「Design Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

This design support device 100 has a design pattern data input part 810, a process variation input part 820, a materialization value generation part 854 of process variation, a minimum interval calculation part 855, a cumulative distribution function decision part 856 of a dielectric breakdown time, and a materialization value generation part 857 of the dielectric breakdown time.例文帳に追加

設計支援装置１００は、設計パターンデータ入力部８１０と、工程ばらつき入力部８２０と、工程ばらつきの実現値生成部８５４と、最小間隔算出部８５５と、絶縁破壊時間の累積分布関数確定部８５６と、絶縁破壊時間の実現値生成部８５７とを備えている。 - 特許庁

This method for producing the flag comprises the first process for printing a desired design to the front surface of the fiber fabric, the second process for more narrowing spaces between the fibers of the fiber fabric than un-narrowed spaces, after the first process, and the third process for adhering the photocatalyst to the back surface of the fiber fabric, after the second process.例文帳に追加

本発明に係る旗の製造方法は、繊維布生地の表面に所望のデザインの印刷を施す第１の工程と、第１の工程の後、繊維布生地の繊維間に存在する空隙を加工前に比べて狭くするための処理を施す第２の工程と、第２の工程の後、繊維布生地の裏面に、光触媒を固着させるための第３の工程とを備える。 - 特許庁

A consultant side 13 receives design data of a target circuit pattern of an integrated circuit device, a difference between a pattern form formed on a substrate using the design data and the design data, and manufacturing process information when the circuit pattern is formed on the substrate from a manufacturer side 11 via a network 12.例文帳に追加

製造者１１側からコンサルタント１３側が、集積回路装置における目標とする回路パターンの設計データと、前記設計データを用いて基板上に形成されたパターン形状と前記設計データとの差異と、前記回路パターンを基板上に形成した際の製造工程情報とを、ネットワーク１２を介して受け取る。 - 特許庁

Product design software 100, die design software 200, NC data creation software 300, workpiece retrieval management software 500 and machine tool control software 600 are interconnected via a dedicated network circuit, and process management software 700 for managing all processes from product design to die forming is also connected.例文帳に追加

製品設計ソフト１００、型設計ソフト２００、ＮＣデータ作成ソフト３００、ワーク出庫管理ソフト５００、工作機械制御ソフト６００は専用のネットワーク回線を介して相互に接続され、さらに製品の設計から型形成までのすべての工程を管理するための工程管理ソフト７００も接続されている。 - 特許庁

Product design software 100, model design software 200, NC data preparation software 300, work delivery management software 400 and machine tool control software 600 are connected to each other through a dedicated network line, and further, process management software 700 for managing all processes from product design to model formation is connected.例文帳に追加

製品設計ソフト１００、型設計ソフト２００、ＮＣデータ作成ソフト３００、ワーク出庫管理ソフト５００、工作機械制御ソフト６００は専用のネットワーク回線を介して相互に接続され、さらに製品の設計から型形成までのすべての工程を管理するための工程管理ソフト７００も接続されている。 - 特許庁

When a design processing part 13 executes the design, the design processing part 13 decides contents of machining by allowing selection of the machining machine and the tool to be used from the equipment database 14 and allowing selection of operation in a machining process, produces a machining shape on the basis of the contents of the machining, and stores it into a machining shape storage part 16.例文帳に追加

デザイン処理部１３は設計を行う場合に、設備データベース１４から使用する加工機械および工具を選択させ、さらに加工処理時の動作を選択させることで、加工の内容を決定し、加工の内容をもとに加工形状を作成して加工形状記憶部１６に記憶する。 - 特許庁

To provide a design system of an electronic circuit board for systematically reflecting an unevenness profile of a board to design information, surely and simply finding out a factor on design of generation of unevenness and easily designing a board with a desired flatness without a trial and error process.例文帳に追加

基板の凹凸プロファイルを設計情報に系統的に反映させることができ、凹凸発生の設計上の要因を確実かつ簡単に突き止めることができ、ひいては試行錯誤を経ずとも所期の平坦度を有した基板を容易に設計することができる電子回路基板の設計システムを提供する。 - 特許庁

Therefore, a process designing and production planning system and a process designing and production planning device equalize the loads on the processing machines, and create a process design and a production plan that meet the delivery schedule that the customer requests and attain the target production quantity.例文帳に追加

上記手段により、本発明の工程設計・生産計画システム、並びに工程設計・生産計画装置では、加工機の負荷を平準化し、顧客の要求する納期の順守や目標生産量の達成を実現する工程設計・生産計画を作成することができる。 - 特許庁

If attribute data that instructs to execute a predetermined process is added to the space element data, a coordinating process part 134 functions upon a change in the shape of the space and executes the process instructed by the attribute data to assist the designer in performing design work.例文帳に追加

そして、空間要素データに所定の処理をおこなうことを指示する属性データが付加されていた場合、当該の空間の形状に変更があると、連携処理部１３４が機能して属性データが指示する処理を実行し、設計者の設計作業の支援をおこなう。 - 特許庁

The method includes the steps of determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and generating the simulated image utilizing the function, where the simulated image represents the imaging result of the target design for the lithographic process.例文帳に追加

この方法は、シミュレートされた画像を生成するための、リソグラフィプロセスに関連したプロセス変動を説明する関数を決定すること、および、リソグラフィプロセスのターゲットデザインの結像結果を表す前記シミュレートされた画像を、前記関数を用いて生成することを含む。 - 特許庁

The system then creates component ordering information 53 and manufacturing process information 54 based on the detailed design information 52, transmits them to a component ordering system 12 and a process facilities control system 13 respectively, and utilizes them for ordering of components or designing of the process control.例文帳に追加

そして、詳細設計情報５２に基づいて部品発注情報５３及び製造工程情報５４を作成し、それぞれ部品発注システム１２及び工程設備制御システム１３に伝達して、部品の発注又は工程制御設計に利用するようにした。 - 特許庁

For a process simulator 510 to support the design of a semiconductor by simulating the production process of a semiconductor device based on prescribed production process conditions, this process simulator has an arithmetic means 512 for simulating the process for forming the structure of the semiconductor device self-matchingly in the production process and an input means 511 for inputting information, after the formation of a section formed self-matchingly in the structure of the semiconductor device.例文帳に追加

プロセスシミュレーター５１０は、所定の製造プロセス条件に基づいて半導体素子の製造工程をシミュレーションして半導体の設計を支援するものであって、製造工程のうち自己整合的に前記半導体素子の構造を形成する工程についてシミュレーションする演算手段５１２と、半導体素子の構造のうち、自己整合的に形成される部分の形成後の情報を入力する入力手段５１１とを有する。 - 特許庁

To provide a CAD (computer aided design) system and CAD program which drastically enhance utility value of a CAD model by adopting curved surface logic which assures continuity of a free curved line/curved surface and makes a design/production process efficient.例文帳に追加

自由曲線・曲面の連続性を保障する曲面理論を採用することで、ＣＡＤモデルの利用価値を大幅に高めることができるとともに、設計・生産プロセスを効率化することができるＣＡＤシステム及びＣＡＤプログラムを提供する。 - 特許庁

In a surface process, a protective layer 4 for protecting the design 3 against a ball running down onto the game board 22 is formed by the transfer or inkjet printing, with paint predominantly composed of a see-through synthetic resin, on the dried layer of the design 3.例文帳に追加

表面工程で意匠図３が乾燥した層の上に遊技盤２２上に流下する球から意匠図３を保護するための保護層４を透視性の有る合成樹脂を主成分とする塗料で転写やインクジェットによる印刷で形成する。 - 特許庁

To provide a chlorosulfonated polyolefin rubber composition providing excellent abrasion resistance without affecting the design of reinforcing agents for obtaining aimed dynamic properties and other blending design, and a process for producing the same.例文帳に追加

本発明の目的は、目的とした力学物性を得るための補強剤やその他の配合の設計に影響することなく、優れた耐摩耗性を得ることのできる、クロロスルホン化ポリオレフィンゴム組成物及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To enable efficient RTL-simulation-based verification of logic functions and timings of a designed logic circuit, and corrections thereto according to the verification results in an upstream side of the design process, in semiconductor integrated circuit design.例文帳に追加

半導体集積回路の設計において、設計した論理回路の論理機能やタイミングをＲＴＬシミュレーションで効率的に検証できるようにするとともに、該検証結果に基づいて設計工程の上流側での修正を可能とする。 - 特許庁

To provide a commodity design planning device and a commodity design planning system allowing an ordinary user to customize each part of a product freely through a communication line network and capable of controlling ordering and receiving an order of the product and a manufacturing process.例文帳に追加

通信回線網を介して一般ユーザが製品の各部品を自由にカスタマイズ出来、更にその製品の受発注及び製造工程を制御する、商品デザイン設計装置、及び商品デザイン設計システムを提供することである。 - 特許庁

To provide a light proximity effect correcting device for a semiconductor production process, capable of performing the sufficient light proximity effect correction even under various conditions in the size and shape of a design pattern and the space width and positioning relationship between the design patterns.例文帳に追加

設計パターンの大きさ・形状や、設計パターン同士のスペース幅や位置関係が多様な状況下においても、十分な光近接効果補正を行うことのできる、半導体製造プロセスの光近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

The chemical substance mass contained in the design process and the processing process is calculated by use of five kinds of data, i.e., component data usable in the product, data on chemical substance contained in each component, processing process data generated by combination of the components, data on chemical substance used in the processing process, and data on the regulation conditions of the law or the like.例文帳に追加

上記課題を解決するために、製品で使用可能な部品データ、各部品に含まれている化学物質データ、部品の組み合わせによって発生する加工プロセスデータ、加工プロセスに使用される化学物質データ、法律等の規制条件データの５種類のデータを使って、設計プロセスおよび加工プロセスで含まれる化学物質量を算出する - 特許庁

A trim margin model formation and holding means 103 forms a trim margin model showing a relation between a trim margin design value and occurrence of trim failure based on a trimming process capability from performance plate width data collected from each production process.例文帳に追加

トリム代モデル作成保持手段１０３は、各製造工程より収集した実績板幅データから、トリム工程能力に基づいて、トリム代設計値とトリム異常発生との関係を表すトリム代モデルを作成する。 - 特許庁

To provide a simulation method for making a plan for a suitable nanofilter process design and operation, which has an easy calculation process and a few required coefficient, and can simulate a more complex mixing system, and to provide its computer program.例文帳に追加

計算過程が簡単で必要とする係数が少なく、より複雑な混合系をシミュレートすることが可能で、適切なナノ濾過プロセス設計及び運転方案を立てるためのシミュレーション方法およびそのコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, along with its manufacturing method, for stable manufacturing process and characteristics in devices, with no complex manufacturing process, which can cope with miniaturization of design rule for a peripheral region.例文帳に追加

製造工程の複雑さをもたらすことなく、製造工程及び素子の特性の安定化を図ることができ、かつ、周辺領域のデザインルールの縮小化に対応可能な半導体素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To decrease a variation in wiring capacitance caused by a dummy pattern used for a flattening process of an LSI layout pattern, and not to degrade the extraction accuracy of a parasitic element in a design process.例文帳に追加

ＬＳＩレイアウトパターンの平坦化処理に用いるダミーパターンによって生じる配線容量変動を低減すると共に、設計工程における寄生素子抽出精度を可能な限り落とすことがないようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a design method of an adaptive controller capable of quickly designing the adaptive controller realizing stable process control.例文帳に追加

安定したプロセス制御を実現する適応制御装置の設計を速やかに行うことのできる適応制御装置の設計方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a packaging material with radio IC tag and its manufacturing process, which enable a large scale of reduction in manufacturing cost, without increasing product processing cost, keeping its appearance design free from being spoilt.例文帳に追加

製造コストを大幅に軽減し、製品加工コストを増やすことなく、外観設計を損なわない無線ＩＣタグ付き包装部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A difference (ΔLp) between the first process difference and the second difference is calculated, and the obtained difference is used to correct a P gate portion extracted from design data.例文帳に追加

次に、第１の加工差と第２の加工差との差分（ΔＬｐ）を算出し、算出した差分を用いて、設計データから抽出したＰ型ゲート部を補正する。 - 特許庁

In a first process, body frames 4, 5 suiting to a body frame 20 to be manufactured are selected from a plurality of ready-made body frames based on a desired design plan.例文帳に追加

第１の工程で、所望の設計プランに基づいて、多数の既製の車体フレームのなかから製造すべき車体フレーム２０に適した車体フレーム４、５を選択する。 - 特許庁

To automatically perform program development as a downstream process without a bridge and manpower using "XupperII" which is a tool for upstream design.例文帳に追加

上流設計用ツールである「ＸｕｐｐｅｒII」を用いて、下流工程であるプログラム開発をブリッジ及び人手を介することなく自動的に行なえるようにする。 - 特許庁

To provide an integrated touch switch/control panel assembly allowing simplification of a manufacturing process, reduction of manufacturing cost, optimization of touch switch performance and flexible design of the touch switch.例文帳に追加

本発明は、製造工程の簡素化、製造コスト削減、タッチスイッチ性能の最適化、タッチスイッチの柔軟設計を可能にする一体化タッチスイッチ／コントロールパネル・アセンブリである。 - 特許庁

To design a micro-actuator capable of preventing electric sparks, of which a frame is formed to be thin and which is produced at a low cost in a manufacturing process of a high degree of freedom.例文帳に追加

電気スパークを防ぐことができ、また、フレームをより薄く形成し、さらに、低コストで自由度の高い製造工程を有するマイクロアクチュエータを設計すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an IC card wherein surfaces of a thin IC card are smoothly finished by a simple process to improve the design thereof and the usability thereof is improved.例文帳に追加

簡単な工程によって薄いＩＣカードの表面を平滑に仕上げ、意匠性を高めると共に、使い易さを付加した優れたＩＣカードの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes evaluating the values for at least one metric based on the design parameters and the split parameters and considering at least one process condition.例文帳に追加

方法は、少なくとも１つの計量の前記値を、設計パラメータ及び分割パラメータに基づいて評価し、少なくとも１つのプロセス条件を考慮することを含み。 - 特許庁

To provide a full rim type spectacle frame for simplifying a manufacture process and applying wide design by improving a wraparound endpiece and lugs of a spectacle frame.例文帳に追加

眼鏡フレームのヨロイと智を改良することにより、製造工程を簡略化するとともに、幅広いデザインを施すことができるフルリムタイプの眼鏡フレームを提供する。 - 特許庁

To create a global process simulator comparable with an actual phenomenon and practical including in terms of calculation speed; and to create a program for calculating a figure corrected from a design drawing.例文帳に追加

実現象と対比可能、かつ計算速度の面も含んで実用的な、大域的プロセスシミュレータ及び設計図から補正した図形を計算するプログラムを作る。 - 特許庁

In the process of forming a pattern with a design tool, a desired pattern to be formed on a photomask and a circular pattern in the size corresponding to a wafer diameter with reversed positive/negative images are prepared.例文帳に追加

設計ツールでのパターン作成時に、フォトマスク上に形成したいパターンと、ウエハ径に相当する大きさの円形パターンをポジ・ネガ反転させたパターンを用意する。 - 特許庁

To provide a semiconductor micro relay of vertical open/close type together with its manufacturing method, which is manufactured in a relatively simple manufacturing process with no constraint on a structure design.例文帳に追加

構造設計上の制約を受けることなく比較的簡便な製造工程にて製造可能な縦開閉型の半導体マイクロリレー及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, by enabling the quality decision on the design stage of the products, a relapse of development process is hard to occur, and a development period can be reduced.例文帳に追加

また、成果物の設計段階での品質判定が可能になることで、開発工程の後戻りが発生しにくくなり、開発期間の短縮を図ることができる。 - 特許庁

In an edging process of semiconductor manufacture, a monitor is installed at a place which is yield-critical in terms of circuit based upon circuit-dependent information obtained in the design stage.例文帳に追加

半導体装置製造のエッジング工程において、設計段階で得られる回路依存の情報をもとに、回路的に歩留クリティカルな箇所にモニタを設置する。 - 特許庁

To properly design LSI even if the variation in transistor dimension increases due to process miniaturization and to develop high-speed products by reducing timing margins.例文帳に追加

プロセス微細化に伴うトランジスタ寸法のばらつきがさらに増大しても、ＬＳＩの適切な設計を可能とし、タイミングマージンを削減して、高速製品の開発を可能とする。 - 特許庁

By such a process, the design intent information can be used to optimize processing during IC manufacturing to achieve the optimization of critical characteristics intended by a designer.例文帳に追加

その様な物として、設計者の意図した重要な特性の最適化を達成するため設計意図情報を使ってＩＣ製造中の処理を最適化できる。 - 特許庁

Another embodiment includes a method and a system for generating a simulation data store which uses a signal apart from a test grid to model an influence of an IC design and/or production process.例文帳に追加

別の実施例は、ＩＣデザイン及び／または製作プロセスの影響をモデル化するテスト格子を離れた信号を使用した、シミュレーションデータストアの生成法とシステムである。 - 特許庁

To provide a sensor device easily making a wiring pattern variable without changing a design or a production process of a wiring pattern inside a sensor, and a production method thereof.例文帳に追加

センサ内部の配線パターンの設計や製造工程を変更せずに、配線パターンを容易に変更可能にするセンサデバイス及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system that can consider and compensate for expected process variations during the design and verification procedures so that a layout can be made more effective and easier to manufacture.例文帳に追加

レイアウトが、より効果的で製造しやすいように、設計および検証工程中に、予測されるプロセス変動を考慮し、補正できるシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a chip type ceramic electronic component having necessary electrostatic characteristics and manufactured in a normal manufacturing process and securing a free hand on design of an internal electrode.例文帳に追加

必要な耐静電気特性を有し、通常の製造工程で製造ができ、内部電極の設計上の自由度を確保できるチップ型セラミック電子部品を得る。 - 特許庁

To reduce loads of message design development in the development of message orientation service such as SOA, which is service constituting a process composing a series of processing.例文帳に追加

一連の処理をなすプロセスを構成するサービスであって、ＳＯＡ等のメッセージ指向のサービスの開発において、メッセージの設計開発の負荷を小さくすることを目的とする。 - 特許庁