「GAS-PHASE」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

The device has the thin film transistor, in which the microcrystal is deposited through a plasma CVD method by using a first material gas containing such an element in which a number of atoms are polymerized to form a polymer when they are joined in a vapor phase, as well as a second material gas that does not form a polymer in a vapor phase.例文帳に追加

画像表示装置は気相中で結合した場合に多数の原子が重合することによってポリマーを形成する元素を含有する第１原料気体と、気相中でポリマーを形成することのない第２原料とを用いてプラズマＣＶＤ法によって微結晶を成膜した薄膜トランジスタを備える。 - 特許庁

By adjusting the cycle, phase and speed of the selector valve 12 by the inverter 29, the dispersion of resistance generated when the working gas flows in the cold storage units 1 and 2 and the dispersion due to the individual difference of the phase or the like of the pulse wave of the working gas is compensated so that the cold amount accumulated in the pulse tube refrigerating machine is maximized.例文帳に追加

インバータ２９で切換弁１２の周期、位相、速度を調整することによって、作動ガスが上記蓄冷器１,２の中を流れる際に生じる抵抗や作動ガスのパルス波の位相等の個体差によるばらつきを補償して、パルス管冷凍機に溜められる冷熱量を極大にすることができる。 - 特許庁

A take-in vessel for introducing a mixed gas exhausted from a vertical CVD apparatus is provided, and collecting discs 40A and 40B where the vapor-phase component of the mixed gas is allowed to stick to the surface under cooling action with the mixed gas are provided in the capturing vessel.例文帳に追加

縦型ＣＶＤ装置から排出された混合ガスを導入させる取込容器を有し、この取込容器に混合ガスへの冷却作用にてその表面に混合ガスの気相成分の付着をなす捕集用円盤４０Ａ、４０Ｂを設置した気相成分除去装置である。 - 特許庁

In a method for absorbing and removing a silane by bringing a silane-containing gas into contact with a basic water solution in a bubble tower, a gas-liquid two-phase stream comprising the silane-containing gas and the basic water solution in introduced into the tower through a nozzle placed at the lower part of the tower.例文帳に追加

シラン類含有ガスを気泡塔において塩基性水溶液と接触させシラン類を吸収除去する方法において、気泡塔下部ノズルからシラン類含有ガスと塩基性水溶液との気液２相流を送入することを特徴とするシラン類の除去方法。 - 特許庁

After stopping the blowing of the oxygen gas, the lance 6 is ascended while blowing out the inert gas and at the time when the distal end part reaches the emergency ascending waiting position F, the ball valve 3 is rotated to the phase for closing the penetrating hole 1b and also, the blowing-out of the inert gas is stopped.例文帳に追加

一方、酸素ガスを吹き出しを中止した後、不活性ガスを吹き出しながらランス６を上昇し、その先端が非常上昇待機位置Ｆに到達したところで、ボール弁３を貫通孔１ｂが閉塞される位相に回転すると共に、不活性ガスを吹き出しを停止する。 - 特許庁

In the method for growing the gallium nitride single crystal in a vapor phase by supplying a gas containing a gallium source and a gas containing a nitrogen source, the single crystal is grown in the (000-1) direction at a partial pressure of the gallium source of ≤3×10^-4 atm and at a growth temperature of ≥950°C in the presence of hydrogen gas.例文帳に追加

反応容器内にガリウム源含有ガスと窒素源含有ガスとを供給し、窒化ガリウム単結晶を気相成長させる方法であって、水素ガス存在下、ガリウム源の分圧を３×１０^−４ａｔｍ以下、成長温度９５０℃以上とし、〈０００−１〉方向に成長させる。 - 特許庁

The method for forming the refractory metal nitride film, in which the refractory metal nitride film is formed according to a chemical vapor phase deposition method by using a source gas and a reduction gas containing a refractory metallic alkyl amino compound, comprises a step of activating the reduction gas.例文帳に追加

高融点金属のアルキルアミノ化合物を含むソースガスと還元性ガスとを使用して半導体基板上に化学気相成長法により高融点金属窒化膜を形成する高融点金属窒化膜の形成方法であって、還元性ガスを活性化する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Gas-liquid two-phase fluid made of gas-liquid mixture is rotated at a rate of 20,000 to 40,000 rpm, as the result, strong electrostatic friction is caused at the interface between gas and liquid, thereby, electrostatic polarization of water is generated and, accordingly, a large amount of hydrogen ions and hydroxy ions are produced in the liquid.例文帳に追加

気体と液体との混合液よりなる気液二相流体を、毎分２０，０００〜４０，０００回転させて、気体と液体の界面で強力な静電摩擦を引き起こし、それによって水の静電分極を生起させ、液中に水素イオンと水酸イオンを大量に発生させる。 - 特許庁

A vapor-phase growth apparatus comprises a susceptor for mounting a substrate thereon, a heater for heating the substrate, a raw material gas introduction portion for supplying a raw material gas to the substrate and a reaction gas exhaust portion, wherein a light transmitting ceramics plate held or reinforced by means of a supporting member is equipped between the heater and a mounting position of the substrate.例文帳に追加

基板を載置するサセプタ、基板を加熱するヒータ、基板に原料ガスを供給する原料ガス導入部、及び反応ガス排出部を有し、ヒータと基板の載置位置の間に、支持部材により保持または補強された光透過性セラミックス板を備えてなる気相成長装置とする。 - 特許庁

In this vapor phase deposition device, a space is provided between the contact surfaces of a shower head and a shower plate, and thereby, a gas passed through the gas discharge holes passes the space, and is discharged from plate holes provided at positions shifted from the gas discharge holes.例文帳に追加

本発明の気相成長装置は、上記課題を解決するために、シャワーヘッドとシャワープレートとの接面の間に空間を設けることにより、ガス吐出孔を通過したガスが空間を通り、ガス吐出孔とずれた位置に設けられたプレート孔から吐出することを特徴としている。 - 特許庁

A liquid phase growing device 1 has a reaction pipe 3, a gas supply part 2 for making a process gas containing an impurity flow out into a growth reaction chamber 9 and a buffle 4 formed with a hole 10 for regulating the flow rate of the process gas G in the growth reaction chamber 9.例文帳に追加

本発明の液相成長装置１は、反応管３と、不純物を含むプロセスガスＧを成長反応室９内に流出させるガス供給部２と、プロセスガスＧの成長反応室９内における流量を規制する通口１０が形成されているバッフル４とを有する。 - 特許庁

As such constitution, the residual liquefied gas recovery system can be simplified, because it can recover the residual liquefied gas 31 of the liquid phase that is accumulated in the container 22 regarded as the recovery object of the residual liquefied gas without using a conventional complicated piping, valve, compressor etc.例文帳に追加

このような構成により、従来のように複雑な配管や弁、コンプレッサなどを用いずに、残留液化ガスの回収対象となる容器２２内に溜まった液相の残留液化ガス３１を回収できるため、残留液化ガス回収装置の構成を簡素化できる。 - 特許庁

To provide a method for operating a blast furnace, with which even under increased the production in the blast furnace, the gas-phase S concentration in the blast furnace gas can effectively be reduced and the severe waste gas emission standards imposed on the iron-making works near the city can surely be met, without increasing nor extending desulfurizing equipment.例文帳に追加

高炉の増産下においても、脱硫設備の増強・増設を行うことなく、都市近郊の製鉄所に課されている厳しい排ガス排出基準をも確実にクリアできる、高炉ガス中の気相Ｓ濃度を効果的に低減しうる高炉操業方法を提供する。 - 特許庁

A first fuel gas flow channel 36 of a first metal separator 14, a first oxidant gas flow channel 50 of a second metal separator 18 and a second fuel gas flow channel 58 of the second metal separator 18, structuring each power generation unit 12, are set in the same phase with each other along a lamination direction.例文帳に追加

各発電ユニット１２を構成する第１金属セパレータ１４の第１燃料ガス流路３６、第２金属セパレータ１８の第１酸化剤ガス流路５０及び前記第２金属セパレータ１８の第２燃料ガス流路５８は、積層方向に沿って互いに同一の位相に設定されている。 - 特許庁

In the line washing method, gas is supplied inside the line 10 from gas piping 40 connected to the line 10, a washing liquid is supplied inside the line 10 to generate a gas-liquid two-phase flow, and the inside of the line is washed by using the flow.例文帳に追加

そしてライン洗浄方法は、ライン１０に接続した気体配管４０からライン１０の内部に気体を供給するとともに、ライン１０の内部に洗浄用液体を供給して気液二相流を生成し、これを用いてライン１０の内部を洗浄している。 - 特許庁

As a result, direct mixing of the first gas containing silicon compound, and the second gas containing a metal in the silicificated nitrided metal in gas phase can be prevented whereby the generation of particles can be prevented, and the barrier film 7 consisting of TaSiN with good coverage can be formed.例文帳に追加

その結果、シリコン化合物を含む第１のガスとケイ化窒化金属膜中の金属を含む第２のガスとが気相中で直接混合されるのを防ぐことが出来るため、パーティクルの発生を防ぎ、カバレッジのＴａＳｉＮからなるバリア膜７を形成することが出来る。 - 特許庁

In the vapor phase growth method for epitaxially growing a group III-V compound semiconductor layer on a substrate in a vapor phase growth device by the hydride vapor phase growth method, gas etching is performed in the vapor phase growth device by interrupting the epitaxial growth at least once in the way of epitaxial growth of the group III-V compound semiconductor layer.例文帳に追加

気相成長装置内で基板上に、ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体層をハイドライド気相成長法によってエピタキシャル成長させる気相成長方法であって、前記ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体層のエピタキシャル成長途中に、少なくとも１回該エピタキシャル成長を中断して前記気相成長装置内のガスエッチングを行うことを特徴とする気相成長方法。 - 特許庁

In the method of cooling a reaction gas containing (meth)acrylic acid and/or (meth)acrolein by introducing a washing gas and/or a washing solution into the reaction gas inlet of a cooling column in introducing the reaction gas obtained by catalytic gas phase reaction into the cooling column to cool it, the frequency of introducing the washing gas and/or washing solution is once per 30 minutes to once per day.例文帳に追加

接触気相酸化反応によって得られた（メタ）アクリル酸又は／かつ（メタ）アクロレインを含む反応ガスを冷却塔に導入して冷却する際に、該冷却塔の反応ガス入口部に洗浄ガス又は／及び洗浄液を導入する方法であって、該洗浄ガス又は／及び洗浄液の導入頻度が１回／３０秒〜１回／１日であることを特徴とする（メタ）アクリル酸又は／かつ（メタ）アクロレインを含む反応ガスの冷却方法。 - 特許庁

By dissolving gas in a molten metal by the use of hydrogen gas or nitrogen gas and argon gas or helium gas in a heating chamber 1 having a pressure control system, a solidification regulation chamber 22, and a solidification chamber 2 or 30 and precipitating the gas within a solid phase, a prescribed directional porous structure is manufactured or a prescribed sheet-like or bar- shaped porous structure by continuous casting is manufactured.例文帳に追加

圧力制御システムを有する加熱室１、凝固調整室２２及び凝固室２或いは３０の内部で水素ガス或いは窒素ガス及びアルゴンガス或いはヘリウムガスを用いて、溶融金属中にガスを溶解して、凝固させる時に、該ガスを固相内に析出させることによって、所定の方向性ポーラス構造体を作製し、或いは連続鋳造による所定の板状及び棒状のポーラス構造体を作製する。 - 特許庁

The vapor phase apparatus 100 comprises a reaction tube 101, a substrate holder 103 provided in the reaction tube 101, a group III material gas supply 119 to supply a group III material gas to the reaction tube 101, a nitrogen material gas supply 117 to supply a nitrogen material gas to the reaction tube 101, and a doping gas supply tube 105 to supply a doping gas to the reaction tube 101.例文帳に追加

反応管１０１と、反応管１０１内に設けられている基板ホルダ１０３と、ＩＩＩ族原料ガスを反応管１０１内に供給するＩＩＩ族原料ガス供給部１１９と、窒素原料ガスを反応管１０１内に供給する窒素原料ガス供給部１１７と、ドーピングガスを反応管１０１内に供給するドーピングガス供給管１０５と、を備える気相成長装置１００を提供する。 - 特許庁

To provide a microelectrode for measuring electrochemical characteristics of a half-cell reaction while an electrode potential is provied in a liquid phase, a gas phase or a solid phase by forming a half cell of a membrane and electrode structure (MEA) in which an electrolyte film and an electrode membrane are integrally formed by a simple operation.例文帳に追加

本発明の課題は、簡便な操作で電解質膜と電極薄膜を一体成形した膜−電極構造体（ＭＥＡ）のハーフセルを形成し、液相または気相、固相において電極電位を規定しながら半電池反応の電気化学特性が計測できるマイクロ電極を提供することにある。 - 特許庁

In this method for producing an acid chloride by chlorinating an organic acid with thionyl chloride in the presence of an organic solvent under a non-reflux condition, the method for producing the acid chloride is characterized in that an inert gas for the reaction is introduced to a liquid-phase part or a vapor-phase part or the vapor-phase part is depressurized.例文帳に追加

有機溶媒の存在下に非還流条件で、有機酸と塩化チオニルをクロル化反応させて酸クロル化物を製造する方法であって、反応に不活性なガスを液相部又は気相部に導入するか、或いは、気相部を減圧にすることを特徴とする酸クロル化物の製造方法。 - 特許庁

In order to collect and burn particulates contained in exhaust gas with the filter 3 fitted on a housing 1, this diesel particulate filter device is supplied with three-phase AC from a generator 7 to the three-phase load 20, which constitutes the heater fitted on the filter 3, using a three-phase AC apparatus 30.例文帳に追加

このディーゼルパティキュレートフィルタ装置は，ハウジング１内に配置されたフィルタ３によって排気ガス中に含まれるパティキュレート物質を捕集して加熱焼却するため，発電機７からの三相交流をフィルタ３に設けたヒータを構成する三相負荷２０に三相交流装置３０によって供給する。 - 特許庁

The waste heat recovery device 1 includes an engine body 3 having a water jacket 4 in which a coolant evaporated by absorbing exhaust heat passes through the water jacket 4, a unit 5 separating the coolant discharged from the water jacket 4 to a gas phase coolant and a liquid phase coolant by a centrifugal force of a rotating separator, and a turbine 7 recovering energy from the gas phase coolant separated by the unit 5.例文帳に追加

廃熱回収装置１は、ウォータジャケット４内を通過する、廃熱を吸収して蒸気化する冷媒が通過するウォータジャケット４を内部に形成したエンジン本体３と、ウォータジャケット４から排出される冷媒を、回転する分離器の遠心力により気相冷媒と液相冷媒とに分離するユニット５と、ユニット５により分離された気相冷媒からエネルギーを回収するタービン７とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a halftone phase shift mask includes steps of forming the MoSi halftone phase shift film having a film thickness giving the phase difference of ≤135° on the quartz glass substrate by reactive sputtering and etching the quartz glass substrate using a chromium film as a mask by dry etching by magnetic neutral line discharge plasma with addition of a gas having an effect of protecting a side wall to the process gas.例文帳に追加

また、本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクの製造法は、石英ガラス基板上に、反応性スパッタリング法によりＭｏＳｉ系のハーフトーン位相シフト膜を位相差が１３５°以下となるような膜厚に成膜し、続いてクロム膜をマスクとして、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングによりプロセスガスに側壁保護効果をもつガスを添加して、石英ガラス基板をエッチング処理することから成る。 - 特許庁

In the gas turbine equipment having a compressor 2 for compressing air, a combustor 4 for burning the mixture of compressed air and fuel, a turbine 1 driven by combustion gas generated in the combustor, and a water heater 6 for heating liquid phase water by turbine exhaust gas, a water atomizing device 7 for atomizing cooling water in the exhaust gas introduced to the water heater is provided.例文帳に追加

空気を圧縮する圧縮機２と、圧縮空気と燃料とを燃焼させる燃焼器４と、燃焼器で発生した燃焼ガスによって駆動されるタービン１と、タービン排ガスにより液相の水を加熱する温水器６とを備えたガスタービン設備において、温水器に導かれる排ガスに冷却水を噴霧する噴霧水装置７を設ける。 - 特許庁

An insulator layer 11 is formed on a substrate 10 by supplying group III raw materials, a carrier gas and an oxygen gas into a reaction furnace, and afterwards, vapor phase growing of a III-V compound semiconductor layer is conducted by heating this substrate 10 and supplying the group III raw a materials, a group V raw material gas, doping raw materials and the carrier gas onto the insulator layer 11.例文帳に追加

反応炉内に III族原料とキャリアガスと酸素ガスとを供給して基板１０上に絶縁体層１１を形成した後、この基板１０を加熱し、絶縁体層１１上に III族原料及びＶ族原料ガスとドーピング原料とキャリアガスとを供給してIII-Ｖ族化合物半導体層を気相成長させる。 - 特許庁

To provide a gas chamber material of a gas diffusion electrode which is capable of using a shape memory alloy to perform the specified phase transition by the temperature as the gas chamber material, unnecessary for compression during the assembly, easy in assembly when many stacks are laminated, easy to obtain the firm pressing pressure during the operation, and capable of surely achieving the energization between a gas diffusion electrode and a frame.例文帳に追加

温度によって特定の相変態をする形状記憶合金をガス室材として使用して、組立時に圧縮する必要がなく、多くのスタックを重ねる場合も組立てが容易であり、しかも運転時には強固な押し付け圧が得やすく、ガス拡散電極とフレームの間の通電を確実に行えるガス拡散電極のガス室材を提供する。 - 特許庁

The production method is that a container filled with carbon black pellet is set in a heating furnace, a hydrocarbon gas and a carrier gas are fed, at this time, the density of the gas is set at 5-15 vol.%, heating temperature is kept in the rage of 1000 to 1200°C to vapor deposit thermal decomposition carbon on the surface of the carbon black by gaseous phase reaction of hydrocarbon gas.例文帳に追加

製造方法はカーボンブラックペレットを容器内に充填して加熱炉にセットし、炭化水素ガス及びキャリアガスを送入し、炭化水素ガスの濃度を５〜１５容量％、加熱温度を１０００〜１２００℃の範囲に設定して炭化水素ガスを気相反応により熱分解して、カーボンブラックの表層部に熱分解炭素を析出沈着させる。 - 特許庁

Thereafter, the carrier gas is switched from a hydrogen gas to an argon gas that is one of noble gases and a semiconductor layer 14 made of InGaN with a film thickness of 100 nm is formed on the upper surface of the underlying layer 13 by providing the TMG and TMI for one hour with the TMI/TMG gas phase ratio of 0.9 and V/III compound supplying mole ratio of 10,000.例文帳に追加

その後、キャリアガスを水素ガスから希ガスであるアルゴンガスに切り替え、ＴＭＧとＴＭＩとをＴＭＩのＴＭＧに対する気相比が０．９で、Ｖ族／III 族供給モル比が１００００として１時間供給することにより、下地層１３の上面にＩｎＧａＮからなり、膜厚が１００ｎｍの半導体層１４を成長させる。 - 特許庁

The group of particulates introduced into the chamber 15 flows with the carrier gas 32 in the chamber 15 and is heat-treated at a specific temperature and for a specific time with an electric heater 16 while dispersed in oxygen atmosphere (gas phase).例文帳に追加

容器１５に導入された粒子群は、容器１５内にてキャリアガス３２とともに流れ、酸素雰囲気（気相）中で分散状態に保持されたまま電気ヒータ１６により所定の温度で所定の時間だけ熱処理が施される。 - 特許庁

This method comprises the steps of polymerizing the (meth)acrylic monomer or a mixture thereof in an aqueous medium, and while stirring the obtained aqueous dispersion in a container, distributing a gas to the gas phase in the container at the liquid temperature of 40-100°C.例文帳に追加

（メタ）アクリル系単量体又はその混合物を水系媒体中で重合して得られた水性分散液を容器中で撹拌しながら、液温４０〜１００℃にて、この容器の気相部に気体を流通させる。 - 特許庁

To provide a material for cleaning a gas phase environment which can remove or reduce high temperature and high concentration NOx, PM or the like contained in flue gas from a large size combustion apparatus using a fossil fuel as an energy source; and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

化石燃料をエネルギー源とする大型燃焼装置からの排煙中に含まれる高温度・高濃度のＮＯｘやＰＭ等を除去・低減し得る気相環境浄化材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, contact area with air flow blowing up into the packaged chamber 3 by air blowing from an air blower 14 is made large, and the inflammable natural gas is transferred to a gas phase and exhausted from an exhaust port 7 through an exhaust pipe 8 together with air.例文帳に追加

そのため、送風機１４からの送風により充填室３に吹き上がる空気流との接触面が多くなり、可燃性天然ガスは気相中に移行され、空気とともに排気口７から排気管８を経て排出される。 - 特許庁

To provide a vapor phase growth apparatus and method without the filling of the gas ejecting hole of a shower plate by a reaction of a gas on the shower plate by flowing a coolant over the whole region of the shower plate.例文帳に追加

冷媒をシャワープレートの全域に流れるようにすることにより、ガスのシャワープレートでの反応によるシャワープレートにおけるガス吐出孔の目詰まりを回避し得る気相成長装置及び気相成長方法を提供する。 - 特許庁

The temperature of a polymerization system 4 in polymerization gelation reaction of a monomer mixture is kept within 65-95°C and the temperature difference between the surface temperature of the polymerization system 4 and the gas temperature of a gas phase is controlled within 0.1-70°C based on absolute value.例文帳に追加

単量体混合物の重合ゲル化反応中の重合系４の温度を６５〜９５℃に保ち、上記重合系４の表面温度と気相部ガス温度との温度差を絶対値で０．１〜７０℃以内に制御する。 - 特許庁

To solve a problem on degradation of operation efficiency when a load medium of high temperature is heated, as a refrigerant state at an outlet of a radiator is gas, and a gas-liquid two phase refrigerant can not be prepared even when the refrigerant is decompressed, a function of a heat pump can not be exerted.例文帳に追加

高温の負荷媒体を加熱する場合、放熱器出口の冷媒状態がガスとなり、その冷媒を減圧しても気液二相冷媒とならないため、ヒートポンプの機能を実現することができず、運転効率が低下する。 - 特許庁

To provide a method for producing an unsaturated aldehyde and an unsaturated carboxylic acid in high yield by catalytically oxidizing an olefin with a molecular oxygen-containing gas in a gas phase, stable for a long time by dissolving problems caused by hot spots.例文帳に追加

オレフィンを分子状酸素含有ガスにより気相接触酸化し不飽和アルデヒド不飽和カルボン酸を製造するにあたり、ホットスポットに起因する問題を解決し、長期にわたり安定した、かつ高収率な製造方法の提供。 - 特許庁

In a testing apparatus 10 for simulating the flow phenomenon of the vapor-liquid two-phase flow where droplets are dispersed in an air flow, a gas of sulfur hexafluoride is used as the air flow and alcohol, sprayed into the gas of sulfur hexafluoride as the droplets.例文帳に追加

気流中に液滴を分散させた気液二相流の流動現象を模擬するための試験装置１０において、気流として６フッ化硫黄ガスを用い、液滴として６フッ化硫黄ガス中に噴霧したアルコールを用いた。 - 特許庁

This method for reducing propionic acid in an acrylic acid mixture gas obtained by oxidizing propylene and/or propane as raw material gases in a gaseous phase comprises thermally treating the acrylic acid mixture gas in the presence of a composite oxide containing molybdenum and at least one of iron, cobalt and nickel.例文帳に追加

原料ガスとしてプロピレン及び／又はプロパンの気相酸化により得られるアクリル酸混合ガスを、モリブデンと鉄、コバルト及びニッケルのうち少なくとも一種とを含有する複合酸化物の存在下、熱処理する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently carrying out a vapor-phase dehydration reaction by bringing the starting gas into contact with a solid oxide catalyst including an alkali element, as the starting gas and the objective product are inhibited from being decomposed.例文帳に追加

原料ガスをアルカリ金属元素を含有する固体酸化物触媒に接触させることから成る気相脱水反応を、原料および目的生成物の分解を抑制して効率よく行なう方法を提供するものである。 - 特許庁

The hydrogen storing means is equipped with a purge gas retention tank 14 in which a gas phase part is connected to the hydrogen supply piping 55 between the reformer 30 and the reformer outlet shutoff valve 5, and stores hydrogen formed by the reformer 30.例文帳に追加

水素貯蔵手段は、改質装置３０と改質装置出口遮断弁５との間で水素供給配管５５に気相が接続されたパージガス滞留タンク１４を備えて、改質装置３０が生成した水素を貯える。 - 特許庁

To provide a method of producing acrolein and/or acrylic acid by the gas-phase catalytic oxidation of a propylene-containing gas, capable of stably producing acrolein and/or acrylic acid at a high yield for a long period of time.例文帳に追加

プロピレン含有ガスを接触気相酸化してアクロレインおよび／またはアクリル酸を製造する方法において、高収率で長期間にわたって安定してアクロレインおよび／またはアクリル酸を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-tubular reactor for gas-phase catalytic reaction capable of maintaining the life of a catalyst and inhibiting corrosion or failure of a reaction tube by an elevated temperature, and which can be suitably used particularly in the production of chlorine gas.例文帳に追加

触媒の寿命を維持し、高温による反応管の腐食または破損を防止することが可能で、特に塩素ガスの製造において好適に用いられる接触気相反応用多管式反応装置を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the titanium oxide powder by reacting titanium tetrachloride gas, gaseous oxygen, gaseous hydrogen and steam with each other under a gas phase, the quantity of steam to be supplied is controlled to be equal to or above chemical equivalent to oxidize all titanium tetrachloride.例文帳に追加

四塩化チタンガス、酸素ガス、水素ガス及び水蒸気を気相状態下で反応させ酸化チタン粉末を製造する方法において、水蒸気の供給量を、四塩化チタンをすべて酸化する化学当量以上する。 - 特許庁