「HＦ」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The circuit 18 successively moves the lens 10 stepwise by a driving circuit 26 and a focus motor 22 so that the signal Hf may be a peak within the focus range set by the circuit 20.例文帳に追加

制御回路１８は、回路２０により設定されたフォーカス範囲内で、信号Ｈｆがピークになるように、駆動回路２６及びフォーカスモータ２２によりフォーカスレンズ１０を逐次的にステップ移動させる。 - 特許庁

The first and second maps are compared with each other, and defects occupying the same coordinates in both maps and are larger in the second map than in the first map only are judged to be HF defects.例文帳に追加

第１，第２のマップを対比して、同一座標で、第２の測定時の大きさが第１の測定時より大きい欠陥だけをＨＦ欠陥と判定する。 - 特許庁

The metallic oxide is an oxide of Zr, Mo, Ti, Si, Ta, Hf, V, Nb, or W, and exists on the surface of the lithium composite oxide.例文帳に追加

金属酸化物は、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ又はＷの酸化物であり、リチウム複合酸化物の表面上に存在している。 - 特許庁

The ion sensitive film 3 is characterized by including a porphyrin complex including at least one kind of metal selected from a group comprising Zr, Hf, Ti and V as a center metal, or a derivative from the complex.例文帳に追加

イオン感応膜３がＺｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｖよりなる群から選ばれた少なくとも一種の金属を中心金属として含むポルフィリン錯体、又はこの錯体の誘導体を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The grain oriented electrical steel sheet includes a film on the surface of a steel sheet, the film containing at least one compound selected from a Ti compound, a Zr compound and a Hf compound in addition to a phosphate and silica.例文帳に追加

鋼板表面に、リン酸塩、シリカ以外に、Ｔｉ化合物、Ｚｒ化合物、Ｈｆ化合物のうちの少なくともひとつの化合物を含む被膜を有することを特徴とする方向性電磁鋼板。 - 特許庁

A line segment foot from the gravitational center H of a connector 156 vertically down to the rotary shaft of a brushless motor 110 is set as a point F to define a line segment HF.例文帳に追加

コネクタ１５６の重心Ｈからブラシレスモータ１１０の回転軸へ垂直におろした線分の足を点Ｆとし、線分ＨＦを定義する。 - 特許庁

The insertion layer includes at least one magnetic element selected from among Fe, Co and Ni and includes at least one non-magnetic element selected from among Ta, Ti, W, Zr, Hf, Nb, Mo, V, Mg, and Cr.例文帳に追加

挿入層は、Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉから選択される少なくとも一種の磁性元素と、Ｔａ，Ｔｉ，Ｗ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｖ，ＭｇおよびＣｒから選択される少なくとも一種の非磁性元素とを含む。 - 特許庁

In such a decomposition step, the temperature of the silicon oxide film and a partial pressure of the hydrogen-fluoride gas HF in the blended gas are adjusted, according to the type of silicon oxide film.例文帳に追加

かかる変質工程において，シリコン酸化膜の種類に応じて，シリコン酸化膜の温度，及び，混合ガス中のフッ化水素ガスＨＦの分圧を調節するようにした。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of lowering the threshold voltage of a MOS transistor including a gate insulating film including Hf and a metal silicide gate electrode.例文帳に追加

Ｈｆを含むゲート絶縁膜とメタルシリサイドゲート電極とを含むＭＯＳトランジスタのしきい値電圧を下げられる半導体装置を提供すること。 - 特許庁

When the degree of change of DIA is small with respect to the sympathetic nerve activity index (LF/HF), it is determined that the sclerosis phenomenon occurs in the aorta.例文帳に追加

最低血圧（ＤＩＡ）の交感神経活動度指標（ＬＦ／ＨＦ）に対する変化の度合いが小さい場合には、大動脈において硬化現象がおきていると判定する。 - 特許庁

By restraining infusion of water into the process, dry F_2 and HF can be recollected and purification and reutilization can be performed in simpler way.例文帳に追加

工程内への水の混入を回避することにより乾燥したＦ_２やＨＦを回収できるため、精製や再利用を簡便な方法で行なうことができる。 - 特許庁

SCC02 is supplied with a washing composition composed of a washing component consisting of hydrogen fluoride (HF) and ammonium fluoride (NH_4F), methanol (a first solvent) and pure water; and a treatment fluid is prepared.例文帳に追加

フッ化水素（ＨＦ）とフッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ）からなる洗浄成分と、メタノール（第１溶剤）と、純水とからなる洗浄組成物がＳＣＣＯ2に供給されて処理流体が調製される。 - 特許庁

A silicon oxynitride film 4 as a lower interface film 4 is formed on a silicon substrate 1, and an Hf aluminate film is formed as a high dielectric-constant gate electrode 5 on the silicon oxynitride film 4.例文帳に追加

シリコン基板１上に下部界面層４としてのシリコン酸窒化膜４を形成し、その上に高誘電率ゲート電極５としてのＨｆアルミネート膜を形成する。 - 特許庁

When at least one element selected from Si, Zr, Al, W, Mo, Mg, Hf and B is contained in titanium oxide, the activity of the visible light-responsive photocatalyst is promoted much more by the bismuth compound.例文帳に追加

酸化チタンがＳｉ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｗ，Ｍｏ，Ｍｇ，Ｈｆ，Ｂから選ばれる少なくとも１種の元素を含有すると、Ｂｉ化合物による可視光応答光触媒活性の増進効果が一層高まる。 - 特許庁

The catalyst for purifying exhaust gas includes at least one or more carriers of ZrO_2, CeO_2, Al_2O_3, SiO_2, and TiO_2, and alloyed Pd and Hf, and has a catalyst material carried by the carrier.例文帳に追加

排ガス浄化用触媒は、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、およびＴｉＯ_２の少なくとも一種以上を含む担体と、合金化されたＰｄおよびＨｆを含み、前記担体に担持された触媒材料と、を有する。 - 特許庁

Further, a deionized water treatment process (treatment S24) for cleaning the semiconductor substrate with deionized water is provided between the HF treatment process (treatment S23) and the ozone treatment process (treatment S25).例文帳に追加

そして、ＨＦ処理工程（処理Ｓ２３）とオゾン処理工程（処理Ｓ２５）との間に、半導体基板を純水で洗浄処理する純水処理工程（処理Ｓ２４）を備える。 - 特許庁

In the present invention, the surface of the amorphous silicon film is oxidized after the substrate has been cleaned by rare HF and before a laser anneal processing, and a natural oxide film is formed.例文帳に追加

ここで本発明では、希ＨＦで基板が洗浄された後、且つ、レーザアニール処理の前に、アモルファスシリコン膜の表面を酸化させ、自然酸化膜を形成する。 - 特許庁

The silicon oxide film 3a has a function as a protection film for blocking the reaction of Hf contained in the HfSiO film 2a and the silicon contained in the gate electrode 5a.例文帳に追加

シリコン酸化膜３ａは、ＨｆＳｉＯ膜２ａが含有するＨｆとゲート電極５ａが含有するシリコンとの反応を阻止する保護膜としての機能を有している。 - 特許庁

To provide a lithium secondary battery, in which the deterioration of nonaqueous electrolyte is restrained by suppressing the effect of H2O and HF in the nonaqueous electrolyte and the cycle characteristics is improved.例文帳に追加

非水液電解液中のＨ_2Ｏ、ＨＦの影響を抑えることで、非水電解液の劣化を抑制し、サイクル特性を改善したリチウム二次電池を提供する。 - 特許庁

If a plasma is generated in the mixed gas, fluorine active species (HF and SiF4) are generated, enabling etching with an insulating film 32.例文帳に追加

このような混合ガス中でプラズマを発生させれば、フッ素系活性種（ＨＦとＳｉＦ_4）が生成され、これにより絶縁膜３２のエッチングを行うことが可能になる。 - 特許庁

The substrate and a fluorinating agent such as an HF-base complex are reacted in the presence of, optionally, a reactant under irradiation with microwaves and/or electromagnetic radiations near microwaves.例文帳に追加

基質と例えばＨＦ−塩基錯体のようなフッ素化剤を、必要に応じて反応剤を共存させ、マイクロ波及び／又はマイクロ波近傍の電磁波照射下に反応させる。 - 特許庁

To prevent an originally black straight line from being converted into a half tone, when such a half tone font HF that each bit has a gradation is generated from an outline font.例文帳に追加

アウトラインフォントから各ビットが階調を持つハーフトーンフォントＨＦを生成するとき、元々黒色の直線がハーフトーンに変換されてしまうのを防止する。 - 特許庁

To provide a method for producing an oxide from a fluoride enabling to make recovery and reutilization of generated F_2 and HF easy and to reduce corrosion in an apparatus.例文帳に追加

フッ化物から酸化物を製造する工程において、発生するＦ_２やＨＦの回収と再利用を容易にし、装置内の腐食を低減する酸化物製造方法を提供する。 - 特許庁

The second conversion stage (2) receives the up-converted signals and converts them with mutually antiphase carrier signals at a second intermediate frequency (IF2) to output a higher frequency signal (HF_-M).例文帳に追加

第２コンバージョン段（２）ではさらに、前記アップコンバートされた信号を受信し、第２中間周波数（ＩＦ２）の互いに逆位相の搬送信号によって変換し、高い周波数の信号（ＨＦ＿Ｍ）を出力する。 - 特許庁

The raw material metal 20 is added with rare earth metals and at least one kind of element selected from Ti, Zr and Hf of 0.05 to 0.5 wt.% in the total content.例文帳に追加

原料金属２０に、含有量の和が０．０５〜０．５重量％の希土類金属およびＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆから選択された少なくとも１種類の元素が添加される。 - 特許庁

This configuration prevents oxygen from being diffused into the Hf-containing insulating film 5 and the principal surface of a semiconductor substrate 1 from the threshold adjusting layer 8a and the threshold adjusting layer 8b.例文帳に追加

これにより、しきい値調整層８ａおよびしきい値調整層８ｂからＨｆ含有絶縁膜５および半導体基板１の主面に酸素が拡散することを防ぐ。 - 特許庁

The polysilicon fragments are added to an aqueous cleaning solution containing HF and H_2O_2, the aqueous cleaning solution is removed and the polysilicon fragments thereby obtained are washed with highly pure water and subsequently dried.例文帳に追加

ポリシリコン破砕物を、ＨＦ及びＨ_2Ｏ_2を有する水性清浄化溶液中に入れ、前記水性清浄化溶液を除去し、こうして得られたポリシリコン破砕物を高純度の水で洗浄し、引き続き乾燥させる。 - 特許庁

To provide a secondary battery that restrains degradation of nonaqueous electrolyte by suppressing the effect of HF in the nonaqueous electrolyte and improves cycle characteristics.例文帳に追加

非水液電解液中のＨＦの影響を抑えることで、非水電解液の劣化を抑制し、サイクル特性を改善したリチウム二次電池を提供する。 - 特許庁

By this method, sputtering becomes possible over a wide range on a copper spacer layer for realizing a desirable ferromagnetic coupled magnetic field (HF) between the pinned layers and free layers in a spin valve sensor.例文帳に追加

この方法により、スピン・バルブ・センサにおけるピンド層構造とフリー層構造との間に望ましい強磁性結合磁界（ＨＦ）を実現するための、銅スペーサ層のより広範囲な付着時間が可能になる。 - 特許庁

A surface side of a built-in film 102 formed on a semiconductor substrate 100 is covered by a protection film 154 of a material having resistance against rare HF.例文帳に追加

半導体基板１００に形成された埋め込み絶縁膜１０２の表面側を、希ＨＦに対して耐性を有する材料の保護膜１５４で覆う。 - 特許庁

An air gap 4 is formed in the vicinity of the sacrificial layer 3 and the barrier layer by etching the local oxide part 7 with vapor HF and etching the sacrificial layer 3.例文帳に追加

局所酸化部７を蒸気ＨＦでエッチングし、更に、犠牲層３をエッチングして、犠牲層３とバリア層の界面近傍にエアーギャップ４を形成する。 - 特許庁

To make exhaust gas containing HF and SOx harmless by a dry process, the exhaust gas being formed when decomposing PFC (Perfluoro Compound) discharged from a factory for manufacturing semiconductors or liquid crystals.例文帳に追加

半導体や液晶製造工場から排出されるＰＦＣを分解したとき等に生成するＨＦ及びＳＯｘ含有排ガスを、乾式法により無害化処理する。 - 特許庁

To provide a technology for manufacturing a semiconductor integrated circuit device for preventing generation of local silicon deletion(pit) in a silicon substrate at the time of oxide film etching by buffered HF liquid added with surface active agent.例文帳に追加

界面活性剤が添加されたバッファドＨＦ液で酸化膜エッチングを行う時、シリコン基板に局所的なシリコンの削れ（ピット）が生じない半導体集積回路装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

Subsequently a simple matrix substrate 20 is obtained by etching and removing the glass substrate 201 with an etchant (acid), for example a mixture of HF and HNO3 in 1:20 ratio.例文帳に追加

その後、ガラス基板２０１を、たとえば、ＨＦとＨＮＯ_3とを１：２０の割合で混合したエッチャント（酸）でエッチングして除去することで、単純マトリクス基板２０を得る。 - 特許庁

The electrolysis installation 200 includes a container 201 housing an electrolyte 202 such as a hydrofluoric acid (HF) solution, in which a cathode 203 and an anode 204 are disposed.例文帳に追加

電気分解装置２００は電解質２０２、例えばフッ化水素酸（ＨＦ）溶液を収容し、陰極２０３と陽極２０４が配置された容器２０１を有する。 - 特許庁

A fluorine-based material gas containing CF_4, Ar and H_2O is introduced into a plasma space 13 close to or below an atmospheric pressure to generate a fluorine-based reactive gas containing HF.例文帳に追加

ＣＦ_４とＡｒとＨ_２Ｏを含むフッ素系原料ガスを大気圧近傍下のプラズマ空間１３に導入して、ＨＦを含むフッ素系反応ガスを生成する。 - 特許庁

The first high dielectric constant film 111 and the second high dielectric constant film 112 include one or two or more elements selected from among a group consisting of Hf and Zr.例文帳に追加

第一の高誘電率膜１１１および第二の高誘電率膜１１２は、ＨｆおよびＺｒからなる群から選択される一または二以上の元素を含む。 - 特許庁

A signal processing circuit 16 generates a luminance signal Lum from an output image signal from an imaging device 14 and a signal Hf showing the level of a high frequency component in an image signal, and applies them to a control circuit 18.例文帳に追加

信号処理回路１６は、撮像素子１４の出力画像信号から輝度信号Ｌｕｍ及び画像信号中の高周波成分のレベルを表わす信号Ｈｆを生成し、制御回路１８に印加する。 - 特許庁

To optical pickup 3, high frequency current (HF) with changed amplitude is superposed on the drive current of the laser light source, and a tracking error (TE) signal is acquired by a signal processing circuit 4.例文帳に追加

光ピックアップ３に対しレーザ光源の駆動電流に振幅を変化させた高周波電流（ＨＦ）を重畳して信号処理回路４によりトラッキングエラー（ＴＥ）信号を取得する。 - 特許庁

The solid-liquid separation apparatus SP carries out polishing treatment of the glass substrate with the chemical polishing liquid containing HF and thereafter separates a solid content from its polishing treatment liquid to be automatically discharged.例文帳に追加

フッ酸を含有する研磨液でガラス基板を研磨処理した後、その研磨処理液から固形分を分離して自動的に排出する固液分離装置ＳＰである。 - 特許庁

Finally, the n-type single crystal silicon substrate 1 is immersed into liquid HF thus removing the silicon oxide film 10 formed on the rear surface and each end face of the n-type single crystal silicon substrate 1.例文帳に追加

次に、ｎ型単結晶シリコン基板１を液体ＨＦに浸すことにより、ｎ型単結晶シリコン基板１の裏面および各端面に形成された酸化シリコン膜１０を除去する。 - 特許庁

To suppress the deterioration of an electrolytic solution caused by HF and alcohol or the like existing or generated in the nonaqueous electrolytic solution, and suppress the deterioration of positive and negative electrodes related to these in a nonaqueous electrolytic solution secondary battery.例文帳に追加

非水電解液二次電池において、非水電解液中に存在するあるいは発生するＨＦやアルコールなどに起因する電解液の劣化とそれに関連する正負極の劣化を効化的に抑制する。 - 特許庁

The high concentration high dielectric constant film 108b and the low concentration high dielectric constant film 108a both contain one or two metal elements selected among a group of Hf and Zr.例文帳に追加

低濃度高誘電率膜１０８ａおよび低濃度高誘電率膜１０８ａは、ＨｆおよびＺｒからなる群から選択される一または二以上の金属元素を含む。 - 特許庁

A HF transmitter 10, which carries out ASK modulation of a control signal for controlling a radio tag 30 and transmits the signal, changes a modulation factor and a transmission power temporally, and transmits the control signal.例文帳に追加

無線タグ３０を制御する制御信号をＡＳＫ変調して送信するＨＦ送信機１０は、変調度および送信電力を時間的に変化させて制御信号を送信する。 - 特許庁

The electron emitting source is an electron gun for an electron beam vapor deposition device, an electron beam welding device, or an electron beam machining device formed of carbide of one or more kinds of metal elements selected from a group composed of Ta, Hf, Nb, and Zr.例文帳に追加

本発明は、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、及びＺｒからなる群の１種以上から選ばれた金属元素の炭化物からなる、電子ビーム蒸着装置、電子ビーム溶接装置、又は電子ビーム加工装置用の電子銃である。 - 特許庁