「Design Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Repeat controlling means 25 decide an update ratio between the process organization plan and the process layout plan, so that an optimum process design plan can be generated in a relatively short time and with efficiency.例文帳に追加

しかも、繰返制御手段２５において工程編成案と工程レイアウト案との更新の比率を決めるから、最適な工程設計案を比較的短時間でかつ効率よく生成することができる。 - 特許庁

In the manufacturing method for aluminum foil at least including a process deciding a design, a process investigating the shape of a product, a process studying the casting method, a process for designing a mold, and a process working the mold, three-dimensional computerized information is used in at least one process from the process investigating the shape of a product to the process working the mold.例文帳に追加

デザインを決定する工程と、製品の形状検討する工程と、鋳造の方案検討を行う工程と、金型設計を行う工程と、金型加工を行う工程と、を少なくとも含むアルミホイールの製造方法において、製品の形状検討する工程から金型加工を行う工程までの少なくとも1つの工程において３次元の電子化情報を用いる。 - 特許庁

This rolling stock design method is equipped with a space pressure calculation process, a pressure variation analysis process, a frequency characteristic analysis process, a bandpass treatment process, a bandpass maximum amplitude analysis process, and a rolling stock shape selection process for obtaining a head part shape whereby maximum amplitude ΔPb obtained by the bandpass maximum amplitude analysis process is reduced.例文帳に追加

空間圧力計算工程と、圧力変動解析工程と、周波数特性解析工程と、バンドパス処理工程と、バンドパス最大振幅解析工程と、このバンドパス最大振幅解析工程で得られた最大振幅△Ｐｂを低減させる先頭部形状を求める車両形状選定工程とを有する鉄道車両設計方法を採用した。 - 特許庁

A CPU 12 of a calculation server 1 includes a reference design data selection means 122 to select the reference design data out of a plurality of reference design data stored in a reference design data storage means 132 of a storage means 13 based on the addition of prescription data; and an arrangement design means 123 to process the obtained reference design data based on the prescription data.例文帳に追加

計算サーバ装置１の中央演算処理装置１２は、処方データの加入度に基づいて、記憶手段１３の基準設計データ記憶手段１３２に記憶された複数の基準設計データから、基準設計データを選択する基準設計データ選択手段１２２と、取得した基準設計データを、処方データに基づいて、加工するアレンジ設計手段１２３とを有する。 - 特許庁

In the system, a definition 111 of business process and a definition 113 of input-output data inter-application are divided, a meta definition system 104 of process data is prepared aside from an operation design system 101 and a system design system 103 to register or acquire a meta definition of process data from both of the systems 101 and 103.例文帳に追加

ビジネスプロセス定義１１１とアプリケーション間の入出力データ定義１１３を分割し、プロセスデータメタ定義システム１０４は、業務設計システム１０１や、システム設計システム１０３とは別に用意し、双方からプロセスデータメタ定義を登録または取得できるようにしておく。 - 特許庁

To provide an automatic illumination design method, an illumination effect browsing method, an automatic illumination design system and a server for automatic illumination design for realizing the efficiency of a task in an illumination design process and the level averaging of illumination designers, and for establishing a presentation method to customers.例文帳に追加

照明設計工程における業務の効率化と照明設計者のレベル均衡化を図り、さらに顧客へのプレゼンテーション手法を確立した自動照明設計方法、照明効果閲覧方法、自動照明設計システム、自動照明設計用サーバーを提供する。 - 特許庁

To provide a design system materializing easy operability in a design process, and allowing development period reduction, trial production cost reduction, and rapid optimum design by effectively reflecting results of evaluation and prediction, and to provide an electric power steering system designed by the design system.例文帳に追加

設計工程において簡便な操作性を実現すると共に予測・評価の結果を効率的に反映して、開発周期短縮、試作コスト削減、迅速な最適設計が可能な設計システムおよびこの設計システムによって設計された電動パワーステアリングシステムを提供する。 - 特許庁

The method for inspecting a mask defect includes a process of generating referential data from the corrected mask design data D2 obtained by correcting (S10) data according to the exposure transfer pattern, and a process of measuring the actual pattern of the mask based on the corrected mask design data D2 to generate sensor data.例文帳に追加

露光転写パタンに基づき補正した（Ｓ１０）補正後マスク設計データＤ２から、参照データを作成し、補正後マスク設計データＤ２に基づくマスクの形状を実測してセンサデータを作成するマスク欠陥検査方法。 - 特許庁

To provide a process cartridge which copes with recycle from a product design stage in order to suppress costs for the recycle, surely transmit product design information to a recycle process and improve the quality of a recycled article.例文帳に追加

リサイクルのためのコストを抑え、製品設計情報が確実に再生工程に伝わり、再生品の品質を向上させるために、製品設計段階からリサイクルに対応したプロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁

To efficiently design a dummy pattern to be formed on a wiring layer for eliminating the surface step of polished surfaces after a chemical mechanical polishing(CMP) process in a production process of semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程でＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）工程後の研磨面の表面段差を解消するために配線層に形成するダミーパターンを効率よく設計する。 - 特許庁

Next, the process design support device calculates the whole cycle time as the whole production line by use of the group cycle time in each the process group, and decides whether or not the whole cycle time is a target cycle time or below (step 5).例文帳に追加

次に、各工程群での群サイクルタイムを用いて生産ライン全体としての全サイクルタイムを計算し、目標サイクルタイム以下となっているか判断する（ステップ５）。 - 特許庁

In the Projects window, the Process Files node now contains a subnode labeled LoanRequestor.bpel.The Source Editor contains a tab for the BPEL process, LoanRequestor.bpel, with the Design view of the BPEL Designer open. 例文帳に追加

この時点で、「プロジェクト」ウィンドウの「プロセスファイル」ノードに、「LoanRequestor.bpel」というサブノードが含まれます。 ソースエディタには、BPEL プロセス LoanRequestor.bpel のタブが含まれており、BPEL Designer のデザインビューが開かれています。 - NetBeans

View execution of BPEL processes on the diagram in the Design view or in the BPEL Process Execution window and view running instances of BPEL processes in the BPEL Process Instances window. 例文帳に追加

デザインビュー内の図または「BPEL プロセス実行」ウィンドウで BPEL プロセスの実行を検分します。 また「BPEL プロセスのインスタンス」ウィンドウで BPEL プロセスの実行中のインスタンスを検分します。 - NetBeans

To provide a method of calculating process conditions for performing optical correction and process correction (OPC) or other resolution enhancement techniques on a layout design.例文帳に追加

レイアウト設計に対して、光学補正およびプロセス補正（ＯＰＣ）または他の解像度向上技術を行うために、プロセス条件を計算する方法を提供すること。 - 特許庁

Drag your selection to the PartnerView box in the design area,between the Receive1 and Process End activities.The IDE provides visual clues that indicate where you can drop the selection.The Reply1 activity is added. 例文帳に追加

選択項目を、デザイン領域の、Receive1 と Process End アクティビティーの間にある「PartnerView」ボックスにドラッグします。 IDE には、選択項目をドロップできる場所を示す視覚的な手がかりが表示されます。 - NetBeans

To provide a processing method which enables the use of a bamboo material as a base material for bamboo articles having good design by a simple process step.例文帳に追加

竹材を簡単な加工でデザイン性のよい竹製品の素材として利用できる加工方法を提供する。 - 特許庁

To quickly process the design of a communication path of a communication network for realizing a highly efficient failure restoration system 1:N system.例文帳に追加

高効率な障害復旧方式１：N方式を実現する通信網の通信路の設計を高速に処理する。 - 特許庁

To provide a balanced twisting design for a pair of balanced differential small signals regarding resistance, capacity, and process distribution.例文帳に追加

抵抗，容量およびプロセス分散に関して均衡化した差動小信号対のための均合撚り設計を提供する。 - 特許庁

The screening process is a troublesome operation, requiring a very advanced device and a very high precision in a stencil design.例文帳に追加

スクリーニング・プロセスは厄介な操作であり、極めて高度な装置およびステンシル設計における極めて高い精度を要する。 - 特許庁

To extract a highly precise LCR value in which the fluctuation of pattern width by a process is considered in a logic design stage.例文帳に追加

論理設計段階において，プロセスによるパターン幅の変動を考慮した高精度のＬＣＲ値を抽出する。 - 特許庁

To enhance the flexibility of operational design, by conducting Vth compensation and reverse bias application with an operation process.例文帳に追加

Ｖth補償と逆バイアスの印加とを一の動作プロセスで行うことにより、動作設計上のフレキシビリティの向上を図る。 - 特許庁

To provide a fluorescent character display tube, capable of simplifying parts constituting the fluorescent character display tube, a producing process and design, and easily achieving miniaturization.例文帳に追加

蛍光表示管を構成する部品、製造工程、設計等の単純化が図れ、かつ小型化が容易である。 - 特許庁

The Patent and Trademark Office can process simultaneously more than one request for administrative examination in respect of the same design registration. 例文帳に追加

特許商標庁は，同一の意匠に関する2以上の行政審査請求を同時に処理することができる。 - 特許庁

To enhance the flexibility of operational design by conducting Vth compensation and reverse bias application in one operation process.例文帳に追加

Ｖth補償と逆バイアスの印加とを一の動作プロセスで行うことにより、動作設計上のフレキシビリティの向上を図る。 - 特許庁

To contrive a facilitation of a circuit design without any need of considering a balance of a charge damage (PID) in a manufacturing process of an LSI or the like.例文帳に追加

LSI等の製造プロセスにおけるチャージダメージ（PID)のバランスを考慮する必要をなくして、回路設計の容易化を図る。 - 特許庁

In the heating process, the decorative design 30 is put together to the body to be transferred by heating at 700°C-1,100°C in temperature.例文帳に追加

加熱工程においては、温度７００℃〜１１００℃にて加熱して装飾意匠３０を被転写体に焼き付ける。 - 特許庁

Concerning a nonlinear model 660 containing a process model and controller design, the parameter of a PI controller is roughly estimated by nonlinear approach.例文帳に追加

プロセスモデル、コントローラ設計を含む非線形モデル６６０は、ＰＩコントローラのパラメータを非線形アプローチによって概算する。 - 特許庁

To provide a technology making the area to be obtained of an actual pattern close to the area of a design pattern in an ink jet process.例文帳に追加

インクジェットプロセスにおいて、得られる実パターンの面積を設計パターンの面積に近づける技術を提供すること。 - 特許庁

External auditors should understand the status of the design of process-level controls that have been included in the scope of assessment. 例文帳に追加

監査人は、評価対象となった業務プロセスに係る内部統制の整備状況を理解しなければならない。 - 金融庁

The nano/micro machine designing/machining method is composed of process design, machining database, machining pattern formation and machining processes.例文帳に追加

ナノ・マイクロマシン設計・加工方法は、プロセス設計、加工データベース、加工パターン生成及び加工工程から構成される。 - 特許庁

To improve flexibility in the operation design by conducting Vth compensation and reverse bias application in a single operating process.例文帳に追加

Ｖth補償と逆バイアスの印加とを一の動作プロセスで行うことにより、動作設計上のフレキシビリティの向上を図る。 - 特許庁

In a pattern process, the design 3, in which a design board surface of the game board 22 is formed on the dried fixing layer 2, is formed in a layered manner by transfer or inkjet multicolor printing.例文帳に追加

図柄工程で乾燥した定着層２の上に遊技盤２２の意匠盤面を形成する意匠図３を転写やインクジェットによる多色刷り印刷で層状に形成する。 - 特許庁

A second subsystem 30 displays the component list according to the design process flow, and refers to the component list to decide detailed design specifications of components.例文帳に追加

第２サブシステム３０は、前記設計工程フローに基いて前記構成部品表を表示し、この構成部品表を参照して構成部品の詳細な設計仕様を決定する。 - 特許庁

Between the design graphic 11 and auxiliary graphic 14 obtd. by applying the undersizing process of 0.1 μm to the design graphic 11, an XOR-treated second exposure graphic 15 is exposed.例文帳に追加

次に、設計図形１１とこの設計図形１１に０．１μｍのアンダサイジング処理を施した補助図形１４との間にＸＯＲ処理を施した第２露光図形１５を露光する。 - 特許庁

To provide a variable print system etc., that unify and manage specifications used for layout design and variable text design, optimize the whole process, and improve reusability of programs.例文帳に追加

レイアウト設計及びバリアブルテキスト設計で使用する設計書を一元管理し、全体工程を最適化し、プログラムの再利用性を向上させるバリアブルプリントシステム等を提供する。 - 特許庁

To provide a design support system that streamlines a process from the design of a basic skeleton of a clay model in which foam bodies are properly arranged on a frame to a graphical output of the foam bodies.例文帳に追加

フレームに発砲体を適宜配設したクレイモデルの基本骨格の設計から、発砲体の出図作業までを効率的に行うことができる設計支援システムを提供する。 - 特許庁

A standard part design data acquiring part 43 acquires the design data of a standard part which is independent of the shape of the product in the past die molding material production process from the retrieved design result, and a shape dependent part designing part 45 designs the die molding material production process which is dependent on the shape of the product.例文帳に追加

検索された設計実績から、標準部分設計データ取得部４３において、過去の型成形材生産プロセスのうち、製品の形状に依存しない標準部分の設計データを取得し、形状依存部分設計部４５において、製品の形状に依存する型成形材生産プロセスを設計する。 - 特許庁

A delay time calculation error between the timing design process 103 and the timing validation process 104 is calculated, and a minimum wiring width specified in a design rule is added, with a wide part containing the delay time calculation error, to generate a wiring pattern.例文帳に追加

タイミング設計工程１０３およびタイミング検証工程１０４間の遅延時間計算誤差を算出し、設計ルールで規定された最小配線幅に、前記遅延時間計算誤差を包含する幅広部分を加えた配線パターンを作成する。 - 特許庁

To provide a practicable method for setting a design margin of mask patterns which determines the cross relations of the design margin, dimensional errors and superposition errors while studying an actual semiconductor process, a method for setting pattern accuracy and a method for setting the design margin of wafer patterns.例文帳に追加

実際の半導体プロセスを検討しながら、設計マージン、寸法誤差、重ね合わせ誤差の相互関係を求める実用的なマスクパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびウェハパターンの設計マージン設定方法の提供。 - 特許庁

The system for supporting design of a business process comprises a business process storage means for storing business process data; a task complementary pattern storage means for storing task complementary pattern data; and a task complementation means for updating the business process data using the task complementary pattern data.例文帳に追加

業務プロセスの設計を支援するシステムであって、業務プロセスデータを記憶する業務プロセス記憶手段と、タスク補完パターンデータを記憶するタスク補完パターン記憶手段と、タスク補完パターンデータを用いて業務プロセスデータを更新するタスク補完手段を備える。 - 特許庁

In particular, the present invention relates to process tester layouts which are defined by laser scribing, methodology for creating process testers, methodology of using process testers for photovoltaic line diagnostics, placement of process testers in photovoltaic module production, and methodology for creating design rule testers.例文帳に追加

特に、本発明は、レーザスクライビングにより画成されたプロセステスタレイアウト、プロセステスタを製造するための技法、光電池ライン診断のためにプロセステスタを使用する技法、光電池モジュール製造におけるプロセステスタの配置、及びデザインルールテスタを製造するための技法に関する。 - 特許庁

To provide a mat, the manufacturing process of which can be simplified, which is easy to wash, and is also good in design.例文帳に追加

製造工程が簡略化でき、しかも、耐洗濯性に優れ、意匠性に富んだマットを提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method and a system for optimizing the common process window of device design and an exposure tool by combining with a mask error model.例文帳に追加

マスクエラーモデルと組み合わせ、デバイス設計の共通プロセス窓や露光ツールを最適化する方法、及びシステムを提供する。 - 特許庁

To provide design and corresponding manufacturing process method for improved support structure of a magnet in an open MRI system.例文帳に追加

開放型ＭＲＩシステムの磁石の支持構造のための改良型の設計、並びに対応する製造処理法を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing method capable of detecting a redundant circuit in a circuit design process and displaying the redundant circuit.例文帳に追加

回路設計の過程で冗長回路を検出し、かつ冗長回路を表示可能な情報処理方法を提供する。 - 特許庁