「INTERMIXING」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide air bubble-mixed food enabling homogeneously intermixing big air bubbles and small air bubbles and stably maintaining the bubbles.例文帳に追加

本発明は、大きな気泡と小さな気泡を均一に混在させ安定的に持続させることが可能な気泡混合食品の開発を課題とする。 - 特許庁

To provide an acid transfer resin film capable of preventing intermixing, and a pattern forming method capable of forming a pattern by an existing photolithography process by using the acid transfer resin film.例文帳に追加

インターミキシングを防止できる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する - 特許庁

To provide a resin composition for producing a biochip which can form a resin composition layer preventing intermixing with other layers, and a method for producing a biochip utilizing the same.例文帳に追加

他層とのインターミキシングを防止できる樹脂組成物層を形成できるバイオチップを製造するための樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a glass for semiconductor package in which intermixing of platinum granules can be supressed, and provide a glass usable for semiconductor package of a solid-state imaging element, etc.例文帳に追加

白金ブツのガラスへの混入が抑制できる半導体パッケージ用ガラス、及び固体撮像素子等の半導体パッケージ用として有用なガラスを提供すること。 - 特許庁

To provide a gap filling material for lithography excellent in property of flattening a substrate with protrusions and recessions such as holes and trenches, causing no intermixing with a resist layer and having dry etching speed larger compared with that of the resist.例文帳に追加

ホールやトレンチなどの凹凸のある基板上の平坦化性に優れ、レジスト層とのインターミキシングが起こらず、レジストに比較して大きなドライエッチング速度を有するリソグラフィ用ギャップフィル材を提供する。 - 特許庁

This optical fiber luminescent decorative device comprises branches and leaves 2a formed by intermixing and knitting optical fibers and two-tone paper strings as shown in Figure 2, and constitutes an end part 2 by forming a large number of such branches and leaves 2a.例文帳に追加

光ファイバー発光装飾装置１は、後述する光ファイバーと水引を混在させて編み込まれた、図２に示す枝葉２ａを備え、このような枝葉２ａが多数形成されて先端部２を構成している。 - 特許庁

In the arbor growing bed 8, a continuous bag group 9 with a width of 10-30 cm comprising a plurality of bag parts 12a filled with artificial soil not intermixing seeds is placed on a base mat 6 of felt.例文帳に追加

木本生育床８では、フェルトのベースマット６の上に種子を混入させない人工土壌が装填された複数の袋部１２ａからなる１０ないし３０センチメートル幅の連袋群９が載せられる。 - 特許庁

To provide an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist layer, having a high dry etching rate compared to the photoresist and giving a wide focus depth margin.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、広いフォーカス深度マージンを与える、リソグラフィー用反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

To provide an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist, having a high dry etching rate compared to the photoresist and giving a wide focus depth margin.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、広いフォーカス深度マージンを達成できる、リソグラフィー用反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

Cooling air is directed angularly between the primary and secondary combustion zones to delay intermixing and thereby allow more complete combustion of the respective zones prior to their coalescing further downstream.例文帳に追加

冷却空気は、混合を遅らせるために１次及び２次燃焼ゾーンの間で傾斜する方向に向けられており、それによってより下流でそれぞれのゾーンが合体する前により完全な燃焼を生じる。 - 特許庁

The high surface energy of the well bottom 112 and sidewall surfaces 122 facilitates wetting of the ink drop 255, and the low surface energy of the hydrophobic layers 140 prevents intermixing of ink drop 255 between adjacent wells.例文帳に追加

表面エネルギが高いウェル底１１２や壁側面１２２がインク滴２５５を吸い寄せるのに対し、表面エネルギが低い疎水層１４０はインク滴２５５をはじくので、隣接ウェル間インク混合を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a composition for the formation of an antireflection film having a high antireflection effect, free from intermixing with a resist layer, and usable for the lithographic process using irradiation light of a F2 excimer laser (at 157 nm wavelength).例文帳に追加

反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングを起こさない、Ｆ２エキシマレーザー（波長１５７ｎｍ）の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜形成組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for the formation of an antireflection film which has a high antireflection effect, causes no intermixing with a resist layer and can be used in lithographic processes using irradiation light of ArF excimer laser (at 193 nm wavelength).例文帳に追加

反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングを起こさない、ArFエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜形成組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for formation of an antireflection film having a high antireflection effect, causing no intermixing, and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, accuracy or the like, and to provide an antireflection film formed from the composition.例文帳に追加

反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度および精度などに優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物およびそれから形成された反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlayer film which has a strong absorption for radiation with an exposure wavelength, does not cause intermixing with an upper resist film, and can be simultaneously developed with an alkali when the upper resist film is developed with an alkali.例文帳に追加

露光波長に対して強い吸収を持ち、上層のレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition forming an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a resist layer, giving an excellent resist pattern, and having a fast dry etching speed compared to the resist.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたレジストパターンが得られ、レジストに比較して大きなドライエッチング速度を有するリソグラフィー用反射防止膜を形成する組成物を提供するものである。 - 特許庁

To provide an antireflection film composition for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist layer, giving an excellent photoresist pattern, having a high dry etching rate compared to a photoresist and having excellent thermal stability.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたフォトレジストパターンが得られ、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、熱安定性に優れたリソグラフィー用反射防止膜組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film which does not cause intermixing with a photoresist layer, forms a good resist pattern even when the resist underlayer film is made thin to meet the demand for a thinner photoresist film, improves focal depth margin, and has a small extinction coefficient (k value).例文帳に追加

フォトレジスト層とのインターミキシングを起こさず、フォトレジストの薄膜化に対応してレジスト下層膜が薄膜でも良好なレジストパターンの形成、フォーカス深度マージンの向上、小さな減衰係数（ｋ値）を有するレジスト下層膜を提供する。 - 特許庁

Preferred embodiments include intermixing at least one admixture, water, and hydratable cementitious binder to provide a substantially hydrated hardened mass, and introducing particulates obtained by comminuting the hardened mass into fresh concrete.例文帳に追加

好適な態様では、少なくとも１種の混和材と水と水和性セメント系結合剤を混合することで実質的に水和して硬化した塊を生じさせ、そしてその硬化した塊を粉砕して得られた粒子を新鮮なコンクリートに導入する。 - 特許庁

A bellows type tubular sheet 9 is provided between an arm 8 of the tubular body 2 and an arm 4 of the slide tube 3, the sheet 9 extends and contracts in accordance with elevation of the slide tube 3 and foreign matter is prevented from intermixing from between the tubular body 2 and the slide tube 3.例文帳に追加

筒体２のアーム８とスライド筒３のアーム４間には蛇腹状の筒状シート９が設けられ、スライド筒３の昇降によりシート９が伸縮し、筒体２とスライド筒３との間より異物が混入するのを阻止する。 - 特許庁

Preferred systems can be thermally treated to increase hydrophilicity of the composition coating layer to inhibit undesired intermixing with an overcoated organic composition layer, while rendering the composition coating layer removable with aqueous alkaline photoresist developer.例文帳に追加

好ましい系は熱処理されて、組成物コーティング層の親水性を増大させて、オーバーコーティングされた有機組成物層との望ましくない混合を抑制し、一方、組成物コーティング層を水性アルカリ性フォトレジスト現像液で除去可能にすることができる。 - 特許庁

To provide a light absorption coating film-forming composition which meets the properties (causing no intermixing or the like) to be required for BARC (bottom antireflective coating) of a semiconductor substrate and can form a coating film having excellent light absorptivity, and simultaneously can be dissolved in various solvents.例文帳に追加

半導体基板のＢＡＲＣ用として要求される特性（インターミキシングを起こさない等）を満足すると共に、光吸収性に優れた塗膜を形成することができ、かつ、種々の溶媒に溶け得る光吸収性塗膜形成用組成物の提供。 - 特許庁

To provide an antireflection film having high reflected light absorbing effects, not causing intermixing with a photoresist, and usable in a lithographic process which uses irradiated light of ArF excimer laser, an F_2 excimer laser or the like, and to provide a composition for forming the antireflection film.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジストとのインターミキシングを起こさない、ＡｒＦエキシマレーザー及びＦ２エキシマレーザー等の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜、及び反射防止膜を形成するための組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist pattern causing no intermixing on an interface between an upper resist layer and a lower resist layer and thereby, having a favorable profile, and to provide a method for forming a resist pattern, and a method for patterning a thin film using the resist pattern, and a method for manufacturing a thin film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern which does not give rise to intermixing at the boundary between an upper layer resist layer and a lower layer resist layer and consequently has a good shape, a method of forming this resist pattern, a patterning method of a thin film by using this resist pattern and a method of manufacturing a thin-film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The fiber bundle for artificial hair is obtained by intermixing 40 pts.mass or more and 90 pts.mass or less of artificial hair fiber made of polyamide resin, and 10 pts.mass or more and 60 pts.mass or less of artificial hair fiber made of vinyl chloride resin.例文帳に追加

本発明に係る人工毛髪用繊維束は、ポリアミド樹脂で形成された人工毛髪用繊維４０質量部以上９０質量部以下と、塩化ビニル樹脂で形成された人工毛髪用繊維１０質量部以上６０質量部以下とを混在させたものである。 - 特許庁

To provide an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, free of intermixing with a photoresist layer, giving an excellent photoresist pattern, having a higher dry etching rate than the photoresist and ensuring a larger margin for the depth of a focus and higher resolution than a conventional antireflection film.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたフォトレジストパターンが得られ、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、従来より広いフォーカス深度マージン及び高い解像度を有するリソグラフィー用反射防止膜を提供するものである。 - 特許庁

To provide a top layer film forming composition for forming a top layer film that hardly causes intermixing with a photoresist film, keeps a stable film state hardly eluting in an immersion liquid, can suppress generation of a development peeling defect, and allows formation of a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングが生じ難く、液浸液に溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するための上層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a lower layer film for lithography and a composition for forming a planarizing film, both being used for a lithography process for manufacturing a semiconductor device, and to provide a lower layer film and a planarizing film that exhibit an etching rate greater than that of a photoresist and does not cause the intermixing with a photoresist.例文帳に追加

半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用される、リソグラフィー用下層膜形成組成物並びに平坦化膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさない下層膜並びに平坦化膜を提供すること。 - 特許庁

In addition, the present invention introduces fresh or make-up resin in a manner that assures intimate and thorough intermixing of the new and recycled resin while minimizing the cost and complexity of the equipment employed for that purpose.例文帳に追加

更に、本発明は、その目的のために使用される設備のコストおよび複雑さを最小限に抑える一方、新しい樹脂およびリサイクルされた樹脂を緊密にかつ完全に混合することを保証するような方法を採用して、新しく新鮮な樹脂または調合した樹脂を補充する。 - 特許庁

To provide an antireflection film material that prevents intermixing in the vicinity of an interface of an antireflection film and a photoresist film and provides a resist pattern with an almost vertical wall profile on the antireflection film and reduces damages in an underlying layer of the antireflection film.例文帳に追加

反射防止膜とフォトレジスト膜の界面付近のインターミキシングの発生を抑制でき、また、反射防止膜の上のレジストパターンをほぼ垂直形状にすることができ、さらに、反射防止膜の下層のダメージを低減することができる反射防止膜材料を提供する。 - 特許庁

To provide a base-layer film forming composition for lithography which is used for a lithography process of manufacturing a semiconductor device, has a faster dry etching speed than photoresist, and does not cause intermixing with the photoresist, and is for forming an organic base layer film having excellent charging property of a hole on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用され、フォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、半導体基板上のホールの充填性に優れた有機下層膜を形成するためのリソグラフィー用下層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming the lower layer of a resist film which has strong absorption regarding a KrF excimer laser or the like, does not cause intermixing with the upper layer of the photoresist film, and furthermore can be simultaneously developed when the upper layer of the photoresist is developed with an alkaline developing solution and a crosslinking agent to be used in the composition.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー等に対して強い吸収を持ち、上層のフォトレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のフォトレジスト膜がアルカリ性現像液で現像される際に同時に現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物、及び当該組成物に用いる架橋剤を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer for forming an overlay film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film and for forming an overlay film that keeps a stable coating film without elution into a medium during liquid immersion exposure, that induces no deterioration of a pattern figure when the film is subjected to not to liquid immersion exposure but to dry exposure, and that is easily dissolved in an alkali developing solution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。 - 特許庁

To provide a polymer for forming an overlay film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film, and for forming an overlay film that keeps a stable film without inducing elution into a medium on liquid immersion exposure, that induces no deterioration of a pattern figure when the film is subjected not to liquid immersion exposure but to dry exposure, and that is easily dissolved in an alkali developing solution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。 - 特許庁

To form an upper layer having sufficient permeability in exposure wavelength of 248 nm (KrF) and 193 nm (ArF), capable of forming a coated film on a photoresist without causing intermixing with a photoresist film, further, keeping the stable coated film without causing elution into water when it is immersed in a liquid and exposed with light and readily dissolving into an alkali developer.例文帳に追加

２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）の露光波長での十分な透過性と、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、さらに液浸露光時の水に溶出することなく安定な被膜を維持し、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。 - 特許庁

To provide a copolymer capable of forming a coating film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film, maintaining a stable coating film without dissolving in a medium used in immersion exposure, being free from pattern form deterioration even in the case of performing dry exposure which is not the immersion exposure, and forming an upper film which is easily soluble in an alkaline developer.例文帳に追加

フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する共重合体を提供する。 - 特許庁

In the air assisted spray nozzle assembly, a nozzle main body includes a pre-atomizing unit that has a relatively small sized pressurized air inlet, a liquid impingement post 38 with a uniquely configured impingement face for enhancing liquid breakdown and intermixing with a pressurized air stream from the air inlet and an expansion chamber 25 configured to reduce eddy currents that detract from efficient pre-atomization of the liquid.例文帳に追加

ノズル本体は、比較的小さいサイズの加圧エア入口を有する予備噴霧化ユニットと、液体の分解を強化しかつエア入口からの加圧エア流と混合するために独自に構成された衝突面を持つ衝突柱３８と、液体の効率的な予備噴霧化を損じる渦流を低減するように構成された膨張チャンバ２５とを含む。 - 特許庁

A nozzle body includes a pre-atomizing unit having a relatively small-sized pressurized air inlet, a liquid impingement post 38 with a uniquely configured impingement face for enhancing liquid break down and for intermixing with the pressurized air stream from the air inlet, and an expansion chamber 25 configured to reduce eddy current that detract from efficient pre- atomization of the liquid.例文帳に追加

ノズル本体は、比較的小さいサイズの加圧エア入口を有する予備噴霧化ユニットと、液体の分解を強化しかつエア入口からの加圧エア流と混合するために独自に構成された衝突面を持つ衝突柱３８と、液体の効率的な予備噴霧化を損じる渦流を低減するように構成された膨張チャンバ２５とを含む。 - 特許庁

To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.例文帳に追加

フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁