「K process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The image forming apparatus for forming a color image of at least a CMK color process by using the electrophotography method forms a K color process by a rational number net, C color process and M color process by supercells so as to form the K color process, the C color process, and the M color process respectively at an interval of 30 degrees.例文帳に追加

電子写真方式により少なくともＣＭＫ色版のカラー画像を形成する画像形成装置において、Ｋ色版を有理数網で形成し、Ｃ色版とＭ色版をスーパーセルで形成し、Ｋ色版とＣ色版とＭ色版とをそれぞれ３０゜間隔に形成する。 - 特許庁

METHODS FOR DEPOSITING HIGH-K DIELECTRIC MATERIAL USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学気相堆積プロセスを用いて高ｋ誘電物質を堆積させる方法 - 特許庁

Residual stress is eliminated by performing thermal treatment on the material at a temperature of (Tg-170)K or higher and (Tg)K or lower after the molding process.例文帳に追加

成形工程後に（Ｔｇ−１７０）Ｋ以上且つ（Ｔｇ）Ｋ以下の温度で熱処理して残留応力を除去する。 - 特許庁

In the job shop type production line 1 in which the manufacturing device 3a is shared by a process K and a process N, a determination means for determining which in-process products W in the process K or the process N are treated by the manufacturing device 3a is provided.例文帳に追加

工程Ｋ及び工程Ｎが製造装置３ａを共有するジョブショップ型製造ライン１において、製造装置３ａに工程Ｋ及び工程Ｎのうちいずれの工程の仕掛品Ｗを処理させるかを決定する決定手段を設ける。 - 特許庁

The ECU 40 executes a process for calculating a misfire detection determining value K (step S102).例文帳に追加

ＥＣＵ４０が、失火検出判定値Ｋを算出する処理を実行する（ステップＳ１０２）。 - 特許庁

An under color removal and black generation process is carried out with respect to c', m' and y', whereby C, M, Y and K are obtained.例文帳に追加

ｃ’、ｍ’、ｙ’に下色除去、墨発生処理を行いＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋを得る。 - 特許庁

When the counter 10A is under the maximum value K, the process directly changes to the next image treatment.例文帳に追加

カウンタ１０Ａが最大値Ｋ未満の場合、そのまま次の画像の処理に移行する。 - 特許庁

A deformation unit 304 deforms the first spectrum S1(k) of the band 0≤k≤FL by use of the estimated deformation information to thereby generate a deformed first spectrum S1'(j, k) (j is an index for identifying each deformation process).例文帳に追加

変形部３０４は、推定された変形情報を用いて帯域０≦ｋ＜ＦＬの第１スペクトルＳ１(ｋ)を変形した変形第１スペクトルＳ１’（ｊ，ｋ）を生成する。 - 特許庁

Image data which are originally expressed by process colors (C, M, Y and K) are composited with image data in the case of dividing a distinguishing characteristic into the process colors (C, M, Y and K) with respect to the respective colors C, M, Y and K in consideration of transparency degree in special color ink.例文帳に追加

もともとプロセスカラー（Ｃ，Ｍ，Ｙ，Ｋ）であらわされた画像データと、特色をプロセスカラー（Ｃ，Ｍ，Ｙ，Ｋ）に分解したときの画像データを、特色インクの透明度を考慮してＣ，Ｍ，Ｙ，Ｋのそれぞれについて統合する。 - 特許庁

Specifically, for C, M, and K channels with relatively high concentrations among C, M, K, and Y inks, the image distribution priority process 804 excellent in robustness is selected.例文帳に追加

すなわち、Ｃ、Ｍ、Ｋ、Ｙのインクのうち、比較的濃度が高いＣ、Ｍ、Ｋのチャネルについては、ロバスト性に優れた画像分配先行処理８０４を選択する。 - 特許庁

A tandem type color image forming apparatus includes a process unit 10 forming toner images in respective colors Y, M, C and K on a photoreceptor 11, and an intermediate transfer unit 30.例文帳に追加

Y,M,C,Kの各色のトナー画像を感光体11上に形成するプロセスユニット10と、中間転写ユニット30を備えたタンデム方式のカラー画像形成装置。 - 特許庁

Two ΣΔ modulators process either an even signal line Xk (k: even number) of an input signal X or an odd signal line Xk (k: odd number) each.例文帳に追加

ふたつのΣΔ変調器は、それぞれ入力信号Ｘの偶数符号列Ｘｋ（ｋ：偶数）または奇数符号列Ｘｋ（ｋ：奇数）の一方を処理する。 - 特許庁

The contact structures are formed in the low dielectric constant material layer (low-k materials) using the dual damascene process, which provides the method of forming contact structures effectively.例文帳に追加

これよって、効果的なコンタクト構造形成方法を提供するデュアルダマシン工程を利用し、低誘電率物質層(low-k materials)内にコンタクト構造を形成する。 - 特許庁

Then, the method comprises a process for decrypting CK using an asymmetrical encryption private key (privK) corresponding to pubK to recover K, a process for hashing the job and generating H', a process for using K to inspect CH, a process for decrypting an encrypted resource using K in response to inspecting CH and a process for using the decrypted resource to process the job.例文帳に追加

次に、本方法は、ｐｕｂＫに対応した非対称暗号化秘密鍵（ｐｒｉｖＫ）を用いてＣＫを解読することによってＫを回復する工程と、ジョブをハッシュ化してＨ’を生成する工程と、Ｋを用いてＣＨを検査する工程と、ＣＨの検査に応じて、暗号化されたリソースをＫを用いて解読する工程と、解読されたリソースを用いてジョブを処理する工程とを含んでいる。 - 特許庁

The toner image forming means comprises four first process units 80Y, M, C, K, four second process units 82 Y, M, C, K, a first transfer unit 20, a second transfer unit 30, a controller 95, etc.例文帳に追加

このトナー像形成手段は、４つの第１プロセスユニット８０Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋ、４つの第２プロセスユニット８１Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋ、第１転写ユニット２０、第２転写ユニット３０、制御部９５等からなる。 - 特許庁

In each image generation process of C, M, Y and K, the value of printing dots is integrated for one page by a counter 2.例文帳に追加

Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋの各画像形成プロセスにおいて、カウンタ２で印刷ドットの値を１頁分積算する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device includes: a step for forming a high-k gate insulating film 30 on a silicon substrate 200; a step for nitrogenizing the high-k gate insulating film 30 using gas comprising nitrogen gas and rare gas; a step for forming an electrode 32 on the high-k gate insulating film 30; and a process for forming an insulating layer 34 while surrounding the electrode 32.例文帳に追加

シリコン基板２００上にHigh-kゲート絶縁膜３０を形成する工程と、前記ゲート絶縁膜３０を窒素及び希ガス含有ガスでHigh-kゲート絶縁膜３０を窒化する工程と、前記High-kゲート絶縁膜３０上に電極３２を形成する工程と、前記電極３２を囲むように絶縁層３４を形成する工程とを有する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

When the control voltage and the gain are denoted by V and k, respectively, the value of Vc×k is constant, independently of whether the oscillation in the oscillation loop is in a steady-state or in a start-up process.例文帳に追加

制御電圧をＶｃ、ゲインをｋとした場合に、発振ループ内の発振が定常状態か起動過程かにかかわらず、Ｖｃ×ｋの値が一定である。 - 特許庁

To provide a display device which can process the video signal of n+k bits per pixel by using a data driving part capable of decoding the video signal of n bits per pixel.例文帳に追加

一画素当たりnビットの映像信号が解読可能なデータ駆動部を用いて一画素当たりn＋kビットの映像信号を処理可能なディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

To provide fluorinated material, e.g. a low k film, suitable for use in microelectrics production, and a process for producing such a film.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス製造での使用に対しより適したより良い性質を有する低-k膜のようなフッ素化材料及びそのような膜を製造するためのプロセスを与える。 - 特許庁

This method for examining sensitivity of tumor tissue to a sulfonamide compound includes a process for measuring each K^trans value of the tumor tissue of a subject before and after administration of the sulfonamide compound or its analog to the subject, and for analyzing a distribution of each K^trans value before and after administration.例文帳に追加

スルホンアミド化合物またはその類縁体を被検者に投与する前および投与した後の被検者の腫瘍組織におけるK^trans値を測定し、当該投与前後のK^trans値の分布を解析する工程を含む、スルホンアミド化合物に対する前記腫瘍組織の感受性を検査する方法。 - 特許庁

A first correction rotation speed OMGMA(i)is calculated by a 720 degree filter process, a second correction rotation speed OMGMB(i) is calculated by a 1440 degree filter process, and first and second determination parameters MFPARAMA(k), MFPARAMB(k) are calculated by using the first and second correction rotation speeds OMGMA(i), OMGMB(i).例文帳に追加

７２０度フィルタ処理により第１補正回転速度ＯＭＧＭＡ(i)が算出されるとととに、１４４０度フィルタ処理により第２補正回転速度ＯＭＧＭＢ(i)が算出され、第１及び第２補正回転速度ＯＭＧＭＡ(i)，ＯＭＧＭＢ(i)を用いて第１及び第２判定パラメータＭＦＰＡＲＡＭＡ(k)，ＭＦＰＡＲＡＭＢ(k)が算出される。 - 特許庁

ULTRAVIOLET ASSISTED POROGEN REMOVAL AND/OR CURING PROCESS FOR FORMING POROUS LOW-K DIELECTRIC例文帳に追加

多孔性の低ｋの誘電体を形成するために、紫外線を利用してポロゲンを除去及び／又はキュアするプロセス - 特許庁

The common driving motor 201 is provided separately from Y, M, C, and K process motors 170Y, M, C, K for rotationally driving photoreceptors (2Y, M, C, and K) and a belt driving motor 171 for endlessly moving an intermediate transfer belt (41).例文帳に追加

また、この共用駆動モータ２０１を、感光体（２Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋ）を回転駆動させるＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋプロセスモータ１７０Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋ、及び、中間転写ベルト（４１）を無端移動させるベルト駆動モータ１７１とは別にした。 - 特許庁

When a brightness signal stored in a frame memory 58 is read, the process of multiplying the brightness signal by a first feedback coefficient k (0<k<1) is performed by a first multiplier 55.例文帳に追加

フレームメモリ５８に格納されていた輝度信号が読出されると、第１の乗算器５５によって、輝度信号に第１の帰還係数ｋ（０＜ｋ＜１）を乗算する処理が施される。 - 特許庁

Then, a reverse reconstruction part 109 executes a prescribed reverse reconstruction process for the image data, so that k-space data composed of a plurality of k-space data are generated.例文帳に追加

さらに、逆再構成部１０９が、当該画像データに対して所定の逆再構成処理を行うことによって、複数のｋ空間データから合成されたｋ空間データを生成する。 - 特許庁

A difference D(=d_rE'(k)-f_0) between a disturbance estimated value d_rE' after pulse removing process and a functional value f_0 in step 250.例文帳に追加

ステップ２５０では、脈動除去処理後の外乱推定値ｄ_rE′と関数値ｆ_0 との差Ｄ（＝ｄ_rE′（ｋ）−ｆ_0 ）を求める。 - 特許庁

The substrate processing device 12 includes a storage tank 11 for storing the processing liquid, a processing tank 13 for supplying the processing liquid onto the substrate K to process it, a conveying mechanism 14 for conveying the substrate K, and a processing liquid supply mechanism 20 for supplying the processing liquid L to the processing tank 13 to reflux the processing liquid L in the processing tank 13 to the storage tank 11.例文帳に追加

基板処理装置12は、処理液を貯留する貯留槽11と、基板K上に処理液を供給して処理する処理槽13と、基板Kを搬送する搬送機構14と、処理液Lを処理槽13に供給し、処理槽13内の処理液Lを貯留槽11に還流させる処理液供給機構20とを備える。 - 特許庁

To avoid a trouble, such as a short circuit occurring between VIAs, in the manufacture of a semiconductor device comprising a microminiaturizing process that adopts a Low-K interlayer material or a Cu interconnecting line process.例文帳に追加

Ｌｏｗ−Ｋ層間材やＣｕ配線プロセスを採用する微細化プロセス工程を含む半導体装置の製造において、ＶＩＡ間ショートの問題を回避する。 - 特許庁

The remaining k (=j-i) pieces of data are made the object of the average process, the background value as the average value is obtained.例文帳に追加

残りのｋ（＝ｊ−ｉ）個のデータが平均処理の対象とされ、それらから平均値としてのバックグランド値が求められる。 - 特許庁

In the smoothing process, a degree of smoothing of a Y component is made higher than those of C, M and K components.例文帳に追加

平滑化処理では、Ｙ成分に対する平滑化の程度を、Ｃ，Ｍ，Ｋ成分に対する平滑化よりも相対的に強くする。 - 特許庁

To provide a manufacturing process for a (Li, Na, K)(Nb, Ta)O_3 type piezoelectric material capable of improving a relative dielectric constant and an electric-field-induced strain.例文帳に追加

比誘電率や電界誘起歪を向上させることが可能な（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３系圧電材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-k gate dielectric which maintains a constant threshold voltage even after a high temperature process in a CMOS integration step.例文帳に追加

ＣＭＯＳ集積過程での高温処理の後であっても一定の閾値電圧を維持する高ｋゲート誘電体の提供。 - 特許庁

A maximum value determination means determines the behavior (k) of the enemy plane by finding the behavior (k) of the enemy plane maximizing the value of Σ_wP(Xw, Yw, Xk, Yk)×Pm(Xw, Yw) obtained by the adding process (33).例文帳に追加

最大値判定手段が、上記加算過程で求まった上記Σ_ｗＰ（Ｘｗ，Ｙｗ，Ｘｋ，Ｙｋ）・Ｐｍ（Ｘｗ，Ｙｗ）を最大にする敵機の行動ｋを求めることにより、敵機の行動ｋを決定する（３３）。 - 特許庁

A test chart 91 is printed which includes: a YMC non-discharge detecting pattern image 71 consisting of a process black colored Y+M+C dot 88 and a K dummy jet adjusting image 73 consisting of a K dot 74.例文帳に追加

また、プロセスブラック色のＹ＋Ｍ＋Ｃドット８８から成るＹＭＣ不吐出検知パターン画像７１と、Ｋドット７４から成るＫダミージェットと調整画像７３と、を含むテストチャート９１を印字する。 - 特許庁

A spin-on low-k CMP protective layer 5 prevents a damage which may occur on the low-k dielectric 3 due to an uneven CMP process from the center to an edge or in an area varied in metal density.例文帳に追加

スピンオン低ｋＣＭＰ保護層５は、中央部からエッジへのまたは金属密度が変化する領域におけるＣＭＰプロセスの非均一性のために生じ得る低ｋ誘電体３へのダメージを阻止する。 - 特許庁

The method comprises a process for receiving an electronically formatted job at a first network-connected node, a process for receiving CK, a symmetrical encryption key (K) encrypted using an asymmetrical encryption public key (pubK) and a process for receiving CH, a hash (H) of the job, further encrypted using K.例文帳に追加

本方法は、第１ネットワーク接続ノードにおいて、電子形式のジョブを受信する工程と、非対称暗号化公開鍵（ｐｕｂＫ）によって暗号化された対称暗号化鍵（Ｋ）であるＣＫを受信する工程と、Ｋを用いてさらに暗号化されたジョブのハッシュ（Ｈ）であるＣＨを受信する工程とを含んでいる。 - 特許庁

Color mode operation is normally executed under a condition that full process cartridges of MCYK are fitted and the operation of the monochromatic mode corresponding to a black-and-white image can be executed only by the fitting of a K process cartridge.例文帳に追加

カラーモードの動作はＭＣＹＫの全プロセスカートリッジの装着を条件に通常通り実行し、白黒画像に対する単色モードの動作はＫプロセスカートリッジさえあれば実行する。 - 特許庁

A model parameter identification means 15 performs identification of model parameters K, T and L of the process model from step-like change of the stored process operation quantity based on the step response start time T1.例文帳に追加

モデルパラメータ同定手段１５は、ステップ応答開始時刻Ｔ１に基づいて、記憶されたプロセス操作量のステップ状の変化からプロセスモデルのモデルパラメータＫ、Ｔ、Ｌの同定を行う。 - 特許庁

Data retention/difference calculation parts 2_00-2_02 use pixel data located at ends within a plurality of pixel data as reference pixel data, calculates the difference between the reference pixel data and pixel data separated by (k) pixels (k is 2 to maximum), and executes a process of obtaining difference data on the basis of the number (k) of separation pixels to a plurality of lines.例文帳に追加

データ保持・差分演算部２_00〜２_02は、複数の画素データの内の端部に位置する画素データを基準画素データとし、基準画素データとｋ画素（ｋは２〜最大まで）離れた画素データとの差分を演算し、離間画素数ｋ毎の差分データを求める処理を複数のラインに対して行う。 - 特許庁

The tilting of the scanning line is thereby suppressed when the ratio K of the process linear speed V and scanning speed Vimg is different.例文帳に追加

これにより、プロセス線速Ｖと走査速度Ｖｉｍｇとの比率Ｋが異なったときの走査線に傾きを抑制することができる。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a semiconductor device by acquiring a larger process margin for etching a High-k film.例文帳に追加

Ｈｉｇｈ−ｋ膜をエッチングする際のプロセスマージンを大きくして、安定的に半導体装置を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

Images for printing (C image 11, M image 13, Y image 15 and K image 17) are produced by a RIP (raster image processor) process and stored in a data base 3.例文帳に追加

ＲＩＰ処理で印刷用のＣ画像１１、Ｍ画像１３、Ｙ画像１５、Ｋ画像１７を作成し、データベース３に保存する。 - 特許庁

The decoding process part 111 at the time of expanding the mentioned video signal 101 thins out the video data according to the accepted coefficient (k).例文帳に追加

デコード処理部１１１は、上記の映像信号１０１を伸張する際に、受け付けた係数ｋに従って映像データを間引く。 - 特許庁

To provide an oxygen-free hydrogen plasma ashing process that is particularly useful for low-k dielectric materials, based on hydrogenated silicon oxycarbide materials.例文帳に追加

水素化シリコンオキシカーバイド材料に基づく低−ｋ誘電体材料に特に有用な酸素フリーの水素プラズマアッシングプロセスを提供する。 - 特許庁