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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Design Processの意味・解説 > Design Processに関連した英語例文

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Design Processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 975



例文

In a DNA probe design process (S5), force acting on a double strand structure of an arbitrary probe designed by using a graphic display function and a target nucleic acid molecule is calculated by a classic molecular force field calculation (S59).例文帳に追加

DNAプローブ設計処理(S5)では、グラフィック表示機能を利用して設計された任意プローブと標的核酸分子との二重鎖構造に作用する力を古典分子力場計算に従って算出する(S59)。 - 特許庁

To attain a control apparatus enabling to develop software at ease with insuring acceptable delay time of a process with a high priority, to respond design change with flexibility and also to widely use a program area to achieve machine functions.例文帳に追加

優先度の高い処理の許容遅延時間を保証しつつ、ソフト開発を容易にし、設計変更に柔軟に対応でき、かつ機器機能実現のためのプログラム領域を大きく使うことができる制御装置を実現する。 - 特許庁

By applying the present invention, the quantitative prediction for the concentration polarizing pollution inevitable in the membrane filtration process of the particle dispersed liquid can be performed, and control of pollution characteristics and basic data of design can be secured.例文帳に追加

本発明を用いることにより、粒子分散液の膜濾過プロセスにおいての必然的である濃度分極汚染に対する定量的予測が可能であり、汚染特性制御及び設計の基本資料を確保することが出来る。 - 特許庁

The method and the apparatus for creating a high-level synthetic register transfer level design are adapted for use in an allocation process to create a hardware architecture of minimal pseudo switching using formulation of power management.例文帳に追加

高位合成レジスタ転送レベル設計を作成するための方法および装置は、電力管理の定式化を用い、最小の擬似スイッチングのハードウェアアーキテクチャを生成するために、割振り処理に適合するために用いることができる。 - 特許庁

例文

To simplify a process of a semiconductor device packaging a DRAM and a logic part on the same semiconductor substrate, to secure the degree of freedom in design, and to reduce the layout area of a circuit.例文帳に追加

同一の半導体基板上にDRAM部とロジック部とが混載されている半導体装置において、工程の簡略化や設計の自由度を確保することができるとともに、回路のレイアウト面積の縮小化を図ることができるようにする。 - 特許庁


例文

To provide an indoor air-conditioning device which can favorably be used even when installed in any place within a room and is excellent in decorative design, and also to provide a method for manufacturing the air- conditioning device by a simple process.例文帳に追加

人目につき易いような室内いずれの場所にも配置して好ましく使用できる、意匠的効果に優れた室内空気調整装置及びその装置を簡単な工程で製造できる方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a process for producing a molded pulp product enabling the molding of a vessel having complicate form independent of draft angle, etc., and the addition of various beautiful design having excellent surface smoothness.例文帳に追加

抜き勾配等に拘わらず複雑な形状の容器を成形することができると共に、表面平滑性に優れた外観上美しい種々のデザインを付加することのできるパルプモールド成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

The layout design method includes a process (steps S2 to S4) in which cells are placed in such a way as to satisfy a prescribed timing constraint F1 and connection wiring for paths between cells is formed by using a first wiring layer which forms low resistance wiring.例文帳に追加

レイアウト設計方法は、所定のタイミング制約F1を満足させるように、セルを配置し、低抵抗配線が形成される第1配線層を使用してセル間のパスの接続配線を形成する処理(ステップS2〜S4)を有する。 - 特許庁

To provide a MOS type semiconductor device improved in breakdown resistance and having high reliability by suppressing a gain increase of a parasitic transistor caused by photo pattern defect liable to occur due to micronization of a process design rule.例文帳に追加

プロセスデザインルールの微細化に伴って発生しやすくなるフォトパターン欠陥に起因する寄生トランジスタのゲイン増大を抑制して破壊耐量を向上させて信頼性の高いMOS型半導体装置を提供すること。 - 特許庁

例文

A plurality of prototypes, wherein a plurality of the pitch designs such as SML or the like of a tire design surface are connected, are manufactured and a plurality of casting blocks made of a ferrous alloy are cast based on the prototypes through a rubber mold reversing ceramic casting mold manufacturing process.例文帳に追加

タイヤ意匠面のSML等のピッチデザインを複数個連結した原型を複数個製作し、これに基づいてゴム型反転、セラミック鋳型作成の工程を経て鉄系合金製の鋳物ブロックを複数個鋳造する。 - 特許庁

例文

To provide a liquid crystal apparatus of a reflection type and a transflective type which can be satisfactorily produced by using the conventional general design technique and manufacturing process without requiring application of a high voltage at start-up.例文帳に追加

起動時の高電圧印加が不要で、従来の一般的な設計手法や製造プロセスを用いて十分に製作可能な、色相表現の視野角依存性が少ない反射型および半透過型の液晶装置を提供する。 - 特許庁

A user extracts the information of tool model from the tool design information database to predict the results of performance items by simulating a chip generation process when using the tool model based on the information and cutting conditions set by the user.例文帳に追加

利用者が工具設計情報データベースから工具モデルの情報を抽出し、その情報と利用者が設定した切削条件とで工具モデル使用時の切りくず生成過程をシミュレートして性能項目の結果を予測する。 - 特許庁

Internal control is a process carried out by everyone within an organization. All personnel other than those listed above play a role in the design and operation of effective internal control concerning their own work duties. 例文帳に追加

内部統制は、組織内のすべての者によって遂行されるプロセスであることから、上記以外の組織内のその他の者も、自らの業務との関連において、有効な内部統制の整備及び運用に一定の役割を担っている。 - 金融庁

External auditors should note that if they, as is usually expected, have obtained certain audit evidence in the process of the Financial Statement Audit, they may use such audit evidence for the evaluation of the status of the internal control design stated above. 例文帳に追加

上記内部統制の整備状況に関して、監査人は、財務諸表監査の実施過程において、一定の監査証拠を入手しているのが一般的と考えられ、その場合には、その利用が可能であることに留意する。 - 金融庁

To provide a method for creating photomask data by which design data can be easily converted into photomask data on forming an integrated circuit pattern through a sidewall leaving process, and to provide a method for manufacturing a photomask and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

側壁残しプロセスで集積回路パターンを形成する場合に、設計データからフォトマスクデータへ容易に変換することが可能なフォトマスクデータの作成方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide novel design for a detection unit of a hygrometer capable of solving a problem of recoupling in an I-type electrolytic hygrometer, and capable of reducing a response time of the I-type electrolytic hygrometer, and a production process therefor.例文帳に追加

I型電解湿度計における再結合の問題点を克服し、且つ、I型電解湿度計の応答時間を少なくするために、湿度計の検出ユニットの新しい設計およびその製造プロセスを提供すること。 - 特許庁

Subsequently, as an upper coating layer forming process, upper coating material 50 different in color from the lower coating material 40 is applied to the surface of the lower coating layer 4 in the design surface 201 of the original plate 2 to form an upper coating layer 5.例文帳に追加

次いで、上側塗料層形成工程として、原板2の意匠表面201における下側塗料層4の表面に、下側塗料40とは色彩の異なる上側塗料50を塗布して上側塗料層5を形成する。 - 特許庁

To provide a process design suitable for mass production without requiring heat treatment after deposition for the purpose of obtaining a sufficient exchange bond of an antiferromagnetic film and a soft magnetic lining layer in manufacturing of a perpendicular magnetic recording medium.例文帳に追加

垂直磁気記録媒体の製造において、反強磁性膜と軟磁性裏打ち層との十分な交換結合を得るための成膜後の加熱処理を必要とせず、大量生産に適した工程設計を提供すること。 - 特許庁

To provide a bending method of metal plate, a tool used therefor, a bent article formed by bending method and an intermediate bent article under bending process, which have high production efficiency and is superior in design.例文帳に追加

生産効率が高く、意匠性に優れた金属板の曲げ加工法、それに用いる工具、及びその曲げ加工法によって形成された曲げ加工品並びにその曲げ加工途中にある中間曲げ加工品を提供する。 - 特許庁

To confirm the operation contents of a plurality of operation processes with a series of pictures for failure analysis, design change, production facility improvement, and process situation monitor or the like even with respect to a product whose producing operation is completed.例文帳に追加

生産作業が完了した製品についても、不良解析、設計変更、生産設備の改善、工程状況の監視等のために、複数にまたがる作業工程の作業内容を一連の画像で確認することを可能にする。 - 特許庁

Since the progress 32 for each kind of a machine name 31 is displayed as completion 35, incompletion 36 and delay 37 by a graph 33 and notification data 34, a design section and a post process section can quickly grasp a drawing issue state.例文帳に追加

機種名31毎の進捗状況32が、グラフ33や通知データ34で、完了35、未完了36および遅延37として表示されるので、設計部門や後工程部門が、出図状況を迅速に把握することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a nonvolatile memory element during an wiring process for facilitating high integration by lamination and change of design when a nonvolatile memory element having a variable resistor composed of a perovskite metal oxide film is fabricated in a semiconductor integrated circuit, and a method for fabricating a nonvolatile memory element by a low temperature process without causing any thermal damage in the wiring process.例文帳に追加

半導体集積回路へ、ペロブスカイト型金属酸化膜からなる可変抵抗体を有する不揮発性記憶素子を作りこむ際に、積層化による高集積化と設計変更を容易にする配線工程中において不揮発性記憶素子を形成する方法と、配線工程で熱的ダメージを与えることのない低温プロセスで形成可能な不揮発性記憶素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises a first process of obtaining information regarding the specific regions C, E based on design information of the device pattern, and a second process of fixing an alignment condition when performing alignment based on information obtained.例文帳に追加

局所的に特定領域C,Eを歪ませながら、その上にデバイスパターンが形成される基板Pの、所定処理位置に対するアライメント方法であって、デバイスパターンの設計情報に基づいて、特定領域C,Eに関する情報を取得する第一工程と、取得された情報に基づいて、アライメントを行う際のアライメント条件を決定する第二工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a process cartridge, equipped with a nonvolatile memory storing specific information corresponding to addresses, which enables proper printing operation without modifying a program on an image forming device body side even if the data arrangement in the nonvolatile memory is changed as the design, etc., is changed after the process cartridge begins to be sold.例文帳に追加

アドレスに対応して所定の情報を記憶する不揮発性メモリを備えたプロセスカートリッジであって、発売開始後に設計変更等によって上記不揮発性メモリ内のデータ配置が変更されたときでも、画像形成装置本体側のプログラムを変更することなく、適切なプリント動作を行うことができるものを提供する。 - 特許庁

To inspect shadow mask irregularity with a standardized method regardless of types of the shadow mask irregularity without being affected by components of the intensity distribution of transmitted light due to design which are present in the shadow mask to which an offset cone process or a grating process was performed.例文帳に追加

シャドウマスクのむらの種類によらず統一した方法で、しかもオフセットコーン加工またはグレーティング加工が施されているシャドウマスクに存在する設計による透過光の強度分布の成分に影響されることなく、むらによる透過光の強度分布の成分を抽出することによって、シャドウマスクのむらを検査することを可能にする。 - 特許庁

To provide the power analyzing system of an integrated circuit device capable of much easily and precisely executing power analysis even in a large- scale integrated circuit device whose integration is progressive, or in an upstream design process whose abstraction property is high.例文帳に追加

集積度の高い大規模な集積回路装置であっても、また抽象度の高い上流設計工程にあっても、より簡便にかつ精度よくその電力解析を行うことのできる集積回路装置の電力解析システムを提供する。 - 特許庁

To provide a sensor device which allows a wiring pattern to be easily changed without changing design and production process of the wiring pattern inside a sensor, depending on a function and arrangement of a connection terminal provided on an outer circuit and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、外部回路に設けられた接続端子の機能や配置に応じて、センサ内部の配線パターンの設計や製造工程を変更せずに、配線パターンを容易に変更可能にするセンサデバイス及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrical connection box in which a size, weight and manufacturing process can be reduced by a simple structure, and high density mounting on a substrate can be attained while enhancing the degree of freedom in the design of a wiring pattern.例文帳に追加

簡易な構造による小型軽量化、コスト低減および製造工程の削減を図ることができ、更には、基板における高密度実装および配線パターンの設計自由度の向上を図ることが可能な電気接続箱を提供すること。 - 特許庁

Specifically, a dual damascene structure corresponding to a design pattern figure can be formed by means of one exposure, development and etching step using a high resolution gray scale mask, which reduces a production process of a dual damascene structure and enhances the pattern accuracy.例文帳に追加

具体的には、高分解能グレーマスクを用いて、1回の露光、現像及びエッチング工程により、設計パターン形状に対応したデュアルダマシン構造を形成可能とし、デュアルダマシン構造の作製工程の短縮化及びパターン精度を向上させる。 - 特許庁

To reduce the film thickness constraints imposed for stress relaxation in a heteroepitaxial growth film and suppression of density of defective crystal arising and penetrating the surface of the film for stress relaxation and improve the degree of freedom in process design.例文帳に追加

ヘテロエピタキシャル成長膜の、応力の緩和と、緩和に伴って発生し表面へ貫通する結晶欠陥の密度の抑制を両立させるために要求される、膜厚に対する制限を低減し、プロセス設計の自由度を向上させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a detergent composition which is excellent in quality and especially in solubility at a low temperature, and comprises a functional particle, and in the manufacturing method of which the degree of freedom of a manufacturing process and the degree of freedom of design of the detergent composition are improved.例文帳に追加

品質、特に低温での溶解性に優れた、機能性粒子を含有してなる洗剤組成物の製造方法であって、製造工程の自由度及び洗剤組成の設計の自由度が向上された製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vehicle interior member that employs a covering material having a double-layer structure including an infrared reflecting layer and a design layer that allows infrared to pass therethrough, and furthermore allows the double-layer structure to be made without complexing the manufacturing process and allows the infrared reflecting layer to be formed by using existing shaping dies.例文帳に追加

表皮材を、赤外線反射層と赤外線を透過させる意匠層との二層構造としても、製造工程が複雑化せず、赤外線反射層は既存の成形型を用いて成形することができるようにする。 - 特許庁

To provide a switching device with a touch detection function which can detect contact of the user's finger with an operating member reliably, can ensure good assemblability in manufacturing process and excellent durability by eliminating the soldering point, and can reduce design constraints.例文帳に追加

使用者の手指が操作部材に接触したことを確実に検出でき、半田付け箇所がなく製造過程における組み付け性が良いとともに耐久性に優れ、更に、意匠の制約の少ないタッチ検出機能付きスイッチ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic EL device, by which an organic EL device capable of the best light emission as in a design of a light path even after continuous driving has been performed, without causing concentration quenching, can be manufactured using a liquid process.例文帳に追加

濃度消光を起こすことなく、連続駆動を行った後にも光路設計通りの最良な発光をなさせることができる有機EL素子を液体プロセスを用いて製造可能な有機EL素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic estimation method based on design drawing data, in which the degree of freedom of change/correction is high respectively regarding the setting of a shape model, an estimation section and attribute information or the like and the cognizability of an estimation process and attribute information is excellent.例文帳に追加

形状モデル、積算区分、および属性情報の設定等に関して各々変更・修正の自由度が高く、しかも積算過程および属性情報の被認識性に優れた、設計図面データに基づく自動積算方法を提供する。 - 特許庁

A change information registering part 5 registers information when a change is applied to the equipment component in its checking process, and a change information registering part 7 registers information when a design change takes places in the equipment component after the equipment is shipped.例文帳に追加

変更情報登録部5は検査工程で装置構成品に変更が加えられた時にその情報を登録し、変更情報登録部7は装置の出荷後、装置構成品に設計変更が生じた場合、その情報の登録を行う。 - 特許庁

To provide a simulate method for generating reliability or designing reliability in a design stage, shortening a process developing period and making transistor performance to be high by remarkably improving the precision of circuit reliable simulation.例文帳に追加

回路信頼性シミュレーションの精度を大幅に向上することにより、設計段階での信頼性の作り込みあるいは信頼性設計を実現し、プロセス開発期間の短縮とトランジスタ高性能化を実現するシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

A simulation database device 1 for blending design includes: a database 2 in which raw material data, process data and evaluation data used for a blending experiment are registered as experiment data; and a model construction part 3 for constructing a prediction model, based on experiment data.例文帳に追加

配合設計用シミュレーションデータベース装置1は、配合実験で用いられた原料データとプロセスデータと評価データが実験データとして登録されるデータベース部2と、実験データに基づいて予測モデルを構築するモデル構築部3を備えている。 - 特許庁

Product load related information under execution is acquired and reflected by connecting environmental load on a supply chain not only to design information and past statistics information but a business process under execution to perform detailed management for every individual product.例文帳に追加

サプライチェーン上の環境負荷を、設計情報や過去の統計情報のみならず、実行中の業務プロセスと接続することにより、実行中の製品負荷関連情報を取得・反映して、個別の製品ごとに細かい管理を行なう。 - 特許庁

To solve a problem that since a conventional scanning module has no clear designing policy for the arrangement of components for miniaturization, the design is ineffectual and components are added by try and error and then adjusted, which results in a deterioration in cost and performance in a manufacturing process.例文帳に追加

従来の走査モジュールは、小型化を図る際に部品の配置の設計指針が明らかではなく、部品の追加や試行錯誤で部品を取り付け、調整するなど設計に無駄があり、製造時のコストの悪化や性能の劣化が生じている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a formed article excellent in the design by which a designed desired rugged pattern is more faithfully left on the surface of a product by suppressing the defacement of the rugged pattern and the generation of surface defects in the forming process.例文帳に追加

成形過程における凹凸模様の潰れと表面傷発生の抑制にあり、設計された所望の凹凸模様を製品表面ヘより忠実に残すことができる意匠性に優れた成形品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To increase the design flexibility of a surface which composes an inner periphery of a body section that is positioned at an outer periphery of a weight member and exposes to outside without limiting it to something made of a circular base section formed by a first projection process that forms the body section.例文帳に追加

重り部材の外周に位置して外部に露出するボディー部の内周縁を構成する面を、該ボディー部を形成する一次射出工程で成形される環状ベース部からなるものに限定されることなく、デザイン自由度を高める。 - 特許庁

Design data (A) of a chip of a back-illuminated CMOS image sensor is designed in the same manner as the front-illuminated type by using an IP of a normal CMOS process without considering mirror reversal of a taken image (C) by back illumination.例文帳に追加

裏面入射型CMOSイメージセンサのチップの設計データ(A)については、裏面入射による撮像画像(C)の左右反転を意識することなく、通常のCMOSプロセスのIPを用いて、表面入射型と同様に設計する。 - 特許庁

To provide a technique for verifying the safety of equipment by utilizing an equipment model and a worker model on the upstream side of a design production process and using a visual field image seen from the visual point of the worker model in a virtual three-dimensional space.例文帳に追加

設計生産工程の上流において機器モデルおよび作業者モデルを活用し、仮想3次元空間内で作業者モデルの視点から見た視野画像を用いることにより、機器の安全性を検証する技術を提供する。 - 特許庁

To provide an electrolytic solution and its manufacturing method capable of suppressing the generation of free acids without requiring changing of the design of battery or a process to recover and separate an adsorbent, wherein the generation of free acids is suppressed even at a high temp.例文帳に追加

電池の設計変更、吸着剤の回収分離工程を要すること無く遊離酸の発生が抑制され、且つ高温においても遊離酸の発生が抑制された電解液及び該電解液の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

By only arranging the unevenness forming jig during the continuous coating process of the metal sheet 1, the outer layer coating film 5, which is enhanced in design properties having the streak-like uneven pattern can be formed by utilizing the continuous feed of the metal sheet 1.例文帳に追加

これにより金属板1の連続塗装工程中に凹凸形成治具を配設するだけで金属板1が連続的に搬送されることを利用してすじ状の凹凸模様を有する意匠性の高い外層塗膜5を形成することがでる。 - 特許庁

To provide a grain decorative sheet, which is excellent in a secondary workability such as V-cut, lapping or the like and scratch marks make inconspicuous even when a decorative sheet is scratched during its working process or at its use or the like and in which the lowering of design properties is small.例文帳に追加

Vカット、ラッピング等の2次加工性に優れた化粧シートであって、加工工程、または使用時等に、化粧シートに傷が付いても、傷痕が目立つことが少なく、意匠性の低下の少ない木目化粧シートを提供することにある。 - 特許庁

・ The process of developing, procuring or modifying the new system or software should be appropriately recorded and retained. In the case of modification, records on the status of internal control design over the old system or software must be updated. 例文帳に追加

・新たなシステム、ソフトウェアの開発、調達又は変更について、その過程が適切に記録及び保存されるとともに、変更の場合には、変更前のシステム、ソフトウェアに関する内部統制の整備状況に係る記録が更新されていること - 金融庁

Adjusting voltage Vx outputted from the DA converter 10 is positioned in the almost center of the adjusting possible range even before a zapping process and the center frequency f0 of adjusted IC 20 to which voltage is inputted becomes a value approximate to a design value.例文帳に追加

ザッピング工程前であっても、DAコンバータ10から出力される調整電圧Vxはその調整可能範囲のほぼ中央に位置し、これが入力される被調整IC20の中心周波数f0は設計値の近傍になる。 - 特許庁

例文

To provide a bag which dissolves the problem that many waste cut pieces or others are generated in manufacturing the bag, whose manufacturing process is simple, which has excellent design, and which can be compactly stored if needed.例文帳に追加

バッグの製造に多数の端切れ等が出るという欠点を解消し、更に製造工程が簡素であるバッグの提供を課題とするものであり、併せてデザイン的に優れていると共に必要に応じてコンパクトに収納することのできるバッグを提供する。 - 特許庁




  
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