「Design Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The inventive step of systematization of human transactions is determined, taking into consideration the process of system development, namely, system design based on the results of system analysis. 例文帳に追加

商取引（特にポイントサービス）で行われていることをシステム分析し、その結果に基づいてシステム設計を行う、という立場から進歩性を有するかどうかの判断を行う。 - 特許庁

To provide an interior trim material for vehicle which can make a design face exhibit sufficient voluminous feeling irrespective of allowing manufacture in a simple production process.例文帳に追加

簡単な製造工程により製造が可能であるにもかかわらず、意匠面に充分なボリューム感を呈することのできる車両用内装材を提供すること。 - 特許庁

To provide a fixing clamp for an electronic device which can clamp first and second objects easily and can reduce the alteration of existing design and process.例文帳に追加

電子装置のための固定具であって、第１及び第２の物体の固定が容易で、且つ、既存の設計や工程の変更を少なく出来る固定具を提供する。 - 特許庁

To quickly discover any mistake related with specifications in system development, and to improve quality in design configurations and source code quality and production efficiency in a production process.例文帳に追加

システム開発において仕様に関するミスを早期に発見し、設計構成における品質向上、生産工程におけるソースコード品質および生産効率の向上を図る。 - 特許庁

For the progress management object 22, when a person in charge of design and a person in charge of manufacture, etc., perform allocated fixed coping processings, the update process of state information 23 is performed.例文帳に追加

進捗管理対象２２について、設計担当や製造担当などが割り当てられた一定の対応処理を実行すると、状態情報２３の更新処理をする。 - 特許庁

(5) The Minister of Land, Infrastructure, Transport and Tourism may, notwithstanding the provisions of the preceding paragraph, omit a part of the inspection for the design or manufacturing process concerning the aircraft listed below. 例文帳に追加

５　前項の規定にかかわらず、国土交通大臣は、次に掲げる航空機については、設計又は製造過程について検査の一部を行わないことができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The design allows CMOS circuitry formation to be accomplished in the latter half of the manufacturing process, minimizes the impact of heat treatment, and alleviates heat related restrictions in other treatments.例文帳に追加

製造の後半工程でＣＭＯＳ回路を形成し、熱処理の影響を最小限とし、また、他の処理において熱制限を緩和させることが可能となる。 - 特許庁

To reduce production costs by a method in which an accessory-shaped tile molding body having desired colored design is formed simply by pressing, and a production process is simplified.例文帳に追加

プレス成形により所望の着色デザインを有する役物形状のタイル成形体を簡単に形成し、製造工程を簡略化して製造コストを低減する。 - 特許庁

To shorten design TAT by responding change of a test method without recalculating the test efficiency each time or adding a process of inserting a new test point.例文帳に追加

テスト手法が変更されても、その都度テスト効率を計算し直したり、新たなテストポイントを挿入する工程を追加することなく対応して、設計ＴＡＴを短縮する。 - 特許庁

To provide a pressure detection device having excellent productivity, capable of simplifying a layout design of an electrode part on a circuit board, by simplifying a wire bonding process.例文帳に追加

ワイヤボンディング工程を簡素化することで生産性に優れ、回路基板における電極部のレイアウト設計を簡素化することが可能な圧力検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a semiconductor chip of the same design which requires no complex process as a plurality of laminated semiconductor chips can be used.例文帳に追加

積層する複数の半導体チップとして複雑なプロセスを必要としない同一設計の半導体チップを用いることが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fuse unit of which the manufacturing process is simple, and further the design freedom of a fuse element is not restricted by the installation direction of a bolt, and the die structure is not complicated.例文帳に追加

製造工程が容易であり、しかも、ボルトの設置向きによってヒューズエレメントの設計自由度が制限されず、金型構造も複雑化しないヒューズユニットを提供する。 - 特許庁

Another embodiment is a method and a system for generating a simulation data store using a signal off a test grating that models the effect of the IC design and/or the fabrication process.例文帳に追加

別の実施例は、ＩＣデザイン及び／または製作プロセスの影響をモデル化するテスト格子を離れた信号を使用した、シミュレーションデータストアの生成法とシステムである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that allows improvement of electrical characteristics without impairing the design flexibility of trenches and without being restricted by process conditions.例文帳に追加

本発明は、トレンチの設計自由度が損なわれることなく、プロセス条件に制約されることなく、電気的特性を向上することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

Management should understand and appropriately assess the design and operating effectiveness of internal controls performed by the service organization over the outsourced process. 例文帳に追加

経営者は、委託業務に係る内部統制について、当該受託会社が実施している内部統制の整備及び運用状況を把握し、適切に評価しなければならない。 - 金融庁

It would be useful to utilize charts and diagrams as necessary for clarification and recording in the assessment of the design and operation of process-level controls. 例文帳に追加

なお、業務プロセスに係る内部統制の整備及び運用状況の評価については、必要に応じ、図や表を活用して整理・記録することが有用である。 - 金融庁

b. Assess the design effectiveness of internal controls after the change, including the misstatement risk and controls to mitigate the risk in the business process associated with the change 例文帳に追加

b. 変更に伴う業務プロセスにおける虚偽記載の発生するリスクとこれを低減する統制の識別を含む変更後の内部統制の整備状況の有効性の評価 - 金融庁

External auditors should understand the status of the design and operation of process-level controls which have been included in the scope of assessment, and evaluate the appropriateness of the management’s assessment. 例文帳に追加

監査人は、評価対象となった業務プロセスに係る内部統制の整備及び運用状況を理解し、経営者の評価の妥当性について検討する。 - 金融庁

To provide a simulation system and its apparatus that can perform design operation and simulation, which are optimized and speeded up in the total manufacturing process of products.例文帳に追加

製品の全体の製造工程において最適化され、かつ迅速化された設計演算、シミュレーションを行うことができるシミュレーションシステムとその装置を提供すること。 - 特許庁

In a process ST1, developer is supplied onto a resist film in a waver having the resist film where design patterns different in the numerical apertures are exposed on an upper face.例文帳に追加

まず、工程ＳＴ１において、上面に互いの開口率が異なる設計パターンが露光されたレジスト膜を有するウェハにおけるレジスト膜の上に現像液を供給する。 - 特許庁

A process of forming the pattern 5 on the substrate 6 is simulated on the basis of the design data of the mask patterns 3, 4 formed on at least one of the masks 1, 2.例文帳に追加

少なくとも１枚のマスク１，２に形成されているマスクパターン３，４の設計データに基づいて基板６上にパターン５を形成するプロセスのシミュレーションを実行する。 - 特許庁

To provide a knot yarn capable of exhibiting an elegant design and stretchability in general stretch clothing, interior materials and the like, without complicating a process.例文帳に追加

一般ストレッチ衣料およびインテリア資材などにおいて優美な意匠性およびストレッチ性を発現することができる星糸を、工程を複雑化することなく提供する。 - 特許庁

The method also includes developing design and/or guidelines for splitting a pattern to be processed using the multiple patterning lithographic process based on the evaluation.例文帳に追加

方法は、前記評価に基づいて多重パターニングリソグラフプロセスを用いて処理すべきパターンを分割するための設計及び／又は分割指針を導出することを含む。 - 特許庁

This computer system 30 includes disk storage devices for storing a process parameter database 32, the design of a circuit 31 and a program for instruction 33 performing a modeling method.例文帳に追加

コンピュータ・システム（３０）はプロセス・パラメータ・データベース（３２）、回路の設計（３１）、及びモデル化方法を実行するプログラム命令（３３）を記憶するディスク記憶装置を含む。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING DESIGN MODEL, SOLVENT-FREE TWO-LIQUID QUICK CURABLE URETHANE RESIN LIQUID FOR SPRAY COATING MATERIAL, AND SOLVENT-FREE TWO-LIQUID REACTION CURABLE URETHANE RESIN PUTTY MATERIAL FOR MOUNDING PROCESS例文帳に追加

デザインモデル製造方法、スプレー塗装材用無溶剤型２液急速硬化性ウレタン樹脂液及び盛り付け加工用無溶剤型２液反応硬化性ウレタン樹脂パテ材 - 特許庁

In the design of the front handle, the wiring of the electric tool can be completed from one side of the tool without upsetting the tool during the wiring process.例文帳に追加

前記前方ハンドルデザインでは、前記電動工具の前記配線は、前記配線工程中に前記工具を引っ繰り返さずに前記工具の片側から完了することができる。 - 特許庁

The development of computers has lowered the threshold to process Sho works using computers and at the same time a genre called Design Shodo has been gradually established. 例文帳に追加

コンピュータの発達とともに、コンピュータを使って書作品を加工したりする敷居が下がるのと時を同じくして、デザイン書道と呼ばれるジャンルが確立してきた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To shorten development/design of a receiver having an OSD display function of a menu and an electronic program table and to improve mass production effect in a production process.例文帳に追加

メニューや電子番組表などのＯＳＤ表示機能をもつ受信機の開発・設計の短縮化や、生産過程での量産効果の向上などを図ること。 - 特許庁

With this, it is possible to eliminate a data processing error, caused by manual intervention, and regression in the manufacturing process, including redesigning and re-measurement, caused by the design restriction condition.例文帳に追加

これより、人手が介在することによるデータ処理ミス、および設計制約条件に起因した再設計や再測定といった製造工程の戻りが解消可能となる。 - 特許庁

To configure rocker arms against increases in their weight in freedom from design changes to their finished configuration and against defects during their manufacturing process at the same time.例文帳に追加

ロッカアームにおいて、製造過程での欠陥発生を回避できる形状としながら、重量増加や仕上がり形状の設計変更を回避できる形状とすること。 - 特許庁

To provide the design structure of an improved heat exchanger tube bundle which can increase a heat transfer surface area of a heat exchanger having a predetermined size, and a process for the production thereof.例文帳に追加

所与の大きさの熱交換器に対して、熱伝達表面積を増加できる改良された熱交換器管束の設計構造及びその製法を提供する。 - 特許庁

This drive program preparation method for preparing the drive program for driving the device having the movable part movable three-dimensionally respect to the target object, includes a process for acquiring a spreadsheet file including a three-dimensional design value related to the target object; and a process for preparing the drive program for driving the device based on the design value in the spreadsheet file acquired in the acquisition process.例文帳に追加

対象物体に対して、三次元で移動可能な可動部を備えた装置を駆動するための駆動プログラムを作成する駆動プログラム作成方法であって、対象物体に関わる三次元の設計値を含む表計算ファイルを取得する取得工程と、取得工程により取得した表計算ファイルの設計値に基づいて、装置を駆動するための駆動プログラムを作成する作成工程とを有する。 - 特許庁

In this manufacturing method of the building plate 1, as a preparation process, an original plate 2 having the design surface where a plurality of projecting parts 21 different in projecting height H from each other is prepared, and subsequently as a lower layer forming process, lower coating material 40 is applied to the design surface 201 of the original plate 2 and dried to form a lower coating layer 4.例文帳に追加

建築板１の製造方法においては、準備工程として、突出高さＨが互いに異なる複数の凸部２１を形成した意匠表面２０１を有する原板２を準備し、次いで、下側塗料層形成工程として、原板２の意匠表面２０１に下側塗料４０を塗布し乾燥させて下側塗料層４を形成する。 - 特許庁

This progress management system 2 converts the data quantity of a design document file to the number of output papers in printing, calculates the working time required for the completion of the design document file based on the converted number of output papers, and detects the working process requiring the longest working time in the design project based on the calculated working time.例文帳に追加

進捗管理システム２は、設計ドキュメントファイルの情報量を印刷時の出力用紙枚数に換算し、換算した出力用紙枚数に基づいて、設計ドキュメントファイル完成に要する作業時間を算出し、算出した作業時間に基づいて、設計プロジェクトにおける最も作業時間を要する作業工程の流れを検出する。 - 特許庁

In the target design data 101, the multiply-exposing mask patterns are formed by carrying out a process of disposing auxiliary patterns 105 virtually connecting the tips 103a, 104a of a pair of the line design patterns 103, 104 facing each other with a predetermined space in between at the tips 103a, 104a in the design data.例文帳に追加

目的となる設計データ１０１において、先端部分１０３ａ,１０４ａで所定の離間距離をおいて対向する一対の線状設計パタン１０３，１０４について、設計データ上で仮想的に先端部分１０３ａ,１０４ａ間を接続する補助パタン１０５を配する処理を行い多重露光用マスクパタンを生成する。 - 特許庁

The manufacturing method of the decorative sheet 10 having a design layer 13 between a substrate sheet 11 and a surface sheet 12 has a process of arranging a heat-adhesive film 14 between the substrate sheet 11 and the design layer 13 and bonding the resultant body by thermocompression.例文帳に追加

基材シート１１と表面シート１２との間に、意匠層１３を備えた加飾シート１０の製造方法であって、基材シート１１と意匠層１３との間に、熱接着性フィルム１４を配置して熱圧着する工程を有する製造方法である。 - 特許庁

To provide a design support system and design support method of a process facility for visually or quantitatively and easily obtaining effective heat and ineffective heat of utility to a product, and for efficiently setting the optimal utility balance.例文帳に追加

製品に対する用役の有効熱及び無効熱を視覚的又は定量的に容易に把握することができ、最適な用役バランスを効率的に設定することのできるプロセス設備の設計支援システム及び設計支援方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a die structure design process following the layout design, a parameter input related to a plurality of components arranged in a temporary die structure is performed, and the deformation processing of the shapes of the components is performed, and the final press die is displayed in the form of a drawing.例文帳に追加

そしてレイアウト設計工程に続く型構造設計工程では、仮の型構造内に配置された複数の部品に関するパラメータ入力を行って当該部品の形状の変形処理を行って最終的なプレス金型を図面化して表示する。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic [440], design rule check [450], optical process correction [430], and phase mask shift assignment [420]).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図［４４０]、設計ルールチェック[４５０]、光学プロセス修正[４３０]、位相マスクシフト割り当て[４２０]）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic 440, design rule check 450, optical process correction 430, and phase shift mask assignment 420).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図４４０、設計ルールチェック４５０、光学プロセス修正４３０、位相マスクシフト割り当て４２０）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

A semiconductor integrated circuit layout design method comprises a process for storing a function TAP cell having a function inside and constituting a back bias function in a macro cell library used for layout design of the semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

本発明は、半導体集積回路のレイアウト設計に用いられるマクロセルライブラリに、ファンクション機能を内部に備えた、バックバイアス機能を構成するためのファンクションＴＡＰセルを格納しておく工程を含む半導体集積回路レイアウト設計方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a decorative sheet includes a process for forming a design layer on a base material, a process for smoothing a surface of the design layer, a process for laminating an ionizing-radiation-curable resin composition on the smooth surface of the design layer, and a process for forming a surface protecting layer by curing the ionizing-radiation-curable resin composition.例文帳に追加

基材上に意匠層を形成する工程と、該意匠層表面を平滑面にする工程と、該意匠層の平滑面上に電離放射線硬化性樹脂組成物を積層する工程と、該電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化して表面保護層を形成する工程とを含む加飾シートの製造方法であって、さらに該加飾シートの裏面の十点平均粗さＲｚＪＩＳと基材の厚さＴとが下記式（Ｉ）を満たし、かつ、算術平均粗さＲａと基材の厚さＴとが下記式（ＩＩ）を満たすようにする粗面化処理工程を含むことを特徴とする加飾シートの製造方法である。 - 特許庁

When the gift along with the package sheet thereon is placed in a delivery process, the delivery information slip is peeled off one by one from the top during the delivery process, and the gift is finally delivered to the receiver in a state that the design under the sheet member is entirely exposed.例文帳に追加

この包装紙を商品に貼付した状態で配送が行なわれると、この配送途中で各控え伝票部が順次、剥離されて、シート部材の下の模様がすべて露出された状態で、商品が届け先に渡される。 - 特許庁

Accordingly, a semiconductor device is manufactured with a mask and a manufacturing process of a small manufacturing cost whose design rule is relaxed without manufacturing a semiconductor device by a fine mask and manufacturing process, thus reducing the manufacturing cost of a semiconductor device.例文帳に追加

このため、微細化したマスク、製造プロセスで半導体装置を製造することなく、設計ルールが緩和された製造コストの小さなマスク、製造プロセスで半導体装置を製造することになり、これにより、半導体装置の製造コストが低減される。 - 特許庁

With this structure, a new process and device development for forming a penetration electrode by dry-etching method after thinning the wafer becomes unnecessary and introduction of special design makes it possible to produce a penetration electrode which is largely decreased in each process difficulty.例文帳に追加

これにより、ウェハを薄型化した後にドライエッチングによって貫通電極を形成する新規のプロセス、装置開発が不要となり、さらに専用設計の導入によって各プロセス難易度を大幅に低減した貫通電極の形成が可能となる。 - 特許庁