「Design Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a design capable of manufacturing a field-effect transistor which is fine in size and contains a sub-lithography channel length on an SOI wafer or a chip with a high degree of integration through a well-known and fully-developed process.例文帳に追加

サブ・リソグラフィ・チャネル長を含む極めて微細なサイズときわめて高い集積度でＳＯＩウエハまたはチップ上に周知の成熟したプロセスで製造できる電界効果トランジスタ設計を提供すること。 - 特許庁

To provide a new method for loosening prevention which gives soft touch, is able to accurately prevent the loosening, gives sufficient design and is excellent in processing efficiency in a process for preventing loosening in peripheral edges of a pile fabric.例文帳に追加

本発明は、立毛布帛の縁部のほつれ止め加工において、タッチ感がやわらかく、しかも確実にほつれ止めができ、加工効率に優れた新しいほつれ止め方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a mask data preparation apparatus, a mask data preparation method, an exposure mask, a method for manufacturing a semiconductor device, and a mask data preparation program which suppress an increase in data for correcting a process proximity effect due to flattening of design data.例文帳に追加

設計データのフラット化によるプロセス近接効果補正データの増加を抑制するマスクデータ作成装置、マスクデータ作成方法、露光マスク、半導体装置の製造方法及びマスクデータ作成プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a compressible bag manufactured by one process, reduced in its production cost, easy to handle because of low resistance at the time of manual degassing, and enhanced in the degree of freedom of a design.例文帳に追加

１工程で製造可能なことにより、製造コストが低減でき、手で脱気する際でも抵抗が小さいことにより取り扱いやすく、設計の自由度が高い圧縮袋を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for fabricating a semiconductor elements without requiring an exposure process where misalignment takes places as the design rule becomes fine and the minimum line width of a pattern decreases.例文帳に追加

デザインルールが微細になりパターンの最小線幅が減少するにつれてミスアラインメント発生しやすくなる露光工程を行うことなく、半導体素子を製造するためのパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging lens which is a bright lens system, short in overall length, in which various aberrations are well corrected, and attains loose design in terms of tolerance sensitivity with giving consideration to a manufacturing process, to provide an optical module and a mobile terminal.例文帳に追加

明るいレンズ系で全長が短く、諸収差が良好に補正され、製造工程も踏まえた公差感度の緩い設計を実現可能な撮像レンズ、光学モジュール、および携帯端末を提供する。 - 特許庁

Also, in a process using the configuring components to be held and restrained by the mending tool, an FEM analyzing part 30 performs structure analysis by reflecting the mending tool precision information as well as the design information and the analytic conditions.例文帳に追加

また、ＦＥＭ解析部３０は、治具により保持・拘束される構成部品を用いる工程では、設計情報および解析条件に加え、治具精度情報を反映させて構造解析を行う。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for eliminating multipath noise wherein a processing process for FM detection detects and eliminates a multipath noise signal so as to eliminate the noise at a high speed and downsize the circuit configuration thereby minimizing demerits from the standpoint of design / manufacture.例文帳に追加

マルチパスノイズ信号の検出及び除去をＦＭ検波の処理過程で行うことにより、高速な雑音除去、回路構成の小型化を可能とし、設計・製造面のデメリットを最小に抑える。 - 特許庁

a print made using a stencil process in which an image or design is superimposed on a very fine mesh screen and printing ink is squeegeed onto the printing surface through the area of the screen that is not covered by the stencil 例文帳に追加

型版で補われないスクリーン部分を通じて、印刷面の上で印刷用インクがふき取られ、画像またはデザインがとても細かい網の目状のスクリーンに重ねられる型版の過程を使用して作成される印刷 - 日本語WordNet

In evaluating the effectiveness of basic components of process-level controls, external auditors must also fully evaluate the status of the design and operation of internal controls (including response to IT). 例文帳に追加

なお、業務プロセスにおける内部統制の基本的要素が機能しているかどうかを判断するに当たっては、内部統制の整備及び運用状況（ＩＴへの対応を含む。）についても十分に検討しなければならない。 - 金融庁

To provide the molding process of a fabric decorative resin product superior in strength, design features and moldability by making a fabric sheet including carbon fibers and/or synthetic fibers overlaminate a transparent or a translucent thermoplastic resin to contain them.例文帳に追加

透明又は半透明の熱可塑性樹脂に炭素繊維及び／又は合成繊維で成る織物シートを積層し含有させ強度、意匠性、成型性に優れた織物加飾樹脂製品の成形方法を提供する。 - 特許庁

In the subsequent mold clamping process (C), the parison 3 is pressed by the molds 10, 20 to begin to increase in its internal pressure and can be continuously brought into contact with the design surfaces of the molds.例文帳に追加

その後の金型締め工程（Ｃ）において、金型１０、２０がパリソン３を押圧するとともに、パリソン３内の圧力が増加し始め、金型意匠面１１に対して、パリソン３を連続的に接触させることができる。 - 特許庁

To provide a method for performing timing verification of worst case simulation or best case simulation by reducing an extraction frequency of a parasitic element without degrading design accuracy when performing the timing verification considering process variation.例文帳に追加

プロセスばらつきを考慮したタイミング検証を行う際、設計精度を落とさないで寄生素子の抽出回数を少なくしてワーストケースシミュレーションやベストケースシミュレーションのタイミング検証を行う方法を提供する。 - 特許庁

To accurately prevent the throughput of a device from decreasing by selecting a target to be positioned for measurement that is used in the positioning process of a substrate based on the amount of errors for arrangement in terms of design of the target to be positioned.例文帳に追加

位置合わせ対象物の計測位置と設計上の位置が所定の変換式による一意の関係で表わされないような基板に対しても、スループットを低下させずに高精度の位置合わせを行なう。 - 特許庁

Efforts to secure safety in the product design stage amid the growth in the complexity of products and the increase in the use of electronic control bring benefits to the production process and leads to an improvement in social trust.例文帳に追加

製品の複雑化や制御等の電子化が進展する中、製品設計段階において安全確保に向けた取組は、生産過程におけるプラスの効果や、事後対応ひいては社会的信頼の向上にもつながる。 - 経済産業省

The owner of a patent of invention, utility model and industrial design shall enjoy an exclusive right to make, sell or commercialize the protected product or object in any form, to use it in any form and to celebrate any type of acts relative to the right conferred upon him, with the following faculties: a) in the case of a patent for a product, utility model or industrial design, to make, offer for sale, import, commercialize or use said product, utility models or industrial design for commercial or industrial use; b) in the case of a patent for a process, to use said process in order to attain the claimed results, or else to offer said process for sale or commercialization. 例文帳に追加

特許，実用新案及び意匠の所有者は，保護製品又は保護の客体を如何なる態様であれ製造，販売若しくは商品化し，それを如何なる態様であれ使用し，また与えられた権利に関連する諸種の行為を行うことができる。保護客体に応じて具体的に述べると，次の内容の権利が認められる。(a) 製品特許，実用新案特許又は意匠の場合は，対象の製品，実用新案又は意匠を製造し，販売申出し，輸入し，商品化し又は使用すること (b) 方法特許の場合は，目的たる結果を得るために当該方法を使用し，また販売その他商業的目的のために当該方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an indication plate which is possible to shorten a polishing time of a resin film, to obtain a higher accuracy of a topology of the resin film surface, to control easily the resin film thickness or to enhance a design property or the like by introducing a different process compared with a previous process after arranging the resin film on a base material.例文帳に追加

基材上に樹脂膜を配置した後に、従来とは異なる工程を導入することにより、樹脂膜の研磨時間の短縮、樹脂膜の表面形状の高精度化、樹脂膜の膜厚管理の容易化、或いは、デザイン性の向上などを図ることの可能な表示板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the above-described method is not only capable of forming a silicide film which does not contain the discontinuous part on a semiconductor gate electrode having the design rule of equal to or less than 80 nm but also not in need for an additional annealing process at a process for connecting the discontinuous part, it is possible to prevent the characteristic degradation of a transistor.例文帳に追加

前述した方法は、８０ｎｍ以下のデザインルールを有する半導体ゲート電極上に不連続部分を含まないシリサイド膜を形成することができるのみならず、不連続部分を連結する工程で追加熱処理工程を行わなくても良いので、トランジスタの特性劣化を防止することができる。 - 特許庁

To provide a retort treatment method for products relating to a design guideline of retort treatment process, and aiming at a process controlling method preventing a synthetic resin container from causing permanent set into a protruding state so as to be suitable for a product where the synthetic resin container is charged with ingredients.例文帳に追加

本発明はレトルト処理の工程設計指針に係るものであり、合成樹脂製容器が膨出状に永久変形しない工程制御方法を提示することを課題とし、もって合成樹脂製容器に内容物を収納した製品に適したレトルト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the maximum surface roughness Rmax at the time of finishing a finish cutting process (namely, at the time of finishing a shape creation process) is set to ≤0.010 mm, and the refractive power of the surface of the optical lens is made as DA and that of the surface in design as DF, it is set to [DA-DF]≤0.25.例文帳に追加

仕上げ切削工程が終了した時点（すなわち、形状創成工程が終了した時点）での最大表面粗さＲｍａｘを０．０１０ｍｍ以下とし、光学レンズの表面の屈折力をＤＡ、設計上の表面の屈折力をＤＦとするとき、｜ＤＡ—ＤＦ｜≦０．２５とする。 - 特許庁

To provide a process design method which is capable of designing a process of performing the prescribed working of a work object by an NC machine tool having an end mill as a tool, without depending upon a designer's experience neither requiring complicated work, and to provide a device and a computer program for use in the implementation of this method.例文帳に追加

エンドミルを工具とするＮＣ工作機械により被加工物に所定の加工を行わせるための工程を、設計者の経験に頼ることなく、また煩雑な作業を必要とすることなく設計することができる工程設計方法を提供し、またこの方法の実施に用いる装置及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

(1) At any time after the registration of an industrial design, any personmay apply to the Court –(a) for the revocation of the registration of the industrial design on the ground, subject to section 12, that the industrial design has been disclosed to the public prior to the priority date of the applicationfor registration of the industrial design;(b) for the cancellation of the registration of the industrial designon the ground that the registration of the industrial design has been procured by unlawful means; or(c) for the grant of a compulsory licence in respect of the industrialdesign on the ground that the industrial design is not applied in Malaysiaby any industrial process or means to the article in respect of which it is registered to such an extent as is reasonable in the circumstancesof the case, and the Court may make such order on the application as itconsiders例文帳に追加

(1) 意匠登録後はいつでも，何人も次に掲げる事項を裁判所に申請することができ，裁判所は当該申請に関して適正とみなす命令を発することができる。 (a) 第 12条に従うことを条件として，意匠が意匠登録出願の優先日前に公衆に開示されていたことを理由とする意匠登録の取消 (b) 意匠登録が不法手段により取得されたことを理由とする意匠登録の取消，又は(c) 当該意匠がマレーシアにおいて如何なる工業上の方法又は手段によっても，登録対象である物品に対して当該事件の事情において相応の程度にまでは適用されていないことを理由とする当該意匠に係る強制ライセンスの付与 - 特許庁

The recycling process of the stripped topsoil is capable of preventing the leaching of nutrients such as the nitrate nitrogen, aluminum oxide and the like by conducting the nutrition analysis of soil of the stripped topsoil and conducting the preparation design of the plant organic substances and animal organic substances, so that the design and control to the degree of the base saturation of 60-100 mass% is possible.例文帳に追加

本実施の形態における剥ぎ取り表土のリサイクル方法では、剥ぎ取り表土の表土土壌を養分分析し、植物性有機物や動物性有機物を調合設計して、硝酸性窒素分やアルミニウム酸化物などの養分溶脱を防止することが可能な塩基飽和度６０〜１００質量％に設計管理することが可能となる。 - 特許庁

The design support system includes a know-how registration and application means for applying technologies corresponding to new technologies or know-hows invented by designers in a design process to evaluate them, a know-how retrieval/determination processing means for retrieving applied new technologies or know-hows and registering evaluation results, and a notification processing means for notifying evaluation results.例文帳に追加

設計の過程において設計者が考案した新技術又はノウハウに相当する技術を評価のため申請するノウハウ登録申請手段と、申請された新技術又はノウハウを検索し、評価結果を登録するノウハウ検索・判定処理手段と、評価結果を伝える通知処理手段を含んで設計支援システムを構成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a solution, which surely obtains a solution of a target concentration in a method for producing a solution having a target concentration through a process for concentrating a solution, to obtain a polymer solution exhibiting performance as shown by a design in an objective use and a resist composition for making a resist film exhibit performance as shown by a design.例文帳に追加

溶液を濃縮する工程を経て目標の濃度の溶液を製造する方法において、目標の濃度の溶液を確実に得ることができる溶液の製造方法、目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体溶液、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an over film for wall covering, which is excellent in secondary processability such as a heat processing, has heat resistance sufficiently bearing to a drying process in the case of applying print or the like, prevents removal of emboss in the case of applying surface design such as embossing by heating, and is capable of expressing a design having a thin, deep and clear outline.例文帳に追加

熱加工等の二次加工性に優れ、印刷等を付与する場合の乾燥工程にも十分耐えうる耐熱性を有し、熱加工によりシボ加工等の表面意匠を施した場合においても、シボ戻りを防ぎ、細く深い輪郭のしっかりした意匠を表現することができる壁装用オーバーフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a necktie of sophisticated feeling having unconventional reverse face design hard to realize by mass production process so as to strongly appeal to customers in the age of individualism and satisfy them with unconventional luxurious hand-made design and texture.例文帳に追加

従来と異なる裏面形状であって、しかも大量生産では作ることが困難な形状のネクタイとすることによって、個性化の時代において需要者に強く訴えかけることができるとともに、通常のネクタイにはない手作りの贅沢なつくりと質感で需要者を満足させることができる高級感のあるネクタイを提供する。 - 特許庁

To prevent reattachment of chips produced during modification by removal to a substrate in a step of removing defective portions remaining so as to be different from a state expected by design against a design in a light shielding film Cr, an absorbing film TaN, a phase film MoSi left without being removed in the process and the substrate Qz by using a probe of an atomic force microscope.例文帳に追加

プロセス工程で除去されず残ってしまった遮光膜Ｃｒ、吸収膜ＴａＮ、位相膜ＭｏＳｉ、や基板Ｑｚの設計とは異なり残留した欠陥部分を原子間力顕微鏡の探針を用いて除去する工程において、除去修正時に発生する削り屑の基板への再付着を防止する。 - 特許庁

In a design information providing device, a database being the group of data elements 10 where design information 103 showing an evaluation method to evaluate the quality of the device, the quality of the device elements, or the quality of the manufacturing process of the device is associated with key information 102 including the input physical property and output physical property of the device is stored in a fixed disk.例文帳に追加

設計情報提供装置では、デバイスの入力物理量および出力物理量を含むキー情報１０２に、デバイスの質、デバイス要素の質、または、デバイスの製造工程の質を評価する評価方法を示す設計情報１０３が関連づけられたデータ要素１０の集合であるデータベースが固定ディスク内に格納される。 - 特許庁

In this manufacturing method of the building plate 1, as a preparation process, an original plate 2 having the design surface 201 where a plurality of linear projected parts 21 are formed to be different in direction of forming the linear projected parts 21 is prepared.例文帳に追加

建築板１の製造方法においては、準備工程として、ライン状凸部２１を複数形成した意匠表面２０１を有し、複数のライン状凸部２１の形成方向を互いに異ならせてなる原板２を準備する。 - 特許庁

To process the deformation of the free curved surface shape of an article in a much shorter time in the case of generating the new design data of the article by operating shape deformation processing to the existing article shape.例文帳に追加

既存の物品形状に対して形状変形処理を施すことによって物品の新たな設計データを生成する際に、物品の自由曲面形状での変形を、より短時間で処理することが可能とすることである。 - 特許庁

To provide an architecture design system by which the changed contents of components, etc., to be used for architecture are surely reflected on a drawing even when they are changed in a process after creation the drawing of the architecture.例文帳に追加

建築物の図面作成後における工程で、当該建築物に使用される部品等が変更された場合でも、その変更内容を確実に図面に反映させることができる建築物設計システムを提供すること。 - 特許庁

In the patterning process of the thin film transistor 44, holographic exposure and a tracking focus system is employed, design rule of 1.0 μm or less is employed, and only a polysilicon layer 41 and a first metal layer 42 are employed as the interconnect lines of the element chip 45.例文帳に追加

薄膜トランジスタ４４のパターニング工程で、ホログラフィック露光や追尾フォーカスシステムを用い、１．０μｍ以下の設計ルールを用い、素子チップ４５の配線として、多結晶シリコン層４１と第１の金属層４２のみを用いる。 - 特許庁

To perform high-reliable estimation in a short time through simple operation while excluding artificial factors as much as possible and utilizing the electronic data of specifications or design drawing prepared in the upstream process of development.例文帳に追加

為的な要因をできる限り排除するとともに、開発の上流行程で作成される仕様書や設計書の電子データを利用して、簡単な操作でかつ短い時間内で信頼性の高い見積もりを行うことを可能にする。 - 特許庁

To easily back-extract trivalent and tetravalent actinoid ions in an aqueous phase after extracting the trivalent and tetravalent actinoid ions such as Np (IV), Pu (III), Pu (IV), Am (III) and Cm (III) in an organic solvent so as to contribute to the process design for spent fuel reprocessing or the like.例文帳に追加

Np(IV)，Pu(III) Pu(IV)，Am(III)，およびCm(III)のような３，４価のアクチノイドイオンを有機溶媒に抽出した後に簡便に水相に逆抽出することは使用済み燃料再処理などのプロセス設計において重要な課題である。 - 特許庁

To provide a fatigue safety factor test apparatus and a fatigue safety factor test method, which can accurately and rapidly calculate fatigue safety factors of respective sections by using an automatic process and can improve the efficiency of design and development.例文帳に追加

自動処理により各部位の疲労安全率を高速かつ正確に算出することができ、設計及び開発の効率を向上することが可能な疲労安全率検査装置及び疲労安全率検査方法を提供する。 - 特許庁

Components of an integrated circuit (IC) design (gates, for example) can be identified and manufactured using a phase shifting process to improve circuit density and/or performance as compared to a circuit manufactured without using phase shifting processes.例文帳に追加

集積回路（ＩＣ）設計の構成要素（例えばゲート）を、位相シフト処理を使用して識別および製造し、位相シフト処理を使用せずに製造した回路に比べて回路の密度および／または性能を改善することができる。 - 特許庁

To provide an electro-optical device constituting an electro-optical substrate which can remarkably shorten the manufacturing process, eliminate troublesomeness in design and reduce the cost, and to provide a method of manufacturing the device and a projective display apparatus.例文帳に追加

飛躍的な製造プロセスの短縮、設計の煩雑さの解消、ならびに大幅な低コスト化を図ることのできる電気光学基板を構成する電気光学装置、電子機器、その製造方法、および投射型表示装置を提供する。 - 特許庁

Thus the design of the inner periphery of the body section 30 which is positioned at the periphery of the weight member 20 is not limited to an annular base section 30A formed by the first injection process for creating the body section 30 as in the traditional way.例文帳に追加

従って、重り部材２０の周囲に位置するボディー部３０の内周縁のデザインが、従来のようにボディー部３０を形成する一次射出工程で形成される環状ベース部３０Ａに限られることはない。 - 特許庁

Setting information about network equipment represented in a network diagram sheet 13c is described on a network equipment setting sheet 13i at a design stage of a process control system (including re-designing, such as exchanging equipment and adding new equipment).例文帳に追加

プロセス制御システムの設計段階（機器を入れ替えたり、新たな機器を追加したりする再設計も含む）で、ネットワーク機器設定シート１３ｉに、ネットワーク構成図シート１３ｃに表わされたネットワーク機器の設定情報を記述する。 - 特許庁

To provide a magnetic head for FDD and a manufacturing method thereof of which medium-facing surface is improved in accuracy, the design change in the rail width of a slider can easily be coped with, in which the number of parts is reduced and the manufacturing process is shortened.例文帳に追加

媒体対向面の精度を向上させ、スライダーのレール幅の設計変更にも容易に対応ができ、部品点数の削減、製造工程を短縮させたＦＤＤ用磁気ヘッドとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recording head and a recorder in which reduction in the size of a semiconductor chip for recording head is realized while simplifying design of the chip and a process common to other product is applicable.例文帳に追加

本発明は、記録ヘッド用の半導体チップサイズの縮小化を実現するとともに、該チップの設計が容易で、他の製品と共通のプロセスが適用可能な記録ヘッドおよび記録装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

In a comparison process, in the case that there is a difference between the measured frequency characteristics and the design value of the predetermined frequency characteristics, the sacrificial layer 15 is removed and then the thickness of the second medium 12 is adjusted corresponding to the difference.例文帳に追加

比較工程において、測定された周波数特性と、予め定められている周波数特性の設計値とに差がある場合は、犠牲層１５を除去した後に、当該差に応じて、第２の媒質１２の厚みを調整する。 - 特許庁

To provide a package for housing a high heat dissipation-type electronic component, the package that allows improvement of reliability in air-tightness, in joining and so on, effectively facilitates design changes and production process changes, and further makes it easy to form a plating film.例文帳に追加

気密信頼性や、接合信頼性等を高くできると共に、設計変更や、段取り換えにも能率的に対処でき、しかも、めっき被膜形成が容易な高放熱型電子部品収納用パッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a filter assembly which provides a maximum capacity of air passing in a size or cross section set in the process of design so that a suction performance of a vacuum cleaner can increase, and a cyclone dust collecting apparatus employing the same.例文帳に追加

本発明は、設計上に定められたサイズや断面積内で空気の通過流量を最大限確保して、真空掃除機の吸引性能を向上させるフィルタ組立体及びそれを備えるサイクロン集塵装置を提供する。 - 特許庁