「First Step」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

The article evaluation information collecting system is provided with a first step for displaying the article data, a second step for encouraging input of an evaluation to the displayed article data, and a third step for registering the inputted evaluation.例文帳に追加

記事データを表示する第１のステップと、前記表示された記事データに対する評価の入力を促す第２のステップと、前記入力された評価を登録する第３のステップと、を備える。 - 特許庁

The process comprises a first step of culturing a microalga euglena aerobically, a second step of further culturing the microalga euglena while retaining the culture medium under nitrogen-starved conditions, and a third step of retaining cells of the microalga euglena under anaerobic conditions.例文帳に追加

微細藻ユーグレナを好気的に培養する第１の工程と、該培地を窒素飢餓状態にてさらに培養する第２の工程と、細胞を嫌気状態下に保持する第３の工程とから成る。 - 特許庁

In the method, the second alignment step of the (N-1)th substrate, and the temperature adjustment step of the (N-1)th substrate are performed during the first alignment step of the N-th substrate.例文帳に追加

前記方法において、Ｎ枚目の基板の前記第１位置合わせ工程の期間内にて、Ｎ−１枚目の基板の前記第２位置合わせ工程と、Ｎ−１枚目の基板の前記温調工程と、を有する。 - 特許庁

In the first step, a first resin is interposed between a first stamper having, in its transfer surface, pattern-shaped recessed parts corresponding to first magnetic parts of a plurality of servo regions in a BPM to be manufactured and a magnetic film 5 and the first stamper is pushed to the first resin.例文帳に追加

第１工程では、製造目的のＢＰＭにおける複数のサーボ領域の第１磁性部に対応したパターン形状の凹部を転写面に伴う第１スタンパと磁性膜５の間に第１樹脂を介在させて第１スタンパを第１樹脂に押し付ける。 - 特許庁

First, two or more holes 31 are bored on a workpiece (a first step shown in Fig. 2(a)), and then the holes are bored so that part of them overlap the adjacent bored holes 31 and 32 (a second step shown in Figs. 2(b)-(d)).例文帳に追加

まず、ワークに少なくとも２つ以上の穴３１を穿設し（第１の工程、図２（ａ））、次に、隣接する穿設された穴３１，３２に一部が重なるような穴を穿設して行く（第２の工程、図２（ｂ）〜（ｄ））。 - 特許庁

The travel distance Ds is not less than the learning reset threshold value KDs (negative determination in step S15), ECU executes first neutral control not using the first target fluid pressure KPc1 (step S20).例文帳に追加

走行距離Ｄｓが学習再設定閾値ＫＤｓ以上である場合（ステップＳ１５が否定判定）、ＥＣＵは、第１目標油圧ＫＰｃ１を用いない第１ニュートラル制御を実行する（ステップＳ２０）。 - 特許庁

The engagement of the connector is executed through a step for connecting the first and second components of the connector frame, and a step for successively connecting the contacts of the halves of the first and second connectors.例文帳に追加

コネクタを係合するための方法は、コネクタフレームの第１と第２の構成要素を結合するステップと；第１と第２のコネクタの半分の接触子を順次的に接続するステップとを備えている。 - 特許庁

Furthermore, the method includes, in addition to the first adjustment process (step S3), a second adjustment process (step S4) in which both of the first batteries A and the second batteries B are discharged or charged by a same amount of electricity.例文帳に追加

さらに、第１調整工程（ステップＳ３）に続いて、第１電池Ａ及び第２電池Ｂのいずれをも、等しい電気量だけ放電または充電する第２調整工程（ステップＳ４）を備えている。 - 特許庁

In this thresholding, first of all, in the first step, a work adsorption device is actually operated continuously without a work, and a peak value in each cycle is determined, and the maximum value PA among them is stored (step S4).例文帳に追加

しきい値設定では、まず、第１ステップとして、ワーク無しでワーク吸着装置を実際に連続的に稼動させ、各サイクルでのピーク値を求め、その中の最大値ＰＡを記憶する（ステップＳ４）。 - 特許庁

When the first photomask is used in the first step and the second photomask is used in the second step, such a positional relation is set that the light shielding pattern 14 covers the pattern 140 for monitoring element dimensions.例文帳に追加

第１フォトマスクを第１工程において用い、第２フォトマスクを第２工程において用いるとき、素子寸法をモニタするパターン１４０を、遮光パターン１４が覆うような位置関係にある。 - 特許庁

The method further includes a step of injecting fuel into at least one of the first path or the second path, and a step of accelerating at least one of the first airflow or the second airflow.例文帳に追加

本方法はさらに、第１の通路又は第２の通路の少なくとも一方に燃料を噴射するステップと、第１の空気流又は第２の空気流の少なくとも一方を加速させるステップとを含む。 - 特許庁

The manufacturing technology further includes a step for performing anode junction of a second wafer to one side part of the first wafer 300, and a step for performing anode junction of a third wafer to the opposite side part of the first wafer 300.例文帳に追加

さらに、第２ウェハを第１ウェハ３００の一方の側部に陽極接合するステップと、第１ウェハ３００の反対側の側部に第３ウェハを陽極接合するステップと、を有する。 - 特許庁

In the analyzing step S4007, a residual film stress of the first electrophotographic photoreceptor is analyzed based on changes in the end shape of the first substrate before and after the film deposition step S4004.例文帳に追加

解析ステップＳ４００７では、堆積膜形成ステップＳ４００４の前後における第１の基体の端部形状の変化に基づいて、第１の電子写真用感光体の残留膜応力を解析する。 - 特許庁

Therein, in the first step of a developing process, the high concentration developer 11 is sprayed from the first developing nozzle 1 and, in the second step of the developing process, the low concentration developer 12 is sprayed from the second developing nozzle 2.例文帳に追加

この場合、１段目の現像工程では高濃度の現像液１１を第１現像ノズル１からスプレーし、２段目の現像工程では低濃度の現像液１２を第２現像ノズル２からスプレーする。 - 特許庁

After a step 2, the flow servo valve of the first water heater is gradually transferred to be closed (command 3), and when flow rate becomes a value less than the lowest operation flow rate (step 4), the flow servo valve of the first water heater is closed full to inhibit combustion (command 4).例文帳に追加

ステップ２を経て、第１給湯器の流量サーボ弁を徐々に閉側移行させ（指令３）、最低作動流量未満になれば（ステップ４）全閉にして燃焼禁止する（指令４）。 - 特許庁

The clock CLKA for the first module 21 and a clock CLKP for a CPU 25 are synchronized in Step ST5 before the CPU 25 reads the operation result of the first module 21 in Step ST6.例文帳に追加

そして、ステップＳＴ５において、モジュールＡ２１のクロックＣＬＫＡとＣＰＵ２５のクロックＣＬＫＰとの位相を一致させた後、ステップＳＴ６においてモジュールＡ２１の演算結果をＣＰＵ２５で読み取る。 - 特許庁

The boiled adzuki bean 2 obtained in steps A and B is immersed into a first sweet syrup 6 (step C) and further, immersed into a second sweet syrup 7 in a sugar concentration lower than that of the first sweet syrup 6 to sweetly season the adzuki bean (step D).例文帳に追加

次いで、（Ａ）、（Ｂ）の工程で得た煮豆２を第１甘味シロップ６に浸漬し（Ｃ）、更に、第１甘味シロップ６よりも糖度を低くした第２甘味シロップ７に浸漬して甘く味付する（Ｄ）。 - 特許庁

In the first film-forming step, a first film 103 with the thickness of ≥3 nm is formed on a particle irradiation surface of the substrate 101 after the pre-irradiation step by an ion assisted vapor deposition method using ion beams.例文帳に追加

第１の成膜工程では、前照射工程後の基板１０１の粒子照射面にイオンビームを用いたイオンアシスト蒸着法によって第１の膜１０３を３ｎｍ以上の厚みで成膜する。 - 特許庁

After deposition of a first metal film M1 over the backside surface f2 of the silicon substrate in a first chamber ch1 (step s03), it is heat treated to form a metal silicide film E1 (step s04).例文帳に追加

まず、第１チャンバｃｈ１内でシリコン基板の裏面ｆ２に第１金属膜Ｍ１を堆積（工程ｓ０３）した後、熱処理を施すことで金属シリサイド膜Ｅ１を形成する（工程ｓ０４）。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor device comprises a step of laminating the first and second substrates via the spacer, and a step of cutting the first and second substrates, in a region in which the spacer is arranged.例文帳に追加

製造方法は、第１の基板と第２の基板とをスペーサを介して貼り合わせる工程と、前記第１及び第２の基板を前記スペーサが配された領域で切断する工程とを含む。 - 特許庁

Preferably, the pressure bonding step includes an oxide removing step for removing the oxides of the pressure bonding surface of the first sheet and/or the second sheet before the first sheet and the second sheet are press-bonded.例文帳に追加

圧着工程において第１シートと第２シートが圧着される前に第１シート及び／又は第２シートの圧着面の酸化物を除去する酸化物除去工程を含むことが好ましい。 - 特許庁

The electron beam lithography process includes a step of generating an electron beam, and another step of introducing the electron beam through the first square aperture in a first lamina.例文帳に追加

本発明の態様によれば、電子ビーム・リソグラフィ方法が提供され、これは電子ビームを生成するステップと、電子ビームを第１のラミナ内の第１の正方形アパーチャを通じて導くステップとを含む。 - 特許庁

Further, the production method for the polyurea electrolyte is characterized by including a step of neutralizing the sulfonic acid group or the carboxylic acid group in the first compound or the second compound using a neutralizer, a step of polymerizing the first compound and the second compound following the neutralization step, and a step of removing the neutralizer from the polymer of the first compound and the second compound following the polymerization step.例文帳に追加

さらに、前記ポリウレア電解質の製造方法は、第一化合物又は第二化合物におけるスルホン酸基又はカルボン酸基を中和剤により中和する工程と、中和工程後に、第一化合物及び第二化合物を重合する工程と、重合工程後に、第一化合物及び第二化合物の重合体から前記中和剤を除去する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

A method of manufacturing a dielectric capacitor 100 includes a step of forming a first platinum film 26 on a base 10, a step of carrying out a heat treatment to the first platinum film, a step of forming a second platinum film 28 on the first platinum film, a step of forming a dielectric film 30 on the second platinum film, and a step of forming an electrode 40 on the dielectric film.例文帳に追加

本発明にかかる誘電体キャパシタ１００の製造方法は、基体１０の上方に第１の白金膜２６を形成する工程と、第１の白金膜に熱処理を施す工程と、第１の白金膜上に第２の白金膜２８を形成する工程と、第２の白金膜の上方に誘電体膜３０を形成する工程と、誘電体膜の上方に電極４０を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The structural method comprises a first exposure step for focusing and exposing a first pattern part on a first focal plane, and a second exposing step for focusing and exposing a second pattern part on a second focal plane different from the first focal plane.例文帳に追加

本発明の構造化方法は、第１パターン部分が第１焦点面に焦点合せされて露光される第１露光ステップと、第２パターン部分が第１焦点面とは異なる第２焦点面に焦点合せされて露光される第２露光ステップとからなることを特徴とする。 - 特許庁

The second label of "all messages" is automatically assigned to each of the plurality of messages, and the step of generating and transmitting the first dialog list to the client system includes the step of formatting the first dialog list including the first label for displaying the first dialog list.例文帳に追加

前記複数のメッセージのうちの各メッセージは、第２のラベルである「すべてのメール」が自動的に割り当てられ、前記クライアントシステムに対して第１の会話リストを生成しかつ送信するステップは、前記第１のラベルを含む前記第１の会話リストを表示するためにフォーマットするステップを含む。 - 特許庁

The step section 50 has a first inner peripheral surface 51, a second inner peripheral surface 52 which is formed on an axial transmission side of the first inner peripheral surface 51 and is greater than a bore of the first inner peripheral surface 51, and a step surface 53 formed between the first and second inner peripheral surfaces 51 and 52.例文帳に追加

段差部５０は、第１内周面５１と、第１内周面５１の軸方向トランスミッション側に形成し第１内周面５１より内径が大きい第２内周面５２と、第１及び第２内周面５１、５２の間に形成した段差面５３とを有する。 - 特許庁

The battery control section charges the first auxiliary battery 6 by means of the charger 15, and steps up a power of the first auxiliary battery 6 by means of the step-up/step-down transformer 5 to continue a charging cycle to charge the main battery 4 when a remaining capacity of the first auxiliary battery 6 reaches a first predetermined value.例文帳に追加

バッテリ制御部は、充電器１５を用いて第１の補助バッテリ６を充電し、第１の補助バッテリ６の残容量が第１所定値に到達した時点で第１の補助バッテリ６の電力を昇降圧器５により昇圧してメインバッテリ４を充電するチャージサイクルを継続する。 - 特許庁

A method for adhering the sheet material comprises the step of fixably and releasably switchably fixing the second conveyor 2 to and from the first conveyor 1 to supply the second sheet material S from the second conveyor to the first conveyor 1 in the adhering step of supplying the first sheet material S to the drum D by the first conveyor 1.例文帳に追加

さらに、第１ベルトコンベア１にて第１のシート材Ｓをタイヤ成形ドラムＤに供給する貼付工程に於て、第２ベルトコンベア２を第１ベルトコンベア１に固定・離脱切換可能に固定して第２ベルトコンベア２から第１ベルトコンベア１に第２のシート材Ｓを供給するように構成する。 - 特許庁

When removing the coating from the coated magnesium-alloy product, the coated magnesium-alloy product is subjected to a first treatment step S11 of allowing a first alkaline solution to act on the coated magnesium-alloy product and a second treatment step S13 of allowing a second alkaline solution different from the first alkaline solution to act on the magnesium-alloy material which has undergone the first treatment step S11.例文帳に追加

塗装が施されているマグネシウム合金材から塗膜を除去するに際し、被塗装マグネシウム合金材に対して第１アルカリ溶液を作用させる第１処理Ｓ１１と、当該第１処理Ｓ１１を経たマグネシウム合金材に対して、第１アルカリ溶液とは別の第２アルカリ溶液を作用させる第２処理Ｓ１３と、を行う。 - 特許庁

The control circuit increases the writing voltage by first step-up voltage when repeatedly applying the writing voltage in a first period after starting the writing operation, and it controls the writing voltage so as to increase the writing voltage by second step-up voltage lower than the first step-up voltage in a second period after the first period.例文帳に追加

制御回路は、書き込み動作開始後の第１期間においては、書き込み電圧の印加を繰り返す際に、第１のステップアップ電圧ずつ書き込み電圧を上昇させ、第１期間の後の第２期間においては、書き込み電圧を第１のステップアップ電圧より小さい第２のステップアップ電圧ずつ上昇させるように書き込み電圧を制御する。 - 特許庁

This production method of the graphene conductive film includes: a first step of providing a metallic substrate having a first surface and a second surface facing the first surface; a second step of growing a graphene structure on the first surface of the metallic substrate; and a third step of patterning the metallic substrate by etching to form an electrode.例文帳に追加

本発明のグラフェン導電膜の製造方法は、第一表面及び該第一表面に対向する第二表面を有する金属基材を提供する第一ステップと、前記金属基材の第一表面にグラフェン構造体を成長させる第二ステップと、エッチングによって、前記金属基材をパターニングして電極を形成させる第三ステップと、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the polymeric particle comprises a first particle formation step of forming a first particle containing a first polymer in a liquid droplet state, a second particle formation step of forming a second particle obtained by making the first particle absorb a second monomer, and a polymerization step of polymerizing the second monomer absorbed in the second particle.例文帳に追加

重合体粒子の製造方法は、液滴状態の第１重合体を含む第１粒子を形成する第１粒子形成工程と、第１粒子に第２単量体を吸収させた第２粒子を形成する第２粒子形成工程と、第２粒子に吸収させた第２単量体を重合させる重合工程とを含む。 - 特許庁

This manufacturing method is constituted by including a molding step to separately mold the second part except for the first part including the resonator part, the bulkhead part and the first main body part except for bulkhead part out of the first part, a bulkhead part arranging step and a connecting step so that the bulkhead part is sandwiched between the first main body part and the second part.例文帳に追加

レゾネータ部を含む第一部分以外の第二部分と、隔壁部分と、第一部分のうち該隔壁部分を除いた第一本体部分とを別個に成型する成型ステップと、隔壁部分配置ステップと、該隔壁部分が該第一本体部分と該第二部分との間に挟持されるように接合する接合ステップとを含んでなる製造方法である。 - 特許庁

The step of injecting the liquid crystal material includes a first injection step of injecting a liquid crystal material containing the photopolymerizable compound at a first concentration C_1 and a second injection step of injecting a liquid crystal material containing the photopolymerizable compound at a second concentration C_2 higher than the first concentration C_1 after the first injection process.例文帳に追加

液晶材料を注入する工程は、光重合性化合物を第１の濃度Ｃ_1で含む液晶材料を注入する第１注入工程と、第１注入工程の後に、光重合性化合物を第１の濃度Ｃ_1よりも高い第２の濃度Ｃ_2で含む液晶材料を注入する第２注入工程と、を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a step of forming the first metal wiring 12 having the partial film thickness of the entire film thickness of the metal wiring, a step of forming an interlayer dielectric 14 covering the entire upper surface of an underlying insulating film 10 and the first metal wiring, and a step of then exposing the surface of the first metal wring while flattening the surface by cutting the first interlayer dielectric.例文帳に追加

下地絶縁膜１０の上に、メタル配線の全膜厚の一部の膜厚を有する第１メタル配線１２を形成し、下地絶縁膜および第１メタル配線の上全面を覆う第１層間絶縁膜１４を形成した後、第１層間絶縁膜を削ってその表面を平坦化しつつ、第１メタル配線の表面を露出する。 - 特許庁

The method of manufacturing the organic semiconductor device 1000 comprises a step of forming a first element in which a first element possessing specified layers on the first substrate 10 is formed, a step of forming a second element in which a second element possessing specified layers on the second substrate 20 is formed, and a step of fastening the elements in which the first element and the second element are mutually fastened.例文帳に追加

また、本発明に係る有機半導体装置１０００の製造方法は、第１の基板１０の上に所定の層を有する第１素子を形成する第１素子形成工程と、第２の基板２０の上に所定の層を有する第２素子を形成する第２素子形成工程と、第１素子と第２素子とを固定する素子固定工程とを含む。 - 特許庁

To solve problems that a step of arraying a first mask step and a second mask step is not easy and a defect is caused when a double patterning step for overcoming the limit of resolution of exposure equipment is performed in a fine pattern forming method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子の微細パターン形成方法に関し、露光装備の解像度の限界を克服するため二重パターニング(Double Patterning)工程を行うことにおいて、第1マスク工程と第2マスク工程を整列する工程が容易でなく不良が発生する。 - 特許庁

The method includes the step of writing data in a tape while the tape is traveling of a tape at a first speed, the step of stopping the tape, the step of determining a minimum distance to reposition the tape, and the step of repositioning the tape.例文帳に追加

本方法には、テープが第１速度で走行している間にデータをテープに書き込み段階と、テープを停止させる段階と、テープを再位置決めするのに最小の距離を決定する段階と、そしてテープを再位置決めする段階とを備える。 - 特許庁

The step for performing power-source transition can include a step for disconnecting the first power source from the power-transmission system; a step for waiting for satisfaction of at least one predetermined condition; and a step for connecting the second power source to the power-transmission system.例文帳に追加

電源遷移を実行するステップは、第１の電源を電力分配システムから切り離すステップと、少なくとも１つの所定の条件を満たすことを待つステップと、第２の電源を電力分配システムに接続するステップとを含み得る。 - 特許庁

This method comprises a step for storing second image data in a partial area of a memory; a step for serially writing first image data in the memory; a step for serially reading the data stored in the memory; and a step for displaying the data read from the memory.例文帳に追加

第２の画像のデータをメモリの一部の領域に格納する工程と；第１の画像のデータを前記メモリにシリアルに書き込む工程と；メモリに格納されたデータをシリアルに読み出す工程と；メモリから読み出されたデータを表示する工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing bean sprouts comprises a first step swelling seeds for bean sprouts by soaking them in a water containing sodium bicarbonate, a second step germinating the seeds in a dark place, and a third step irradiating the seeds in the second step with a red colored light.例文帳に追加

もやし用種子を重曹を含有した水に浸漬して膨潤させる第１工程と、これを暗所にて発芽さ背る第２工程と、第２工程中で赤色光を照射する第３工程と、からなることを特徴とするもやしの製法。 - 特許庁

An information processor inputs a first password according to the first softkey layout in updating of a password (step S103), then inputs a second password according to the second softkey layout different from the first softkey layout (step S104), and when the first password is equal to the second password (step S105: "equal"), updates and stores the password into a control part 11 (step S106).例文帳に追加

例えば、暗証番号更新の際、第１のソフトキー配置によって第１の暗証番号を入力し（ステップＳ１０３）、続いて、第１のソフトキー配置と異なる第２のソフトキー配置によって第２の暗証番号を入力し（ステップＳ１０４）、第１の暗証番号と、第２の暗証番号とが等しい場合（ステップＳ１０５の「等しい」）、その暗証番号を制御部１１内に更新記憶する（ステップＳ１０６）。 - 特許庁

The method of patterning a dielectric film includes a step of forming a first dielectric film on a silicon substrate, a step of forming a second dielectric film on the first dielectric film, a step of partially exposing the first dielectric film by partially etching the second dielectric film with use of an etching paste, and a step of etching the exposed first dielectric film using an etching solution.例文帳に追加

シリコン基板上に、第１の誘電体膜を形成する工程と、該第１の誘電体膜上に、第２の誘電体膜を形成する工程と、エッチングペーストを用いて、第２の誘電体膜を部分的にエッチングすることにより、第１の誘電体膜を部分的に露出させる工程と、露出した第１の誘電体膜を、エッチング液を用いてエッチングする工程とを含む誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step for forming a first film formed of a material having a higher conductance than that of silicon oxide on a substrate, a step for crystallizing the first film by heating, a step for reducing the thickness of the crystallized first film, and a step for forming a second film on the thinned first film is provided.例文帳に追加

基体上に酸化シリコンよりも高い誘電率を有する材料からなる第１の膜を形成する工程と、加熱して前記第１の膜を結晶化させる工程と、前記結晶化させた前記第１の膜の厚みを減らす工程と、前記厚みを減らした前記第１の膜の上に第２の膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。 - 特許庁