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W-Rの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 955



例文

To prevent an inverter device 1 from malfunctioning under influence of the communication radio waves to be oscillated from a R/W device 3 to an IC tag 2.例文帳に追加

インバータ装置1がR/W装置3からICタグ2に発振される通信用電波の影響で誤動作することを防止すること。 - 特許庁

Here, the resist fluid R spreads to the second end part E_2 side due to capillarity, and is coated on between the template T and the wafer W.例文帳に追加

このとき、レジスト液Rは、毛細管現象によって第2の端部E_2側に拡散し、テンプレートTとウェハWとの間に塗布される。 - 特許庁

The liquid stopping recessed section E is provided on the back side of the rear wall R and liquid evacuating holes J that open towards the inside of the projected wall W are provided on the bottom.例文帳に追加

後壁部Rの後方側に液溜め凹部Eを設け、その底部に、突壁部Wの内側に開口する液抜き孔Jを設ける。 - 特許庁

A sandwiched unit includes: a card insertion/discharge hole; a card R/W; a storage portion for storing general cards; and a card transfer mechanism.例文帳に追加

台間ユニットは、カード挿入/排出口と、カードR/Wと、一般カードを収納するための収納部と、カード搬送機構とを備えている。 - 特許庁

例文

When the development of the resist film R is finished, a developer H2, having a concentration lower than that of the developing liquid H1, is supplied to the wafer W.例文帳に追加

レジスト膜Rの現像が終了した時点で,ウェハW上に現像液H1よりも濃度が低い現像液H2を供給する。 - 特許庁


例文

In a photolithography step of a wafer W, an antireflection film B having solubility in a developer solution is formed, and thereafter a resist film R is formed.例文帳に追加

ウェハWのフォトリソグラフィー工程において、現像液に溶解性を有する反射防止膜Bを形成し、その後レジスト膜Rを形成する。 - 特許庁

The 2nd optical system 300 has a lens group G3 and forms an image of the reticle R on a wafer W according to the light from the intermediate image.例文帳に追加

第2光学系300は,レンズ群G3を有し,中間像からの光に基づいてレチクルRの像をウエハW上に形成する。 - 特許庁

An intermediate body R is manufactured by giving a thermosetting treatment onto a circular workpiece W having a spline hole corresponding section 6A and a raceway corresponding section 3A.例文帳に追加

スプライン穴相当部6Aと軌道面相当部3Aを有する環状のワークWを熱硬化処理して中間体Rを製造する。 - 特許庁

In the photolithographic processes of a wafer W, an antireflection film B having solubility to a developer is formed and then a resist film R is formed.例文帳に追加

ウェハWのフォトリソグラフィー工程において,現像液に溶解性を有する反射防止膜Bを形成し,その後レジスト膜Rを形成する。 - 特許庁

例文

Consequently, both outsides R at the lower edge of the substrate W are also dried sufficiently, and the generation of the spot resulting from the liquid residue is prevented.例文帳に追加

その結果、基板Wの下縁の両外側Rをも十分に乾燥させることができ、液残りに起因するシミの発生を防止できる。 - 特許庁

例文

In the high-light-level image taking, when it is determined that the photoelectrons of the W pixels are saturated from each photoelectron of the R pixels, the G pixels, the B pixels, the Y signal is generated from each photoelectron of the R pixels, the G pixels, and the B pixels.例文帳に追加

高光量撮像時に、R画素,G画素,B画素の各光電子からW画素の光電子が飽和すると判断した場合には、R画素,G画素,B画素の各光電子からY信号を生成する。 - 特許庁

A channel estimation part 13 calculates the impulse response of a pilot symbol, and a discrete Fourier transformation part 20 and a weight vector calculation part 21 calculate a correlation matrix R and a correlation vector (v) to obtain w=R^-1v.例文帳に追加

チャネル推定部13において、パイロットシンボルのインパルス応答を求め、離散フーリエ変換部20、重みベクトル計算部21において、相関行列Rと相関ベクトルvを算出し、w=R^-1vを求める。 - 特許庁

When making a desired print on the printable layer 7 of this CD-R, the printer is set to the CD-R/CD-W drive mode, and the information has to be read in advance about the above printable area.例文帳に追加

このCD−Rの印刷可能な層7に所望の印刷を施すに際しては、あからかじめ、これをCD−R/CD−RWドライブにセットして、前記印刷可能領域に関する情報を読み取る。 - 特許庁

In the transmission type liquid crystal display device including a liquid crystal panel and a back light, the liquid crystal panel is a liquid crystal panel 13 having pixels each divided into four sub-pixels of red (R), red (R), green (G), blue (B), and white (W).例文帳に追加

液晶パネルとバックライトとを備えた透過型液晶表示装置において、液晶パネルは、1画素が、赤(R)、緑(G)、青(B)、および白(W)の4サブピクセルに分割されている液晶パネル13とする。 - 特許庁

An electrode rod 20 connected to a controller 42 forming a detection output means and an output means 40 through an electric wire 22 is arranged in parallel to a reel R in the vicinity of the reel R wound around the wire W.例文帳に追加

ワイヤWが巻回されたリールRの近傍に、電線22を介して検知出力手段となるコントローラ42及び出力手段40に接続された電極棒20が、リールRと平行に設置されている。 - 特許庁

(in formula, R^1 denotes a hydrogen atom or a methyl group, R^2 denotes a 4-18C chain type saturated aliphatic hydrocarbon group, W denotes an ethylene group or a propylene group, and n denotes an integer of 0 to 2).例文帳に追加

(式中、R^1は、水素原子又はメチル基を表し、R^2は、炭素数4〜18の鎖式飽和脂肪族炭化水素基を表す。Wは、エチレン基又はプロピレン基を表す。また、nは、0〜2の整数を表す。) - 特許庁

The underwater imaging device R comprises a screen Q which is located below the surface t of the water S stored in a water storage part W disposed on the floor F and a projector P attached to the above side of the water storage part W.例文帳に追加

水中映像装置Rは、床Fに設けた貯水部W内に貯留した水Sの水面tよりも下に配置したスクリーンQと、貯水部Wの上方に取り付けたプロジェクターPとから構成される。 - 特許庁

When a sensor case 1 having the electronic component 3 in the case 2 is attached on a well part W of a rim R, for example, the mounting force of the case 2 to the well part W is made to be smaller than breaking stress of the case 2.例文帳に追加

例えば、リムRのウエル部Wに、ケース2内に電子部品3を収納してなるセンサケース1を取り付ける際に、ケース2のウエル部Wへの取り付け力をケース2の破壊応力よりも小さくする。 - 特許庁

The exposure system EX includes a rotatable reticle R having patterns to be projected to a wafer W as an exposed material, and a movable wafer stage WST which holds the wafer W and is movable in an XY surface.例文帳に追加

露光装置EXは、被露光体としてのウェハWに転写すべきパターンを有する回転可能なレチクルRと、ウェハWを保持してXY面内で移動可能なウェハステージWSTとを備えている。 - 特許庁

The close contact of the irradiation object W with the light incident section 32 allows formation of a more gradual slope on the photoresist R, without immersion of the irradiation object W in the liquid, than in an exposure process in the air.例文帳に追加

被照射物Wが光入射部32に密着しているので、液体中に被照射物Wを浸すことなく大気中で露光するよりレジストRの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 - 特許庁

The exposure apparatus EX is provided with a rotatable reticle R which has a pattern to be transferred to a wafer W as an object to be exposed, and a wafer stage WST which can move in an XY plane while holding the wafer W.例文帳に追加

露光装置EXは、被露光体としてのウェハWに転写すべきパターンを有する回転可能なレチクルRと、ウェハWを保持してXY面内で移動可能なウェハステージWSTとを備えている。 - 特許庁

The table for sticking device is provided with a wafer table 13 which supports the semiconductor wafer W, a ring frame table 14 which supports the ring frame R for mounting the wafer W, and a supporting means 15 which supports the tables 13 and 14 in a vertically movable state.例文帳に追加

半導体ウエハWを支持するウエハテーブル13と、半導体ウエハをマウントするリングフレームRを支持するリングフレームテーブル14と、これらテーブルを昇降可能に支持する支持手段15とを備えている。 - 特許庁

When performing the reel change by completing the roll R, when injecting the shower water W to the outer peripheral surface of the roll R from the nozzles 6, a surface of the roll R is wetted, and since air does not infiltrate when the superimposed paper is brought into close contact with each other, the unwinding of the upper winding part is prevented.例文帳に追加

巻取Rが完成して枠替えが行われる際に、前記ノズル6からシャワー水Wを巻取Rの外周面に噴射すると、巻取Rの表面が湿らされ、重畳する紙が密着して空気が浸入しないから、上巻き部分の巻き解けが防止される。 - 特許庁

A substrate treatment system is equipped with a heating plate 32 which heats a wafer W coated with resist in a hermetically closed treatment chamber R, a vacuum pump 26 which depressurizes the treatment chamber R, and a control means which controls a heating temperature and the internal pressure of the treatment chamber R so as to remove impurities deposited on the resist.例文帳に追加

密閉された処理室R内でレジストが塗布されたウエハWを加熱する熱板32と、処理室R内を減圧する真空ポンプ26と、レジストに付着した不純物を除去するように加熱温度と処理室R内の圧力とを制御する制御手段とを有する。 - 特許庁

In the plastic working, a mandrel M is arranged on a main shaft 3, the workpiece W is fit outside the mandrel M and working is applied to the workpiece W with drawing rollers R, wherein the accuracy of deflection of the workpiece W fit outside the mandrel M is measured before working and the plastic working speed is changed in accordance with the amount of deflection.例文帳に追加

主軸3にマンドレルMを配設し、該マンドレルMにワークWを外嵌し、絞りローラRによってワークWに加工を施す塑性加工方法において、加工前にマンドレルMに外嵌したワークWの振れ精度を測定し、振れ量に応じて塑性加工速度を変更する。 - 特許庁

The system includes a plate material processing machine 1 for cutting out a plurality of the part plate material w from raw plate material W, a part information attaching means 21 to attach a recording part R in which part plate material information F4 is recorded on the part plate material w, and a means 23 to generate the part plate material information F4.例文帳に追加

素材板材Wから複数の部品板材wを切り取る板材加工機1と、部品板材wに部品板材情報F4を記録した記録部Rを付与する部品情報付与手段21と、部品板材情報F4を生成する手段23とを備える。 - 特許庁

Then, a projecting installation piece 33 is attached to an outer case body 204 which contains a R/W unit 56, and an antenna 68 is attached to the installation piece 33.例文帳に追加

また、R/Wユニット56を収納した外ケース本体204に、取付片33が突設されており、その取付片33に、アンテナ68が取り付けられている。 - 特許庁

An R/W (reader/writer) unit constantly calls an IC (integrated circuit) tag installed at a substrate box and a big prize-winning port and monitors the presence and absence of responses and an ID code.例文帳に追加

R/Wユニットは、基板ボックスと大入賞口に設置されたICタグを常時呼び出して応答の有無とIDコードを監視している。 - 特許庁

A reception circuit (RX) 210 of a tag (RFID device) 200 receives a modulated wave and a non-modulated wave transmitted by a reader/writer (R/W) 100.例文帳に追加

タグ(RFIDデバイス)200の受信回路(RX)210は、リーダライタ(R/W)100が送信した変調波及び無変調波を受信する。 - 特許庁

An antenna 6 is attached to an attaching piece 3 projected from an outer case body 204 storing an R/W (reader/writer) unit 56.例文帳に追加

また、R/Wユニット56を収納した外ケース本体204に、取付片33が突設されており、その取付片33に、アンテナ68が取り付けられている。 - 特許庁

A management server 112 obtains RFID-R/W ID information read from the RFID tag, and ID information of the read RFID tag.例文帳に追加

管理サーバ112は、RFIDタグを読み取ったRFID−R/WのID情報と、読み取られたRFIDタグのID情報を取得する。 - 特許庁

At the time of finishing the development of the resist film R, a developer solution H2 having lower concentration than that of the developer solution H1 is fed to the surface of the wafer W.例文帳に追加

レジスト膜Rの現像が終了した時点で、ウェハW上に現像液H1よりも濃度が低い現像液H2を供給する。 - 特許庁

For writing, an on-track position of the read head R determined by a core shift correction quantity from a write head W is further corrected with a track shift correction quantity.例文帳に追加

書き込みの場合には、ライトヘッドWからコアずれ補正量で決るリードヘッドRのオントラック位置を、さらにトラックずれ補正量により補正する。 - 特許庁

When the target ID randomization flag is determined to be valid, a partial randomization ID is notified as a target ID to an R/W 10.例文帳に追加

ここで、ターゲットID乱数化フラグが有効であると判定された場合、ターゲットIDとして一部乱数化IDがR/W10に通知される。 - 特許庁

The steam jetting nozzle 21 is arranged at a prescribed treating position on the upper surface Wa of a substrate rotating around the rotary axis R of the substrate W.例文帳に追加

基板Wの回転軸Rを中心として回転させられている基板上面Waに蒸気噴射ノズル21が処理位置でもって配置される。 - 特許庁

The reticle R is a tubular type, for example, a cylindrical type, a columnar type or the like, and the patterns to be transferred to the wafer W are formed on its circumference.例文帳に追加

レチクルRは、例えば円筒形状又は円柱形状等の筒形状であり、その周上にウェハWに転写すべきパターンが形成されている。 - 特許庁

Various data such as a type of the product, a lot number, and a slit number, etc., are written on the RFID tag by using an RFID R/W 31 at a cutting process.例文帳に追加

RFIDタグには、裁断工程でRFID R/W31を用いて品種,ロット番号,スリット番号等の各種データを書き込む。 - 特許庁

To prevent the redundant processing of a command that is already executed when an IC card executes again the commands given from a card R/W(reader/writer).例文帳に追加

ICカードがリーダライタから与えられたコマンドの再実行処理を行う場合に、既に実行済みのコマンド処理を重複して実行するのを防止する。 - 特許庁

To reduce a waiting time up to a processing end by simultaneously operating a plurality of portable information processors that perform non-contact communication with a single R/W(reader/writer).例文帳に追加

1台のR/Wで非接触通信する複数の携帯可能情報処理装置を同時に動作させ、処理終了までの待ち時間を短縮する。 - 特許庁

In a log-on system 10, when a user logs on a client terminal 2, his/her own IC card 4 possessed by the user is inserted to an IC card R/W 3.例文帳に追加

ログオンシステム10において、ユーザがクライアント端末2にログオンする場合、ユーザが所持している自己のICカード4をICカードR/W3に挿入する。 - 特許庁

Each of a plurality of pixels, arranged into a matrix form, includes picture elements of four colors, comprising R (red), G (green), B (blue) and W (white) picture elements.例文帳に追加

マトリクス状に配列された複数の各画素は、R(赤)絵素、G(緑)絵素、B(青)絵素およびW(白)絵素の4色の絵素をそれぞれ備える。 - 特許庁

To the contrary, when the target ID randomization flag is determined to be invalid, the card-unique ID is notified as a target ID to the R/W.例文帳に追加

反対に、ターゲットID乱数化フラグが無効であると判定された場合には、ターゲットIDとしてカード固有IDがR/Wに通知される。 - 特許庁

The consumption of power for one rolled stock = a1.T+a2.W+a3.L+a4.R, where, a1, a2, a3, and a4 are coefficients determined by the rolling mill.例文帳に追加

圧延材1本の使用電力量=a1・T+a2・W+a3・L+a4・R 但し、a1、a2、a3、a4は圧延機によって決まる係数である。 - 特許庁

When the instruction signal is entered, the R/W unit 30 makes the antenna member 21 transmit an electromagnetic wave via the connecting cable 25 and the connector 23.例文帳に追加

この指令信号が入力されると、R/Wユニット30は、接続ケーブル25及びコネクタ23を通じてアンテナ部材21から電磁波を送信させる。 - 特許庁

An SDRAM interface part 122 requests a memory controller 125 to perform data R/W and hold the data, holding 3D-LUT data and uncorrected pixel data.例文帳に追加

SDRAMインタフェース部122は、メモリコントローラ125に対してデータのR/W要求及びホールドを行い、3D−LUTデータ、補正前の画素データを保持する。 - 特許庁

Thus, mist M of the resist R, spreading in all the directions due to the centrifugal force of a spinning wafer W, is prevented from flying out of the cup CP.例文帳に追加

これにより、ウエハWの回転遠心力により拡散するレジストRのミストMがカップCPの外部へ飛散するのを防止することができる。 - 特許庁

The authentication device 5 verifies the justice of the tag 1 by using these received information and returns the verified result to the R/W device 2.例文帳に追加

認証装置5は、受信したこれらの情報を用いてタグ1の正当性を検証し、その検証結果をR/W装置2へ返送する。 - 特許庁

The R channel to the W channel of the subcode 8 are a control data area released to a user and a control data area to be neglected when duplicated.例文帳に追加

サブコード8のRチャンネル〜Wチャンネルは、ユーザに開放されている制御データ領域であって、複製時に無視される制御データ領域である。 - 特許庁

An R/W (Reader/Writer) unit 42 repeatedly monitoring wireless communication is provided between the IC tag 20 and the antenna 32 facing to each other in the closed position.例文帳に追加

そして、閉成位置に対応するICタグ20およびアンテナ32の間において無線通信を繰返して監視するR/Wユニット42が設けられている。 - 特許庁

例文

In the projection optical system of forming an image of a first plane (R) on a second plane (W), an optical path between the first and second planes is filled with a solution (Lm).例文帳に追加

第1面(R)の像を第2面(W)に形成する本発明の投影光学系では、第2面との間の光路が液体(Lm)で満たされている。 - 特許庁




  
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