「Scratch Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photoreceptor having good wear resistance and an extended lifetime, wherein a scratch of an imaging member in one or more surface layers of the member (which causes an observable undesirable print defect on a produced final print) is reduced or minimized.例文帳に追加

良好な耐摩耗性および延長した寿命を有し、部材の単数又は複数の表面層における撮像部材の傷（これは生み出された最終印刷物上で目視できる望ましくない印刷欠陥を生じる）が減少または最小化した感光体を提供する。 - 特許庁

To provide a pad and method for chemical mechanical polishing which can establish high flatness when chemically and mechanically polishing a semiconductor device that is provided with two layers of insulator having different hardness and hardly generates surface defect such as peeling or scratch of a material.例文帳に追加

硬度の異なる二層の絶縁体層を有する半導体装置の化学機械的研磨において高度の平坦性が得られ、材料の剥がれやスクラッチ等の表面欠陥が発生することのない化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing method, a polishing device, and a manufacturing method of a polishing tool for excellently exhibiting a polishing characteristic for various kinds of polishing objects by reducing a defect such as a scratch and sticking of resin caused on a polishing object surface of the polishing objects of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハの研磨対象物の被研磨面に発生するスクラッチ等の欠陥および樹脂の付着を低減し、各種の研磨対象物に対してその研磨特性を良好に発揮できる研磨方法、研磨装置、および研磨工具の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for timber impregnation improved in curability, at the same time capable of insuring a satisfactory durability as a resin impregnated timber, capable of forming a cured resin film few in appearance defect such as a scratch, warp, crack or the like at the outside surface and the inside of the timber.例文帳に追加

硬化性に優れると共に、樹脂含浸木材として十分な耐久性を確保でき、かすれ等の外観不良、木材のソリ、割れ等の少ない硬化樹脂塗膜を、木材の表面および内部に形成することのできる木材含浸用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To reduce a possibility of recording failure and to attain an efficient recording operation of a defect management by preliminarily inspecting a stain before the recording even when a scratch or stain exists on a recording area on an optical disk medium and by referring to the inspection result when the recording area is assigned.例文帳に追加

光ディスク媒体上の記録領域に傷や汚れがある場合でも、予め記録前に汚れ検査を行っておき、記録領域割当て時に検査結果を参照することによって、記録失敗の可能性を低下させ、効率の良い欠陥管理記録を可能にする。 - 特許庁

To provide a laminated film free from in-plane molecular orientation, having no surface defect, excellent in optical anisotropy, heat resistance, scratch resistance and the adhesiveness with a polyvinyl alcohol (PVA) polarizer, manufactured at a low cost and suitable as a protective film for the polarizer.例文帳に追加

フィルム面内の分子配向がなく、表面無欠点で光学等方性に優れ、しかも耐熱性・耐殺傷性に優れ、さらにポリビニルアルコール（ＰＶＡ）偏光子との接着性に優れ、低コストで製造可能な積層フィルムであって、偏光子の保護フィルムとして好適な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a developing device which can prevent the generation of a scratch or a line as a defect on an image on the surface of a developer thickness regulating member, which can apply toner uniformly on a developing sleeve and which can obtain a high quality image having uniform durability without unevenness.例文帳に追加

現像剤層厚規制部材の表面に画像上に欠陥として現れるような傷やスジの発生を防ぎ、現像スリーブ上に均一なトナー塗布を行うことのできる、耐久においても均一でムラのない、高品位の画像を得ることのできる現像装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an antireflection film which is formed by a coating method of an open system in which water is mixed easily in a coating liquid, which has sufficient antireflective performance, antifouling properties and scratch resistance and in which the generation of a repelling defect and color nonuniformity is restrained by using a hydrophilic solvent and performing dehydration treatment using silica gel.例文帳に追加

塗液の水分混入が発生しやすい開放系の塗工方式において、溶剤に親水性溶剤を用い、シリカゲルにて脱水処理を行うことにより、十分な反射防止性能、防汚性、耐擦傷性を有しながらハジキ欠陥、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To reduce adhesion of dust to the surface of a material to be polished, to reduce the occurrence of a scratch flaw, to make flattening characteristics compatible, and further to remove fine recess and protrusion of a semiconductor wafer itself before machining a recess and a protrusion, that is, a defect represented into waviness and nanotopology, by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわち、ｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To provide polishing cloth processing a base board for a recording disk with excellent productivity, by checking sticking of a titanium compound represented by titanium dioxide to a disk surface, by realizing uniform processing by restraining a scratch being a defect of the disk, in texture processing of a magnetic disk requiring highly accurate finishing.例文帳に追加

高精度の仕上げを要求される磁気ディスクのテクスチャー加工において、ディスクの欠点となるスクラッチを抑制して均一な加工を実現するとともに、ディスク表面への二酸化チタンに代表されるチタン化合物の付着を阻止することで、記録ディスク用基板を生産性よく加工できる研磨布を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase difference film having a retardation characteristic (in-plane retardation is 0-10nm, and retardation in thickness direction is 70-400nm) useful for increasing a viewing angle of a liquid crystal display device, having small lagging axis angle unevenness of film, and having no quality defect such as a scratch and a dent on the film surface.例文帳に追加

液晶表示装置の視野角拡大に有用なレタデーション特性（面内レタデーションが０〜１０ｎｍ、厚み方向レタデーションが７０〜４００ｎｍ）を有し、フィルムの遅相軸角度むらが小さく、フィルム表面に傷や押されなどの品質欠陥のない位相差フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce an adhesion of dusts to a surface of a material to be polished, to decrease scratch damages, to further allow it and flattening characteristics to be compatible and to remove a fine unevenness of a semiconductor wafer itself before forming an unevenness, that is, a defect represented by waviness, a nanotopology or the like by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわち、ｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To provide a polishing solution used for barrier metal CMP for chemically and mechanically polishing a barrier layer and an interlayer insulating film, especially, a polishing solution with which a superior polishing speed is obtained for the interlayer insulating film and a scratch as a defect after polishing is reducible as well.例文帳に追加

本発明は、バリア層と層間絶縁膜とを化学的機械的に研磨するバリアメタルＣＭＰに用いられる研磨液であって、特に、層間絶縁膜に対する優れた研磨速度が得られ、且つ、研磨後欠陥であるスクラッチの低減を同時に実現し得る研磨液を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion capable of preventing a surface defect such as dishing, erosion, scratch or fang in a planarization process of a polishing object surface by chemical mechanical polishing, and to provide a chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparing set excelling in long-term preservation stability, even in a condensed state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥を抑制することができる化学機械研磨用水系分散体の調製方法、および濃縮状態においても長期保存安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体調製用セットを提供することにある。 - 特許庁

To provide a polishing cloth which performs texture machining to the finish of super-high precision with extremely small surface roughness of a substrate, suppresses a defect caused by micro chips from polishing and abrasive grains biting into the substrate surface, has a high cleaning effect, and minimizes scratch defects caused by the local cohesion of abrasive grains.例文帳に追加

基板表面粗さが極めて小さい超高精度の仕上げでテクスチャー加工を行うことができ、且つ微細な研磨屑及び砥粒の基板表面への食い込みに起因する欠陥を抑制し、クリーニング効果が高いとともに、局所的な砥粒の凝集などに起因するスクラッチ欠点を極小化することができる研磨布を提供する。 - 特許庁

When magnetic information is magnetically transferred, by pre-recording a particular magnetic pattern 1 (here, obliquely fringed) in a part having no magnetic information containing track information recorded therein, and scanning a magnetic head in the radial direction or in a direction orthogonal to the radial direction, a scratch defect long in a circumferential or radial direction can be detected by rough scanning.例文帳に追加

磁気的情報が磁気転写されるとき、トラック情報を含む磁気的情報が記録されない部分に特定の磁気パターン１（ここでは、斜め縞状）を予め記録しておくことにより、磁気ヘッドを半径方向またはそれと直交する方向に走査することにより、円周または半径方向に長いスクラッチ欠陥の検出を粗い走査で検出可能とする。 - 特許庁

To make occurrence of charge defect owing to the surface contamination of a charging member with a simple structure by efficiently performing cleaning on the charging member without causing rubbing scratch on the charging member surface caused by a charging member cleaning member itself and depositions recovered by the charging member cleaning member, even in the case of using for a long period.例文帳に追加

長時間使用した場合にも、帯電部材クリーニング部材自体及び帯電部材クリーニング部材が回収した付着物による帯電部材表面の摺擦キズを引き起こすことなく効果的に帯電部材の清掃を行い、帯電部材の表面汚染による帯電不良の発生を簡易な構成にて防止できる電子写真画像形成装置、プロセスカートリッジ、帯電装置及び帯電部材クリーニング装置を提供する。 - 特許庁