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PA methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 238件
The method is carried out at a reaction temperature of 100-200°C under pressure of 0.93-1.07X10^5 Pa and produced methanol is continuously removed by distillation.例文帳に追加
反応を100〜200℃の温度で、0.93×10^5Pa〜1.07×10^5Paの圧力で行い、生成するメタノールを反応中に連続的に蒸留分離する。 - 特許庁
In the driving method of the plasma display panel, the temperature of a panel surface corresponding to a cell is measured and the pulse widths W of a driving voltage scan pulse Py and an address pulse Pa are varied in accordance with temperature variation.例文帳に追加
セルに対応したパネル表面の温度を測定し、温度変化に合わせて駆動電圧スキャンパルスPy,アドレスパルスPaのパルス幅Wを変更する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a material for parts in a vacuum apparatus, which reduces the gas-releasing rate from the parts to a value lower than 10^-12 Pa (H_2) ×m/s.例文帳に追加
10^-12Pa(H_2)・m/sより低い真空部品からのガス放出率を達成することが可能な真空部品用材料の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The method preferably includes a removal step for the unreacted phenols by reduced-pressure distillation, wherein the distillation temperature is ≤180°C and the degree of vacuum is ≤6,666 Pa abs (50 mmHg abs).例文帳に追加
さらに未反応フェノール類の減圧蒸留による除去工程が設けられ、当該除去工程における蒸留温度が180℃以下で、かつ真空度が6666Paabs(50mmHgabs)以下とする。 - 特許庁
SOUND REACH RANGE SIMULATING SYSTEM FOR OUTDOOR PA SLAVE STATION OF EMERGENCY RADIO FACILITY, SOUND REACH RANGE SIMULATING METHOD AND RECORDING MEDIUM WITH SOUND REACH RANGE SIMULATING PROGRAM RECORDED THEREON例文帳に追加
防災行政無線設備屋外拡声子局用音響到達エリア模擬システム、音響到達エリア模擬方法および音響到達エリア模擬プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
Raw materials are mixed in a helium atmosphere or in a vacuum of 133 Pa or lower by a method using a mechanochemical reaction, to be synthesized into the cathode active substance.例文帳に追加
負極活物質は、ヘリウム雰囲気中、あるいは133Pa以下の真空中で、原料をメカノケミカル反応を利用した方法により混合して合成されたものである。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and its evaluation method capable of evaluating in a short time a leakage current in the 10 pA order caused by highness of a resistance value of a resistance element.例文帳に追加
抵抗素子の抵抗値が高いことによる10pAオーダーのリーク電流を短時間で評価できる半導体装置及びその評価をできるようにする。 - 特許庁
This method for storing a powder coating material comprises adjusting the pressure of a sealed vessel charged with a powder coating material to ≤8.0 ×104 Pa.例文帳に追加
粉体塗料を仕込んだ密閉容器を気圧が8.0×10^4Pa以下の範囲内になるように調整することを特徴とする粉体塗料の貯蔵方法。 - 特許庁
Also, a manufacturing method for the ceramic porous sheet 3 involves immersing end faces of the ceramic porous sheet 3 having a porosity of 30% and over to and including 85% in a slurry, with a viscosity of 1 Pa-s and over to and including 20 Pa-s, which contains at least one kind selected from the group of alumina, zirconia, and mullite, before being dried and calcined.例文帳に追加
また、セラミック多孔質シート3の製造方法は、気孔率が30%以上85%以下である多孔質シート3の端面を、アルミナ、ジルコニア、ムライトからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む粘度が1Pa・s以上20Pa・s以下のスラリーに浸漬し、乾燥後、焼成することを特徴とする。 - 特許庁
In the method of depositing the diamond-like carbon film on a substrate by the plasma CVD process, a bipolar DC pulse voltage is used as a voltage applied to the substrate, a toluene-containing gas is used as a gas supplied into the chamber and the diamond-like carbon film is deposited by setting the total pressure of gas in the chamber to be 4 Pa to 7 Pa.例文帳に追加
プラズマCVD法で基材上にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する方法であって、基材に印加する電圧をバイポーラDCパルス電圧とすると共に、チャンバ内に供給するガスとしてトルエン含有ガスを用い、かつ、チャンバ内のガスの全圧を4Pa以上7Pa以下にしてダイヤモンドライクカーボン膜を形成する。 - 特許庁
In the manufacturing method, the forming aid is prepared by blending methyl cellulose (M) of no more than 5 Pa×s viscosity in a 2% aqueous solution at 20°C and hydroxypropylmethyl cellulose (H) of 20 Pa×s viscosity in a 2% aqueous solution at 20°C in the mass ratio (M/H) of 50/50 to 90/10.例文帳に追加
成形助剤として、2%水溶液粘度(20℃)で5Pa・s以下のメチルセルロース(M)と、2%水溶液粘度(20℃)で20Pa・s以上のヒドロキシプロピルメチルセルロース(H)を前記メチルセルロース(M)と前記ヒドロキシプロピルメチルセルロース(H)の質量比(M/H)を50/50を越え90/10以下の範囲で配合する。 - 特許庁
Further, in the disposition method of the power supply line, the power supply line (VDD1 to VDDN) is disposed on the pixel arrangement part (PA) in the direction intersecting the scanning direction for outputting a video signal.例文帳に追加
また、電源ライン配置方法では、画素配列部(PA)上に、映像信号を出力するためのスキャン方向と交差する方向に電源ライン(VDD1〜VDDN)を配置する。 - 特許庁
To provide an optical amplifier capable of preventing an oscillator from being damaged by reflection light, and to provide a fiber laser using the optical amplifier, and a reflection light removal method in the MO-PA type optical amplifier.例文帳に追加
反射光による発振器の破損を防止することが可能な光増幅器、それを用いたファイバレーザ、MO−PA方式の光増幅器における反射光除去方法の提供。 - 特許庁
This method comprises steps of compacting raw-material powder containing organic binders into green compacts and heating the green compacts while controlling total pressure to ≤60 Pa at temperatures ranging from room temperature to ≤600°C.例文帳に追加
有機物系バインダーを含有する原料粉末を圧粉体に成型する工程と、常温から600℃以下の範囲において全圧を60Pa以下に制御して前記圧粉体を加熱する工程とを含む。 - 特許庁
A film of an IGZO-based amorphous oxide layer is formed under a back pressure of higher than 5×10^-4 Pa in a sputtering method, and then subjected to annealing processing at an annealing temperature of 100 to 300°C.例文帳に追加
IGZO系アモルファス酸化物層を、スパッタ法における背圧を5×10^−4Pa超として成膜し、その後、100℃以上、300℃以下のアニール温度でアニール処理する。 - 特許庁
To provide a method for controlling the output of an access packet (PA) transmitted from a mobile station (MS) so that input variations of a receiver of a transmitting-receiving base station can be reduced.例文帳に追加
送受信基地局の受信機の入力変化を減少させることができるように、移動局(MS)から発信されるアクセスパケット(PA)の出力を制御する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an on-vehicle navigation apparatus and a method for guiding use of a parking lot, which can intelligibly guide a specific procedure for use of smart PA service.例文帳に追加
スマートPAサービスの利用時に発生する特定の手続を分かりやすく案内することが可能な「車載用ナビゲーション装置及び駐車場利用案内方法」を提供すること。 - 特許庁
The silicon nitride film 104 is formed preferably by a plasma CVD method so that an inner stress of the silicon nitride film 104 is a compressing stress and not greater than 3×10^8 Pa.例文帳に追加
このシリコン窒化膜104の内部応力が圧縮応力であってかつ3×10^8Pa以下であるように、シリコン窒化膜104を好ましくはプラズマCVD法によって形成する。 - 特許庁
The method for cleaning the substrate comprises the steps of discharging the cleaning force of a liquid droplet from a cleaning nozzle 7 onto the surface of the substrate W rotated at a rotation stopping Pa of the substrate W as a center.例文帳に追加
基板Wの回転中止Paを中心として回転させられている基板Wの表面上に、洗浄ノズル7より液滴の洗浄液が吐出される。 - 特許庁
To provide a method, by which the output of an access packet (PA) transmitted from a mobile station (MS) can be controlled so that the input variations of the receiver of a transmitting-receiving base station is reduced.例文帳に追加
送受信基地局の受信機の入力変化を減少させることができるように、移動局(MS)から発信されるアクセスパケット(PA)の出力を制御する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a structural analysis method of PA sugar chain capable of effectively using, for analysis, ions such as [M+H+2]^+ and [M+Na+2]^+ that are not conventionally analyzed.例文帳に追加
従来解析対象とならなかった[M+H+2]^+や[M+Na+2]^+などのイオンを有効に解析に役立てることができる、PA化糖鎖の構造解析方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method has a step for exposing the surface of the base layer to an Ar gas which has 0.1 to 10 Pa gas pressure and into which the oxygen of 1 to 10% mass flow rate is mixed for 1 to 10 sec.例文帳に追加
また、下地層の表面を、質量流量比1〜10%の酸素を混合したガス圧0.1〜10PaのArガス中に1〜10秒間曝露する工程を備える。 - 特許庁
A communication device complying with a second error detection method enables a communication device complying with a first error detection method to enable error detection or error detection and correction by transmitting redundant data Pa which are obtained by generating parity Qa with a parity generation matrix Gp from data A and then converting with Qa+Pa addition for transmitting the data A.例文帳に追加
第2のエラー検出方式に則った通信装置は、データAを送信する際には、データAからパリティー生成行列Gpを用いてパリティーQaを生成した後、Qa+Paを加算することで冗長データPaに変換して送信し、第1のエラー検出方式に則った通信装置側でもそのままエラー検出若しくはエラー検出訂正を可能にする。 - 特許庁
A method for forming the thin film includes forming the thin film on a substrate by a sputtering method at a power density in the range of 1.5 to 3 W/cm^2 and at a pressure of an inert gas that is in the range of 0.2 to 0.3 Pa.例文帳に追加
本発明の薄膜形成方法は、基板上にスパッタリング方法により薄膜を形成する方法であって、薄膜は、電力密度が1.5〜3W/cm^2、非活性気体の圧力が0.2〜0.3Paで形成する。 - 特許庁
This inorganic film deposition method is a method for depositing the thin film onto the plastic film, and heat treatment is applied to the film before film deposition at ≤4.6×10^-2 Pa degree of vacuum at 80 to 120°C and then the thin film is deposited in vacuum.例文帳に追加
プラスチックフィルム上に薄膜を形成する方法において、成膜前のフィルムに4.6×10^-2Pa以下の真空度にて80〜120℃の温度で熱処理を行い、その後真空中にて薄膜を形成することを特徴とする無機膜成膜方法。 - 特許庁
In the method for forming the coating film on an object to be coated by atomization-coating with the coating containing the aluminum pigment, a storage modulus of elasticity G' at the condition of a stress of 0.5 Pa and a frequency of 0.1 Hz in the coated liquid just after atomization-coating is 10 Pa or higher and an IV value is 200 or higher.例文帳に追加
アルミニウム顔料を含有する塗料を霧化塗装して被塗物上に塗膜を形成する方法において、霧化塗装直後の塗着塗液における応力0.5Paで且つ周波数0.1Hzの条件での貯蔵弾性率G’を10Pa以上とすることを特徴とする、IV値が200以上の光輝性塗膜の形成方法。 - 特許庁
In the method for manufacturing the elastic roll, the coating filming forming object having the satisfactory dimensional accuracy is obtained by coating and forming a material in the form of a non-Newtonian liquid in which the yield stress of the coating material is 50 Pa to 600 Pa and thixotropic index is 2.0 to 6.5 by using a coating head of a cylindrical shape.例文帳に追加
弾性ロールの製造方法において、被覆材料の降伏応力が50Pa以上600Pa以下であり、かつチキソトロピーインデックスが2.0以上6.5以下である非ニュートン性液状の材料を円筒形状の塗工ヘッドを用いて被覆形成することで、寸法精度の良好な塗膜形成物が得られることを特徴としている。 - 特許庁
Disclosed is the manufacturing method of the dust core characterized in that, after soft magnetic metal particles each having an insulating oxide skin on a surface are pressed and formed, heat treatment is carried out in an atmosphere of ≤1013 Pa in oxygen partial pressure.例文帳に追加
表面に絶縁酸化被膜を有する軟磁性金属粒子をプレス成型した後、酸素分圧1013Pa以下の雰囲気中で熱処理することを特徴とする圧粉磁心の製造方法。 - 特許庁
A sputtering target is DC-sputtered at water partial pressure of 3×10^-4 to 5×10^-2 Pa in a system so as to form a formation body, and the formation body is crystallized in the film formation method of the oxide semiconductor.例文帳に追加
系内の水分圧3×10^−4〜5×10^−2Paで、スパッタリングターゲットをDCスパッタリングして成膜体を成膜し、前記成膜体を結晶化する酸化物半導体の成膜方法。 - 特許庁
The weather displaying method includes a step of inclining the central axis (1a) of the cylindrical surface model from a state coaxial or parallel with a plumb line (Pa) going through the viewpoint (P) in an optional direction in accordance with a game situation.例文帳に追加
ゲームの状況に応じて、円筒面モデルの中心軸(1a)を、視点(P)を通る鉛直線(Pa)と同軸又は平行な状態から任意の方向へ傾斜させるステップが含められる。 - 特許庁
The method also comprises the step of depositing the ruthenium on the wafer 21 with a gap between the wafer 21 and a shower head 26 of 1 to 20 mm at a pressure in the chamber 17 of 666 to 6664 Pa (5 to 50 Torr).例文帳に追加
ウエハ21とシャワーヘッド26とのギャップは1〜20mm、反応室17内の圧力666〜6664Pa(5〜50Torr)の範囲内でウエハ21上にルテニウムを堆積させる。 - 特許庁
This organic EL element can be manufactured by the manufacturing method including a process in which a vacuum vapor deposition is carried out at combustible gas partial pressure of 0.5×10-4 to 10×10-4 Pa.例文帳に追加
この有機EL素子は、支燃性ガス分圧0.5×10^-4Pa〜10×10^-4Paで真空蒸着を行って有機EL膜を形成する工程を含む製造方法によって製造することができる。 - 特許庁
The method for producing the processed rice includes: allowing low-amylose rice to absorb water while keeping the rice temperature under a gelatinization temperature of the rice; and to freeze-dry it at vacuum of 200-320 Pa.例文帳に追加
本発明は、低アミロース米を米澱粉の糊化温度以下の品温に保ったまま吸水させた後、真空度200〜320Paで凍結乾燥することを具備する加工米の製造法である。 - 特許庁
The method includes a step of preparing an emulsion-type adhesive composition that satisfies both of the following conditions: a viscosity at 30°C of 0.1-3 Pa s; and a solid content of 50-70 mass%.例文帳に追加
その方法は、次の条件:30℃における粘度が0.1〜3Pa・sである;および、固形分が50〜70質量%である;をいずれも満たすエマルジョン型粘着剤組成物を用意する工程を含む。 - 特許庁
To provide a method for efficiently producing a high quality carbon nanotube at a low temperature of about 500-850°C under low pressure of 10-4-10-1 Pa without applying any electrical field.例文帳に追加
500〜850℃程度の低い温度及び10^-4〜10^-1Paという低い圧力の条件下において、電界を印加することなく高品質のカーボンナノチューブを効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁
While entire pressure in a deposition tank is set to at least 0.1 Pa, and at the same time temperature in the magnet in deposition is maintained to 200°C or less, the inorganic covering should be deposited and formed by the ion plating method.例文帳に追加
蒸着槽内の全圧を0.1Pa以上、かつ、蒸着時の磁石温度を200℃以下に保持しながら、イオンプレーティング法により無機質被膜を蒸着形成することを特徴とする。 - 特許庁
The method includes an application process of applying the droplets of the prescribed color to each of the plurality of pixel parts, and a removal process of removing the upper part Pa of a partition wall P sectioning the pixel parts adjacent to each other in a prescribed direction.例文帳に追加
複数の画素部のそれぞれに所定色の液滴を塗布する塗布工程と、所定方向で隣り合う画素部を区画する隔壁Pの上部Paを除去する除去工程とを有する。 - 特許庁
When a hollow fiber membrane is produced by means of a dry-wet type membrane production method using gaseous infusion, the pressure difference between the dry section and the out-of-system section is made to fall within a range from 9.8 Pa to 9.8 kPa, with the dry section being pressurized.例文帳に追加
気体注入による乾湿式製膜法により中空糸を製膜するに当たり、乾式部と系外との差圧が9.8Pa以上9.8kPa以下で、乾式部が加圧された状態であること。 - 特許庁
In the method of forming the above metallic surface coating, a metallic surface is coated with a liquid containing a transparent resin having a viscosity of 10 to 10^12 Pa s, and, after that, the coated liquid is wiped away.例文帳に追加
金属表面に、10〜10^12Pa・sの粘度を有する透明樹脂を含有する液体を塗布し、その後塗布した液体を拭き取ることを特徴とする前記金属表面被覆の形成方法。 - 特許庁
This method comprises sintering and melting the powder material which is prepared by blending two or more oxides in a vacuum atmosphere of ≤5.0×10^-3 Pa by a discharge plasma sintering method in which a pulsed current is applied to produce the optical element material.例文帳に追加
2種類以上の酸化物を混合した粉末材料を、5.0×10^−3Pa以下の真空雰囲気で、パルス電流を印加した放電プラズマ焼結法により、焼結及び溶融することで、光学素子用材料を作製する。 - 特許庁
The inorganic compound layer 21E is continuously formed by a dry deposition method after the metallic lithium layer 21D is formed by the dry deposition method in a vacuum chamber of which the pressure after forming the metallic lithium layer 2D is kept in 10 Pa or less.例文帳に追加
無機化合物層21Eは、金属リチウム層21Dを乾式成膜法により形成したのち、金属リチウム層21Dを形成した後の圧力が10Pa以下に維持された真空槽内において、乾式成膜法により連続形成する。 - 特許庁
A PTO nucleation layer having the (111) orientation is formed to a thickness of 5 nm or thicker, preferably 8 nm or thicker by a low oxygen partial pressure of less than 340 Pa by the MOCVD method, and the PZT film is formed on it by the MOCVD method.例文帳に追加
(111)配向を有するPTO核生成層を、MOCVD法により、340Pa未満の低酸素分圧下において、5nm以上、好ましくは8nm以上の膜厚に形成し、その上にPZT膜をMOCVD法により形成する。 - 特許庁
In the method wherein an electrode is formed on the piezoelectric component composed of piezoelectric ceramic by a sputtering method, a Ni-Cr alloy is made to be a target material, Ar gas is used as sputtering gas, a sputtering pressure is set in a range of 0.2-0.5 Pa, and sputtering is performed.例文帳に追加
圧電セラミックスよりなる圧電部品に電極をスパッタリング法により形成する方法において、Ni−Cr合金をターゲット材料とし、スパッタガスにArガスを使用し、スパッタガス圧を0.2〜0.5Paの範囲に設定してスパッタリングを行う。 - 特許庁
The resist film removal method attached on a processing surface of a workpiece includes: dry processing the resist film attached on the processing surface of the workpiece by supplying active hydrogen atom generated by an inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa; and dry processing by supplying active oxygen atom generated by the inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa and/or wet processing by medical liquid.例文帳に追加
被処理物の処理表面に付着したレジスト膜を除去する方法であって、被処理物の処理表面に付着したレジスト膜に対し、大気圧から100Paの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性水素原子を供給することによるドライ処理と、大気圧から100Paの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性酸素原子を供給することによるドライ処理及び/又は薬液によるウェット処理とを行う。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium with excellent manufacturing efficiency by eliminating the problem of a traveling defect due to electrostatic charge in a process for manufacturing a vapor deposition type medium by using an aromatic PA film.例文帳に追加
芳香族PAフィルムを用いた蒸着型媒体の製造工程における、帯電に起因する走行不良の問題を解消して、製造効率に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁
The production method comprises performing cooling which follows the formation of a photostimulable phosphor layer by a chemical vapor deposition process in an atmosphere having an oxygen partial pressure in the range: 0%<O_2<25% and having a degree of vacuum of 1 Pa to atmospheric pressure.例文帳に追加
気相堆積法によって輝尽性蛍光体層を形成した後の冷却を、酸素分圧が0%<O_2<25%、真空度が1Pa〜大気圧の雰囲気下で行なうことにより、前記課題を解決する。 - 特許庁
PA method, it is possible to produce pulp of good yield and quality, it is easy to recover alkalis and to reclaim chemicals and it is possible to provide a total system where pulp is produced without hardly causing pollution.例文帳に追加
特にPA法によれば収率、品質ともに優れたパルプの製造が可能で、パルプ廃液からのアルカリの回収と薬品の再生も容易で、低公害でパルプが得られる優れたト−タルシステムが提供される。 - 特許庁
In the method for manufacturing the metal film, a metal vapor-deposited film is deposited on the surface of the base material formed of iron or its alloy at an atmospheric pressure of 0.1-3.0 Pa, and at an average film deposition rate of 0.01-10 μm/min.例文帳に追加
またその製造方法は、鉄またはその合金によって形成された母材の表面に、雰囲気圧力0.1〜3.0Pa、平均成膜速度0.01〜10μm/分で、金属蒸着被膜を形成する。 - 特許庁
In forming the magnetic film on the substrate made of the resin, the substrate made of the resin is deposited in a non-heating state by a sputtering method in a chamber where the gaseous pressure is regulated to 0.133 to 2.66 Pa.例文帳に追加
また、前記樹脂製の基板上に前記磁性膜を形成する際、ガス圧を0.133Pa以上、2.66Pa以下としたチャンバー内でスパッタリング法により、樹脂製の基板を非加熱状態で成膜する。 - 特許庁
By setting a film deposition pressure at 1.33-2.67 Pa in sputtering, frequency of collision of flying titanium with argon and oxygen ions or neutral particles in creases compared to a conventional method.例文帳に追加
成膜圧力を1.33Pa以上2.67Pa以下に設定したことで、飛翔するチタンがアルゴン及び酸素のイオンや中性粒子と衝突する回数が一般的なスパッタによる成膜方法に比べて多くなる。 - 特許庁
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