶を提供する。 - 特許庁
To provide a correction method which is free of problems, such as damages to glass substrate, gallium stain, riverbed and lowering of transmittance, generated in a method of correcting black defects, in a photomask which utilizes laser light or ion beam.例文帳に追加
レーザー光やイオンビームを用いたフォトマスクの黒欠陥部の修正方法において生じる、ガラス基板ダメージ、ガリウムステイン、リバーベッド、透過率低下等の問題のない修正方法を提供する。 - 特許庁
The surface temperature of the semiconductor wafer is maintained to be a recovery temperature T2 by light emitted from the flash lamp for a time t2 (10 milliseconds to 100 milliseconds), and the recovery of defects introduced into a silicon crystal is performed.例文帳に追加
フラッシュランプの発光によって半導体ウェハーの表面温度を回復温度T2に時間t2(10ミリ秒〜100ミリ秒)維持し、シリコン結晶中に導入された欠陥の回復を実行する。 - 特許庁
To provide a method of producing an aluminum nitride single crystal using a sublimation method, capable of preventing occurrence of defects in the single crystal and of efficiently producing the crystal with good quality and large diameter.例文帳に追加
単結晶に欠陥が発生することを抑制でき、良質で大口径の単結晶が効率よく製造できる、昇華法を用いた窒化アルミニウム単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a nitride semiconductor epitaxial wafer having a large size with less crystal defects, warpage and cracks, and also to provide a nitride semiconductor epitaxial wafer manufactured by the same.例文帳に追加
結晶欠陥や反りやクラックが少なく大面積の窒化物半導体エピタキシャルが得られる窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法及び窒化物半導体エピタキシャルウェハを提供する。 - 特許庁
To provide a silicon single crystal pulling method, with which the diameter of a silicon single crystal is correctly controlled, and thus the silicon single crystal of high quality in which crystal defects are reduced can be obtained.例文帳に追加
シリコン単結晶の直径を正確に制御することによって、結晶欠陥の少ない高品質なシリコン単結晶を得ることが可能なシリコン単結晶引上方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polyphenylene sulfide film which can reduce the surface defects of a high function film by reducing surface coarse projections and improving surface smoothness and is suitable for a release film.例文帳に追加
表面粗大突起を低減し表面平滑性を改良することにより、高機能膜の表面欠陥を減少させることのできる離型用フィルムとして好適なポリフェニレンスルフィドフィルムを提供する。 - 特許庁
To obtain an excellent laminate applicable to various purposes by eliminating defects of a foamed polyethylene resin such as low abrasion resistance and low strength by effectively coating surface of the resin.例文帳に追加
発泡ポリエチレン樹脂の表面を効果的に被覆して、摩耗に弱い、強度が弱い、といった発泡ポリエチレン樹脂の欠点を解消して、各種用途に適用可能な優れた積層体を得る。 - 特許庁
To provide a wetting agent for semiconductor and a composition for polishing which can improve the wettability of the surface of a semiconductor substrate and can remarkably reduce fine defects such as the adhesion of particles.例文帳に追加
半導体基板表面の濡れ性を向上させ、パーティクルの付着等の微小な欠陥を著しく低減させることができる半導体用濡れ剤および研磨用組成物を提供する。 - 特許庁
This polyimide film is characterized in that the density of defects caused by a polymer modification product and an imide modification product on the film surface is 6.0×10^-3/m^2 or lower.例文帳に追加
フィルム表面上のポリマー変性状物とイミド変性状物起因による欠点の密度が、下記測定方法で測定した結果、6.0×10^-3個/m^2以下であることを特徴とするポリイミドフィルム。 - 特許庁
To obtain a preferable image by performing proper tone change, chroma change and color change to digital image data without generating visual defects such as tone jump and unnecessary roughness of an image.例文帳に追加
デジタル画像データに対して画像のトーンジャンプや不要な荒れなどの視覚的な欠陥を発生させることなく適切な階調変更や彩度変更や色変更を行って好ましい画像を得る。 - 特許庁
To provide a zinc oxide single crystal having a particular uniform shape and few defects; and to provide a method for producing the same, by which such a single crystal can be produced with good reproducibility.例文帳に追加
特定の形状に揃った欠陥の少ない酸化亜鉛単結晶およびこのような単結晶を再現性良く製造することができる酸化亜鉛単結晶の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To improve yields in an active matrix substrate, its manufacturing method, an optoelectronic device and its manufacturing method by reducing initial defects and damage on an insulation layer caused by an ion implantation.例文帳に追加
アクティブマトリクス基板とその製造方法、及び電気光学装置とその製造方法において、イオン注入に起因する絶縁膜の初期欠陥やダメージを低減させて歩留まりを向上させること。 - 特許庁
The variable valve mechanism avoids most of defects (cost, NVH, etc.), in spite of acquiring most of advantages of a bidirectional electromagnet arrangement (improved fuel economy, reduced starting time discharge, etc.).例文帳に追加
可変バルブメカニズムは、双方向電磁石配列の利点(向上した燃料経済性、減少した始動時排出物等)の殆どを取得しているにも拘わらず、欠陥(コスト、NVH等)の殆どを回避する。 - 特許庁
A vision system having video cameras connected to a specially adapted computer enables monitoring the product travelling through the device to detect various defects in the product formation.例文帳に追加
特別に適合されたコンピュータにビデオカメラを結合させた視覚システムは、製品形成において様々な欠陥を検出するために、装置を通って移動する製品を監視することを可能にする。 - 特許庁
To provide reticle inspection technology with which the positional relation between patterns can be evaluated for patterns that may be turned into defects on exposure to a sample such as wafer in double patterning technology in the same layer.例文帳に追加
同一レイヤーへのダブルパターニング技術において、ウエハ等の試料への露光時に欠陥となりうるパターンについてパターン間の位置関係の評価を可能にするレチクル検査技術を提供する。 - 特許庁
The nitride crystal nearly free from lattice defects is obtained by a simple method comprising subjecting a group III nitride crystal obtained by a conventional technique to heat treatment in a metal melt containing at least a group III metal.例文帳に追加
従来技術で得られたIII 族窒化物結晶に、少なくともIII 族金属を含む金属融液中で熱処理を施すという簡単な方法により、格子欠陥が少ない窒化物結晶が得られる。 - 特許庁
To provide a rough ceramic ball which prevents wear and flawing of a grindstone for polishing and can prevent occurrence of defects in the rough ceramic ball itself and to provide a method for manufacturing the rough ceramic ball.例文帳に追加
研磨を行う砥石をの摩耗やキズの発生を防止するとともに、セラミックボール素球自身の欠陥の発生を防止することができるセラミックボール素球及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a defect detection method for easily detecting defects in an SOI substrate by performing etching while restraining deterioration in the surface roughness of a silicon film and uniformity in a film thickness within a plane.例文帳に追加
シリコン膜の表面粗さおよび面内の膜厚均一性の悪化を抑えながらエッチングすることで、SOI基板の欠陥を検出容易にする、欠陥検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a solid-state imaging apparatus capable of preventing crystal defects and suppressing a dark current even when ions are implanted with high energy without complicating manufacture processes.例文帳に追加
製造工程を複雑にすることなく、高エネルギーでイオン注入を行っても、結晶欠陥を防止することができ、暗電流を抑えられる個体撮像装置の製造方法を提供できる。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus and an image forming method capable of suppressing defects of skew correction for envelopes and stably forming an image on a desired position of an envelope accurately.例文帳に追加
封筒の斜行補正の不良を抑制するとともに、画像を封筒の所望位置に安定して精度良く形成することができる画像形成装置及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁
A specific image processing is made to the imaged image to specify the short-circuited point between the electrodes, thus quickly and reliably detecting short-circuiting defects and reducing repairing time.例文帳に追加
この撮像された画像に対して所定の画像処理を行って、電極間のショート箇所を特定するので、ショート欠陥を短時間で確実に見つけ出すことができ、リペア時間の短縮を実現できる。 - 特許庁
To provide electroplating bath for nickel plating which requires no boric acid nor treatment of removing boric acid and boron in plating waste water and provides a dense nickel plating film small in defects.例文帳に追加
めっき排水中のほう酸やほう素の除去処理を行わなくてもよい、ほう酸を使用しないめっき浴で、緻密で欠陥の少ないニッケルめっき皮膜が得られる電気ニッケルめっき浴を提供する。 - 特許庁
To provide a sheet type washing device such that when both surfaces of a substrate are washed, a processing time can be shortened and the substrate washing can be effectively performed with less process defects.例文帳に追加
基板の両面を洗浄するに際して、加工時間を短くすることができるとともに、工程欠陥が少なく、有効に基板洗浄を行うことが可能な枚葉式洗浄装置を提供すること。 - 特許庁
To prevent the occurrence of defects on a substrate after a developing step in the formation of an ultrafine photoresist pattern at least partially having a pattern of ≤0.25 μm pattern width.例文帳に追加
少なくともその一部にパターン幅が0.25μm以下のパターンを有する超微細なホトレジストパターンの形成において、現像処理工程後基板上に発生するディフェクトの発生を有効に防止する。 - 特許庁
To provide a styrenic resin composition which, obtained by overcoming the defects of methods used for imparting flexibility to a styrenic resin, gives good moldability and excellent flexibility with a less addition amount of a plasticizer.例文帳に追加
スチレン系樹脂の柔軟性を付与する為に用いられる方法の欠点を克服し、より少ない可塑剤添加量で、成形性が良好かつ柔軟性の優れたスチレン系樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition so excellent in shelf stability as not to cause image defects due to the crystallization of a UV absorbent precursor even when the composition is held in an environment at a high temperature.例文帳に追加
高温環境下に保持された場合でも、紫外線吸収剤前駆体の結晶化による画像欠陥の発生を伴うことのない、保存安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a process for manufacturing a prepreg which prevents air accumulation and prevents the occurrence of irregular impregnation of reinforcing fibers with a resin and external appearance defects of the prepreg after solving the conventional technical point at issue.例文帳に追加
従来技術の問題点を解決した上で、空気溜まりを防止し、補強繊維への樹脂含浸むら、プリプレグの外観欠点の発生を防止する、プリプレグの製造方法を提供する。 - 特許庁
Accordingly, in the GaN single crystal substrate 11, the rearrangement of atoms occurs on the substrate surface including many fine defects formed by polishing, and the surface of the substrate 11 is planarized.例文帳に追加
したがって、このGaN単結晶基板11においては、研磨により微細な欠陥が多数形成された基板11表面において、原子再配列がおこなわれ、基板11表面が平坦化されている。 - 特許庁
To prevent occurrence of defects in reproducibility of an image due to void and toner scattering during transfer in an image forming method using an intermediate transfer system.例文帳に追加
中間転写方式を用いた画像形成方法において、転写時に発生する中抜けやトナーの飛び散りによる画像の再現性不良の発生を防止した画像形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide containers solving defects, such as the necessity to feed a test sensor from the container, that exist in a container storing reagents in a tape form, and to provide a method of using the containers.例文帳に追加
試薬をテープ形態で含む容器には、試験センサを容器から送りださなければならない等の欠点が存在したので、これらの欠点を解決する容器及びその使用方法を提供する。 - 特許庁
In cases of ranges of such temperatures and processing times, bonds between Si and other atoms (for example, H) are hard to be cut off, and dangling bonds (defects) in the amorphous silicon film can be reduced.例文帳に追加
このような基板温度および処理時間の範囲であれば、Siと他の原子(例えば、H)との結合の手が切れ難く、非晶質シリコン膜中のタングリングボンド(欠陥)を低減することができる。 - 特許庁
To provide an endless belt with joints for a transfer member of an electrostatic photographic device which is capable of transferring images in the joint portions of the belt without substantially or entirely having the printing defects by the joints.例文帳に追加
継ぎ目による印刷欠陥をほとんどもしくは全く有することなく像をベルトの継ぎ目部で転写可能な、静電写真装置の転写部材用のエンドレスの継ぎ目付きベルトを提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a high quality epitaxial wafer with reduced crystal defects and a sufficiently large carrier time constant, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the epitaxial wafer.例文帳に追加
本発明は、結晶欠陥が少なく、キャリア時定数が十分大きい高品質なエピタキシャルウエハの製造方法と、当該エピタキシャルウエハを用いた半導体装置の製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁
To obtain an aqueous or aqueous-alcoholic cosmetic composition capable of preventing defects of removing by brushing and of residues, and obtaining performance keeping desired hair style.例文帳に追加
ブラシ掛けによる除去や残留物の欠点を防ぐことができ、一方で、所望のヘアースタイルを保持する性能を得ることができる水性もしくは水性−アルコール性化粧用組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive silane coupling agent for forming a fine particle pattern, a dot array pattern and a hole array pattern having small defects in small amount of processes and a method for forming the patterns by using the photosensitive silane coupling agent.例文帳に追加
少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polyamide monofilament having a high strength and high flexibility which are conventionally not achieved, by dissolving the defects of the conventional polyamide monofilament such as insufficient strength and flexibility on being wet.例文帳に追加
従来のポリアミド樹脂製モノフィラメントの強度および湿時の柔軟性不足の欠点を解消し、従来実現できなかった高強度で柔軟性の高いモノフィラメントを提供しようとするものである。 - 特許庁
To provide a liquid crystal polyester fiber having further excellent processability in a high-order processing step with little defects and fibrils without fusion among single yarns even when solid-phase polymerization is performed in a package form.例文帳に追加
パッケージ形状で固相重合を行っても単糸間融着がなく、更に高次加工工程での加工性に優れる、欠陥およびフィブリルの少ない液晶ポリエステル繊維を提供する。 - 特許庁
To provide a thermoplastic resin composition and molded products, comprising polyamide resin and polylactic acid resin, and much improved in mechanical properties, moldability and heat resistance, which are defects of polylactic acid resin.例文帳に追加
ポリ乳酸樹脂の欠点であった機械特性、成形性や耐熱性を大幅に向上したポリアミド樹脂とポリ乳酸樹脂からなる熱可塑性樹脂組成物および成形品を提供する。 - 特許庁
To provide a positive type photoresist composition suitable for far ultraviolet light, particularly KrF excimer laser light, not causing the problem of development defects and excellent in stability in a semiconductor producing process.例文帳に追加
遠紫外光、特にKrFエキシマレーザー光に好適で、現像欠陥の問題を生じず、しかも半導体製造プロセス上、安定性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a PZT-based perovskite oxide in which replacement ions of more than 1 mol% and replacement ions of more than 10 mol% are added to an A site and a B site, respectively, and A site defects are few.例文帳に追加
PZT系のペロブスカイト型酸化物において、Aサイトに1モル%超の置換イオン及びBサイトに10モル%以上の置換イオンを添加され、且つAサイト欠陥が少ないものとする。 - 特許庁
To provide a compound semiconductor substrate capable of suppressing the occurrence of cracks, crystal defects or the like in a nitride semiconductor single crystal layer and improving the crystallinity of the nitride semiconductor single crystal layer.例文帳に追加
窒化物半導体単結晶層の割れ(クラック)、結晶欠陥等の発生を抑制し、かつ、窒化物半導体単結晶層の結晶性の向上を図ることができる化合物半導体基板の提供。 - 特許庁
To provide a flaw inspection device which can continuously detect the defects of a porous hollow yarn film which travels easily, even for hydrophobic and hydrophilic porous hollow yarn film.例文帳に追加
疎水性及び親水性のいずれの多孔質中空糸膜についても、走行する多孔質中空糸膜の欠陥を連続的に容易に検出することができる欠陥検出装置の提供。 - 特許庁
To provide a hydrogen separator that hardly generates defects such as cracks and exfoliation in a hydrogen separating layer, is excellent in durability, and is compatible in excellent hydrogen separating capacity and hydrogen permeating capacity.例文帳に追加
水素分離層に亀裂や剥離等の欠陥が生じ難く、耐久性に優れているとともに、良好な水素分離能と水素透過性能とを両立させた水素分離体を提供する。 - 特許庁
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