| 意味 | 例文 |
Design Processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 975件
To solve problems such as easily be influenced by the variance on the manufacturing process, difficult to design the circuit and reduce the area since the track deviation is detected by the analog circuit, and further difficult to reduce the number of terminals since the external circuit is required.例文帳に追加
アナログ回路でトラック外れを検出しているため、製造上のばらつきの影響を受けやすく、回路設計が困難であり、面積の削減が困難であり、さらに外付け回路が必要であるため端子数の削減が難しい。 - 特許庁
By this, design to incorporate circuits related to optical communication into the mounted semiconductor device side and development of manufacturing process become unnecessary, and an optical semiconductor device is achieved by the development of the optical communication semiconductor device on the package board side.例文帳に追加
これにより、実装される半導体装置側に光通信関係の回路を組み込む為の設計や製造プロセスの開発は不要となり、光通信半導体装置としての実装基板側の開発で光半導体装置を実現する。 - 特許庁
To provide an in-vehicle camera that makes it possible to reduce the number of steps in the manufacturing process and to improve yield rate concerning appearance quality of a box that protects a camera unit, while securing dustproof performance, waterproof performance, strength, and design characteristics equivalent to the conventional level.例文帳に追加
従来相当の耐塵性、耐水性、強度、およびデザイン性を確保しつつ、製造工程の工数を削減し、カメラユニットを保護する筐体の外観の品質に関わる良品率を向上させることができる車載カメラを提供すること。 - 特許庁
In the cutting process, the end face may be cut into an arc shape of a horizontal cross section with a radius not larger than the thickness of the design panel, and a groove equivalent to the joint groove formed in the surface of the siding panel is formed in the end face.例文帳に追加
切削工程においては、水平断面が半径がサイディングパネルの厚さ以下の長さである円弧状であるように端面を切削してもよく、かつサイディングパネルの表面に形成された目地溝と対応した溝を端面に形成する。 - 特許庁
To provide a method for producing a solution having a concentration with a slight deviation from the target concentration in a method for producing a solution, which has a process for concentrating the solution to a target concentration, to obtain a polymer solution exhibiting performance as shown by a design in an objective use and a resist composition making a resist film exhibit performance as shown by a design.例文帳に追加
目標の濃度になるまで溶液を濃縮する工程を有する溶液の製造方法において、目標の濃度からの濃度のずれが少ない溶液を得ることができる製造方法、目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体溶液、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for designing semiconductor integrated circuits in which more realistic process variations can be taken into account when designed, increased performance and design convergence of a semiconductor integrated circuit can be provided without setting design margins that are more than needed, enhanced quality can be expected through the securement of necessary margins, simple calculations, and high-speed processing are attained.例文帳に追加
設計時に、より現実的なプロセスばらつきを考慮でき、必要以上の設計マージンを設定することなく、半導体集積回路の性能向上や設計収束性が期待でき、また必要なマージンの確保によって品質向上も期待できるとともに、計算が簡単で高速処理が可能な設計方法および半導体集積回路の設計装置を提供する。 - 特許庁
To make it possible without large modification to divert a transfer means by a vacuum and air pressure injection mechanism which is so far generally used for a two-piece can in a process for applying a printing design, in manufacturing a bottle type can formed with an opening neck and a shoulder on the can bottom side of a bottomed can and applied with a printing design on the outer face of the can.例文帳に追加
有底缶の缶底側に口頸部と肩部を成形したタイプで胴部外面に印刷デザインが施されているボトル型缶を製造するに際して、印刷デザインを施すための工程で、従来から2ピース缶で一般的に使用されているバキューム及び加圧空気噴出機構による移送手段を大幅に改造することなく転用できるようにする。 - 特許庁
To provide a design technique for retaining wall blocks capable of expressing a natural texture although it is made of concrete and giving a design by making use of stains on the surface, while turning one's attention to the stains on the surface without coloring it with paint or the like when designing imitation stone-like partitioned faces of retaining wall blocks through a chipping process.例文帳に追加
擁壁用ブロックの擬石状区画面をデザインするにあたり、塗料等による着色を用いることなく、ハツリ加工を行なうことによって、コンクリートでありながら自然な風合いを表現できるようにすると共に、従来の問題点である表面の汚れに着目し、逆にこの汚れを利用してデザインを施すことができるようにした擁壁用ブロックのデザイン技術の提供。 - 特許庁
A standardized language is used to develop configurable definitions of target instruction sets, HDL descriptions of a hardware needed to implement the instruction set, and development tools for verification and application development, thus a high degree of automation in a design process can be achieved.例文帳に追加
標準化言語は、ターゲット命令セットの構成可能な定義、命令セットを実行するのに必要なハードウェアのHDL記述、及び検証及びアプリケーション開発のための開発ツールを開発するために使用されるので、設計処理の高度の自動化を可能にする。 - 特許庁
To simplify the shapes of an element active region and a gate electrode, facilitate pattern formation in a lithography process, reduce registration deviation of resist patterns, and relieve design rule of a divided path of a word line while variation in storage characteristics of a semiconductor storage device is prevented.例文帳に追加
素子活性領域およびゲート電極の形状の単純化を図り、リソグラフィ工程におけるパターン形成を容易にし、レジストパターンの合わせずれを低減して、半導体メモリの記憶特性の変動を防止しつつ、ワード線の分路の設計ルールの緩和を図る。 - 特許庁
In addition to a data flow diaphragm and a record specification definition prepared by a system design supporting tool, the processing pattern of information expressing the processing summary of each of processes contained in this data flow diaphragm and the number of records of data storage to be handled by the relevant process are inputted.例文帳に追加
システム設計支援ツールで作成するデータフローダイヤグラム及びレコード仕様定義に加えて、該データフローダイアグラムに含まれる各プロセスの処理概要を表す情報である処理パターンと、当該プロセスが扱うデータ蓄積のレコード件数とを入力する。 - 特許庁
To provide a supporting structure of a tabular body in which the design properties of a pane can be kept excellent while the pane can be installed to a supporting member simply, the manufacturing process of the pane is simplified and equipment cost for manufacturing the pane can be held down.例文帳に追加
窓ガラスの意匠性を良好に保つとともに、窓ガラスを支持部材に簡単に取付けることができ、さらに窓ガラスの製造工程を簡単にし、かつ窓ガラスを製造するための設備費を抑えることができる板状体の支持構造を提供する。 - 特許庁
To provide various pieces of information usable for comprehending whether or not there is any futility or problem in an actually performed operation including an operation process, which has been already finished, in form easy as possible to understand in a development project having a plurality of design processes.例文帳に追加
複数の設計工程を有する開発プロジェクトにおいて、すでに終了した作業工程をも含めて、実際に行われた作業に無駄や問題がなかったかを把握するのに有用な各種の情報を、できるだけ見易い形で提供する。 - 特許庁
To provide a design document management server, progress management method and program therefor capable of simplifying the procedure of a project management and improving the progress management precision by detecting at least one working process which has a serious influence on the completion time of a development system.例文帳に追加
開発システムの完了時期に重大な影響を与える1つ以上の作業工程を検出し、プロジェクト管理の手順を簡略化するとともに進捗管理精度を向上させる設計ドキュメント管理サーバ、進捗管理方法、およびそのプログラムを提供する。 - 特許庁
To solve such a problem that it becomes very difficult to design a circuit with high linearity because of making a semiconductor process micro and, lowering of source voltage, etc., although the nonlinearity of a control code and an output phase of a phase composing circuit should be made as small as possible.例文帳に追加
位相合成回路における制御コードと出力位相との非線型性は極力小さくしなければならないが、半導体プロセスの微細化や電源電圧の低下等によりリニアリティの高い回路の設計が非常に困難になって来ている。 - 特許庁
To provide a method for verifying pattern data of a semiconductor device for appropriately deciding whether the allowable error of design data of a pattern to be formed in a lithographic process using at least two masks is within an appropriate range or not by the use of simulation.例文帳に追加
少なくとも2枚のマスクを用いるリソグラフィ工程において、形成されるパターンの設計データの許容誤差が適正な範囲内であるか否かをシミュレーションを利用して適正に判断する半導体装置のパターンデータの検証方法を提供する。 - 特許庁
To easily modify the scanning density of scanning light on a face to be scanned without complicating the design of components, keeping a rigorous accuracy of assembly, adjusting an image formation condition accompanying the modification of a process speed, and inviting an excessive increase in the cost.例文帳に追加
構成部品の設計の煩雑化、厳格な組立精度の維持、プロセス速度の変更に伴う画像形成条件の調整、過大なコストの上昇を招来することなく、被走査面における走査光の走査密度を容易に変更できるようにする。 - 特許庁
To provide a standard curriculum and execution procedure for each improvement theme with the reconstruction of a product development process suited to the characteristics of three-dimensional design in mind, and to provide a method of deriving a procedure suited to present situations different in each company.例文帳に追加
3次元設計の特性に合った製品開発プロセスの再構築を念頭においた、改善テーマごとの標準的なカリキュラムと実施手順の提供、および企業ごとに異なる現在の状況に合わせた手順の導出方法の提供を行なう。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display which recures the acquisition of a continuity between a first substrate which has a pixel electrode and a second substrate which has a counter electrode even in the liquid crystal display of a thin frame design without adding another process.例文帳に追加
液晶ディスプレイにおいて、狭額縁化したときでも画素電極が形成された第1の基板と対向電極が形成された第2の電極との間の導通が確実に得られる液晶ディスプレイを新たな工程を増やすことなく容易に提供する。 - 特許庁
A design grid a2 which is larger than the minimum processing size is set; a rounding process using a2 is performed for r_n, a ring zone radius rr_n and the focal length f2_n of each ring zone for the case are found; and further a second phase distribution P2 relating to rr_n is obtained.例文帳に追加
前記最小加工寸法より大きい設計グリッドa2を設定し、r_nについてa2を用いた丸め処理を行い、その場合の輪帯半径rr_nと各輪帯の焦点距離f2_nを求め、rr_nに係る第2の位相分布P2を求める。 - 特許庁
This invention relates to decision-making and logic structures, implemented in a computer software application, facilitating all phases of the design, development, tooling, pre-production, qualification, certification, and production process of any part or other article that is produced to specification.例文帳に追加
一態様において、本発明は、仕様に合わせて製造される部品その他物品の設計、開発、加工、試作、品質認定、検証及び製造工程のあらゆるフェーズを容易にする、コンピュータソフトウェアアプリケーションにおいて実行される意思決定及び論理構造に関する。 - 特許庁
In the process of making the reverse molds in a plurality of times, at least one time a rubber is used as the material of a reverse mold to compose the design surface 15a and this makes possible for it to be curved and deformed along the outer face of a cylindrical mold which transfers the transfer surface 11a to the outer peripheral face.例文帳に追加
反転型を複数回取る工程で、少なくとも1回、意匠面15aを構成する反転型の材質をゴム製とすることで、外周面に転写面11aを転写する円筒型の外側面に沿わせて湾曲変形可能としている。 - 特許庁
In a first process, an upper part of a constructed ready-made bank body 2 is excavated up to a predetermined level L1, or a construction-expected bank body 2 is put in a state of interrupting construction in the height of the predetermined level L1 by leaving an upper part on the basis of a design plan.例文帳に追加
第1の工程で、築造された既成の堤体2の上部を所定のレベルL1まで掘削するか、あるいは、設計プランに基づいて築造される予定の堤体2を上部を残し所定のレベルL1の高さで築造を中断した状態とする。 - 特許庁
To keep business from stopping during transfers/shifts among different departments by causing a development management system which manages the progress of product development to surely and consistently manage the progress even if a business process for design changes is shared by different departments.例文帳に追加
製品開発の進捗状況を管理する開発管理システムにおいて、設計変更の業務プロセスを各部門で分担しても進捗状況を確実に一貫管理して各部門間の引継ぎ・移行時の業務の停滞を抑制することを課題とする。 - 特許庁
To provide a cup type beverage automatic vending machine for suppressing cost increase of a product and for reducing constraint on design by displaying the progress of the cooking process of sales merchandise by a functional member originally installed in an automatic vending machine such as a merchandise selection button.例文帳に追加
商品選択ボタン等の自動販売機に本来備わる機能部材により、販売商品の調理工程の進捗等を表示し、製品のコストアップを抑制し、デザイン上の制約を少なくすることができるカップ式飲料自動販売機を提供する。 - 特許庁
To efficiently verify, in a short time, that arrangement of semiconductor elements and a surrounding situation thereof are desired ones, with increasing production variations according to minuteness in a design pattern and increase in circuit density in a production process of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
半導体集積回路の製造工程における設計パターンの微細化や回路の高密度化に伴い製造ばらつきが増加するなかで、半導体素子の配置やその周辺の状況が所望の通りであることを短時間で効率的に検証する。 - 特許庁
To improve the flexibility of process design of a heteroepitaxial growth film, by reducing the restriction on thickness of the film, required to make compatible relief of stress of the film and suppression of a density of crystal defects that are generated with the relief and grow up to the surface of the film.例文帳に追加
ヘテロエピタキシャル成長膜の、応力の緩和と、緩和に伴って発生し表面へ貫通する結晶欠陥の密度の抑制を両立させるために要求される、膜厚に対する制限を低減し、プロセス設計の自由度を向上させる。 - 特許庁
To provide a configuration in which production costs are reduced, a degree of freedom in design is improved and an expression ability is enriched by producing an actuator having a plurality of degrees of freedom through a batch process in an expression display for simulating the expression of a creature to perform complicated actions.例文帳に追加
複雑な動きをする生物の表情を模擬するための表情ディスプレイにおいて,複数自由度のアクチュエータを一括工程により製作することで,製造コストが低く,設計自由度が高く,表現力豊かな構成を提供すること。 - 特許庁
To shorten a period of time required to process to write a generated source code and to perform the re-build of an execution object efficiently in an apparatus of automatically creating a plurality of the source codes, based on design information and a template after change.例文帳に追加
変更後の設計情報とテンプレートとに基づいて複数のソースコードを生成するソースコード自動生成装置において、生成したソースコードの書き出し処理に要する時間を短くすると共に、実行オブジェクトの再ビルドを効率的に行えるようにする。 - 特許庁
A standardized language is used to develop configurable definitions of target instructions sets, HDL descriptions of hardware needed to implement the instruction set, and development tools for verification and application development, thus enabling a high degree of automation in the design process.例文帳に追加
標準化言語は、ターゲット命令セットの構成可能な定義、命令セットを実行するのに必要なハードウェアのHDL記述、及び検証及びアプリケーション開発のための開発ツールを開発するために使用されるので、設計処理の高度の自動化を可能にする。 - 特許庁
In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.例文帳に追加
この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁
The deteriorating condition of the secondary battery can be diagnosed from a contradiction with a known design capacity by defining, as a learning capacity, the quantity of discharge electricity until the end of a prescribed discharge process from a full-charge condition using a remaining capacity calculation function of the battery pack 2.例文帳に追加
電池パック2が備える残量演算機能により満充電から所定の放電停止状態までの放電電気量を検出した値を学習容量として、既知の設計容量との対比から二次電池の劣化状態が診断できる。 - 特許庁
To provide a plasma processing system in which an advanced control can be dealt with by solving the problems of the variation in the characteristics of the system (difference of system) and the error or variation of control signal and monitor signal, and completely identical process performance can be obtained in a plurality of systems of identical design.例文帳に追加
装置の特性のばらつき(機差)や制御信号、モニタ信号の誤差やばらつきの問題を解決し、高度な制御に対応するとともに、全く同じプロセス性能を複数の同じ設計の装置で得ることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
Film thicknesses of the etched cap layers 16 are reduced in the case of the self-alignment process forming the via plugs 22 in a self-alignment manner to the wiring layers 15 and the protective films 16 and 17 for the wiring layers, and design spaces of the via plugs 22 are decreased, thus fining the semiconductor device 10.例文帳に追加
ビアプラグ22を、配線層15及びその保護膜16、17と自己整合的に形成するセルフアラインプロセスに際して、エッチングされるキャップ層16の膜厚を小さくし、ビアプラグ22の設計間隔を縮小することで、半導体装置10を微細化する。 - 特許庁
(4) The Minister of Land, Infrastructure, Transport and Tourism shall, upon application under paragraph (1), inspect the design, manufacturing process and current conditions to certify whether the said aircraft complies with the standards listed below, and shall grant airworthiness certification if he/she finds that the said aircraft meets these standards. 例文帳に追加
4 国土交通大臣は、第一項の申請があつたときは、当該航空機が次に掲げる基準に適合するかどうかを設計、製造過程及び現状について検査し、これらの基準に適合すると認めるときは、耐空証明をしなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
The size of a thin-film solar cell substrate is different from that of a back-surface side sealing material, thus manufacturing a thin-film solar cell module having the superior appearance design and executability, without complicating a manufacturing process or without causing increase in the manufacturing costs.例文帳に追加
薄膜太陽電池セル基板と裏面側封止材料とを異なるサイズにすることにより、製造工程の複雑化とそれによる製造コストの上昇を招くことなしに外観意匠性および施工性に優れた薄膜太陽電池モジュールを製造する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the hologram color filter by using an interference exposure method using a master hologram, the master hologram is preliminarily subjected to correction that the deviation and turned deviation of the transfer pattern caused in the manufacturing process is added to the design pattern of the master hologram.例文帳に追加
また、マスタホログラムを利用する干渉露光法を用いたホログラムカラーフィルタの製造方法において、製造工程中に発生する転写パターンのずれと逆向きのずれを、予めマスタホログラム上の設計パターンに加える補正を行ったマスタホログラムを用いる。 - 特許庁
The law had required checkups on the safety of buildings during the design process, to which the amendment toughened building certification and inspection requirements to prevent structural calculation frauds, after false sheets were found in November 2005.例文帳に追加
建築基準法は、設計段階での建築物の安全性を審査することを求めているが、今回の建築基準法の改正は、2005年11月に発覚した構造計算書偽装問題の再発を防止するため、建築確認・検査を厳格化したものであった。 - 経済産業省
To provide a method for making an exposure mask which enables transfer formation of a real pattern with high dimensional accuracy with respect to the design pattern onto a wafer by proximity effect correction considering the loading effect arisen in a dry etching process for making an exposure mask.例文帳に追加
露光マスク作製のドライエッチング工程で発生するローディング効果も考慮した近接効果補正により、設計パターンに対する寸法精度の良好な実パターンをウェハ上に転写形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide a gate cutting device capable of perfectly eliminating the occurrence of flash in a gate part cutting process without lowering the degree of freedom in the design of the gate part in an injection-molded product of high precision such as a lamp being the constituent part of an HDD device.例文帳に追加
HDD装置の構成部品であるランプなどの高精度の射出成形品において、そのゲート部の設計の自由度を低下させることなく、ゲート部の切断工程におけるバリ発生を完全になくすことのできるゲートカット装置を提供する。 - 特許庁
To provide a process for the production of a glass substrate for a flat panel display, causing little deformation of the substrate after division even in the case of a large-sized glass and giving a display free from the problem of the generation of displaying defect caused by the deviation of the pattern from desired design.例文帳に追加
本発明の目的は、大板ガラスであっても、分割切断後の変形が少なく、パターンが所期の設計からずれてディスプレイの表示不良が発生するということがないフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁
Malfunctions and operational errors of the systems or components, which are applied in the basic design, are analyzed, and the event which results in the severest case is selected among the events in the similar propagation process as the postulated event group for the safety assessment.例文帳に追加
安全評価に当たって想定すべき事象群として、申請された基本設計に含まれる機器や系統の故障や誤操作について分析し、事象の進展過程が類似しているもののうち最も厳しい結果をもたらす事象を選定する。 - 経済産業省
In this initiative, Kyoto Institute of Technology, Kyoto Shisaku Net (group of small and medium-size processing companies) and product developing companies that represent the Keihan region collaborate closely with each other in developing a follow-up type internship program by organically combining problem solving, practical design training, internship and lectures. This internship program would enable students to have first-hand experience of the actual monodzukuri process leading up to the realization of their own product design in the form of a finished product, thereby fostering personnel with creativity and a critical mind and capable of looking at the monodzukuri process from a multi-faceted, broad perspective.例文帳に追加
本取組は、京都工芸繊維大学、京都試作ネット(中小加工企業群)、京阪地区を代表する製品開発企業、の三者が緊密に連携し、問題解決型デザイン実習とインターンシップおよび講義を有機的に結合することによって、学生が自ら企画設計した「マイプロダクト」が形になるまでのリアルなものづくりプロセスを追跡的に実体験する「川下り方式インターンシッププログラム」を開発し、創造性と批判的思考能力を持ち、ものづくりプロセスを多面的・俯瞰的に見通す力を持つ人材を育成することを目指している。 - 経済産業省
To provide a decorative film which can be embossed with an irregular pattern to the same extent as or beyond a decorative sheet using a polyvinyl chloride resin film and also exhibits outstanding surface physical properties such as design, contamination resistance and solvent resistance and further, is soft enough to permit a vacuum molding process or a lapping process with superb mar resistance, and a decorative sheet on which the decorative sheet is laminated.例文帳に追加
ポリ塩化ビニル樹脂フィルムを用いた化粧シートと同等以上のエンボス加工による凹凸模様を付与することが可能で、意匠性、耐汚染性、耐溶剤性などの優れた表面物性を有し、さらに真空成形やラッピング加工が可能な程度に軟質で、かつ耐疵付き性にも優れた化粧フィルム、およびその化粧フィルムを積層した化粧板を提供する。 - 特許庁
To provide an anti-counterfeit optical sheet in which estimations of three patterns of a pattern applying "an arbitrary color" to "an arbitrary position" in a manufacturing process of hologram and coloring an embossed layer, a pattern of a design of an embossed layer, and a reflective layer pattern remaining without being removed by a demetalizing process are completely accorded with one another, and anti-counterfeit paper using the anti-counterfeit optical sheet.例文帳に追加
ホログラムの製造工程内において「任意の位置」に「任意の色」を付与し、かつエンボス層を着色したパターン、エンボスされた層の図柄のパターン、そしてデメタライズ加工によって取り除かれず残った反射層パターンの3パターンの見当が完全に一致した偽造防止用光学シート、並びに偽造防止用光学シートを用いた偽造防止用紙を提供すること。 - 特許庁
A colored layer laminating process for laminating one of the corresponding colored layers 12-15 on the opposite design surface 11b of the base material layer 11 during manufacturing of an ornament 10, and a laser irradiation process for irradiating a laser beam L to the colored layers 12-14 laminated on the base material layer 11 to form through holes 20-22 are made prescribed times repeatedly.例文帳に追加
オーナメント10の製造に際して、基材層11の反意匠面11b上に、着色層12〜15のうちの対応する一層を積層する着色層積層工程と、基材層11に積層された着色層12〜14に対してレーザー光Lを照射することにより貫通孔20〜22を形成するレーザー光照射工程と、を所定数繰り返し行う。 - 特許庁
To provide a cooker-extruder for biopolymers, having high throughput capacity combined with high product quality, which is determined by constant process conditions, good homogenizing (mixing, defined temperature creation), good formability of the dough as well as low investment costs, low maintenance cost and flexible process design and finally good controllability by fast and simple handling, especially, during starting of operation, dismounting and cleaning.例文帳に追加
安定した製造条件によって決定づけられる高い製品品質と結び付いた高い処理能力、優れた均質化(混合、限定された温度発生)、適正な生地の成形性、低投資額、低維持費、柔軟なプロセス設計、そして最後に、特に始動時、取外し時、および掃除時における素早くて簡単な取扱いによる優れた制御性を目的とする。 - 特許庁
For example, Fujimoto, Amano and Shintaku (2007) and Ono and Fujimoto (2006), based on analyses of products and production process architecture, wherein basic product design concepts and production processes are made "integral" and "modular," have suggested that the "international division of labor in products and production process architecture should be done on the basis of abilities and countries business environments, as well as their comparative advantages in manufacturing".例文帳に追加
例えば、藤本・天野・新宅(2007)、Ono and Fujimoto(2006)等では、製品・工程の基本設計思想を「摺り合わせ(インテグラル)型」と「組み合わせ(モジュラー型)」の二つに分けて考える製品・工程のアーキテクチャ(構造)分析に基づいて、「各国の能力・構築環境、その国のものづくりの比較優位をふまえて、製品・工程アーキテクチャ上の国際的な分業展開を行うべき」としている200。 - 経済産業省
To provide an air tube structure capable of exerting a relatively high load bearing capacity, without the use of a cumbersome manufacturing process using cutting and jointing of a planar membrane material and without adopting the use of a special joining member, an increase in internal pressure or a design with large-section dimensions.例文帳に追加
平面膜材の裁断及び接合による煩雑な製作過程を用いず、しかも、特殊な接合部材の使用や、内圧の増大、或いは、大断面寸法の設計を採用することなく、比較的高い荷重支持能力を発揮し得るエアチューブ構造物を提供する。 - 特許庁
The consultant side 13 derives a means for reducing the difference on the basis of the design data, the difference, and the manufacturing process information, and calculates the cost and time required for the derived means and a reduction effect for a manufacturing cost obtained by reducing the difference.例文帳に追加
コンサルタント13側は、前記設計データ、差異、及び製造工程情報に基づいて、前記差異を縮小する手段を求め、求めた前記手段に対して必要な費用及び時間、及び前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出する。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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