「active substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

A semiconductor laser diode 10 is provided with a ZnO substrate 12, a pseudo-lattice matching layer 13, a lower clad layer 14, a light guide layer 21, an active layer 15, a light guide layer 22, an upper clad layer 16, and a contact layer 17 sequentially formed on the substrate.例文帳に追加

半導体レーザダイオード１０は、ZnO基板１２と、この基板上に順に形成される擬似格子整合層１３、下部クラッド層１４、光ガイド層２１、活性層１５、光ガイド層２２、上部クラッド層１６及びコンタクト層１７とを備える。 - 特許庁

When the thickness of an active matrix substrate and that of a counter substrate in the liquid crystal panel is represented by d (mm) and an area of a pixel opening part in the liquid crystal panel is represented by a (μm^2), the liquid crystal panel is designed so as to satisfy an inequality d>-0.0016a+1.26.例文帳に追加

液晶パネルにおけるアクティブマトリクス基板の厚み、及び対向基板の厚みが、厚みｄｍｍ、液晶パネルにおける絵素開口部面積をａμｍ^2としたとき、ｄ＞−０．００１６ａ＋１．２６の式を満たすように設計されている。 - 特許庁

A semiconductor device in an embodiment comprises: a semiconductor substrate; an element region of a memory cell provided on the semiconductor substrate; and an active region and an element isolation region formed in a line-and-space pattern in the element region of the memory cell.例文帳に追加

本実施形態の半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に設けられたメモリセルの素子領域と、前記メモリセルの素子領域にラインアンドスペースパターン状に形成された活性領域および素子分離領域とを備える。 - 特許庁

This optical modulator 10 comprises an optoelectronic substrate 2, an optical waveguide 1 which is formed in the substrate and has a variable refractive index, and an active modulator electrode 3 formed on the substrate concerning the waveguide, so that optoelectronic changes take place in the refractive index, when a modulated signal is impressed to the electrode.例文帳に追加

電気光学的基板２と、基板内に形成され可変屈折率を持つ光導波路１と、電極に対する変調信号の印加時に屈折率の電気光学的変化を生じるように導波路に関して基板上に形成された能動型変調器電極３とを含む共振型光変調器１０。 - 特許庁

To provide an active matrix substrate of which the cost can be reduced and waste in members and energy can be eliminated by forming a plurality of value-added thin film transistors(TFT) or semiconductor circuit element groups on a first substrate, and partially transferring them to needed portions of a second substrate, and to provide a display using the same and a manufacturing method.例文帳に追加

付加価値の高い薄膜トランジスタ(TFT)や半導体回路を第１の基板に複数作り、第二の基板の必要部分に移載することにより、アクティブマトリクス基板のコストを下げ、部材やエネルギーの無駄を低減したアクティブマトリクス基板とそれを用いた表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, using an SOI for preventing nonuniformity in coating of a photoresist and disconnection in the step part of metal wiring caused by a sharp step formation, when the step of a silicon active layer and a semiconductor supporting substrate is increased, when forming the opening part of the semiconductor support substrate for forming a protecting element on the semiconductor supporting substrate.例文帳に追加

半導体支持基板に保護素子を形成するための半導体支持基板の開口部の形成時の、シリコン活性層と半導体支持基盤の段差増大時の、フォトレジストのコートムラと、急な段差形成による金属配線の段差部での断線を防止するＳＯＩを用いた半導体装置の提供。 - 特許庁

The light irradiation part 11 is relatively moved in the direction parallel to the substrate W and crossing the tube axes of the lamps 11a at a right angle by a drive mechanism 24 and the whole of the substrate W is irradiated with ultraviolet rays while supplying air or oxygen and active oxygen is generated to decompose the organic matter on the substrate W.例文帳に追加

光照射部１１を、駆動機構２４により、基板Ｗと平行にかつランプ１１の管軸に直交する方向に相対的に移動させ、エアーまたは酸素を供給しながら基板全体に紫外線を照射することにより、活性酸素が発生し基板Ｗ上の有機物が分解される。 - 特許庁

Before a layer structure having at least one layer of a signal recording layer is formed on the surface of the supporting substrate made of a thermoplastic resin, the method includes a surface treatment process to treat the surface of the supporting substrate by disposing the substrate in an active gas atmosphere such as ozone and then to stop the surface treatment by using an inert gas such as nitrogen.例文帳に追加

熱可塑性樹脂製の支持基板表面に、少なくとも１層の信号記録層を含む層構造を形成するに先立ち、該支持基板をオゾンなどの活性ガス雰囲気中に置くことにより表面処理し、ついで、窒素などの不活性ガスで表面処理を停止する表面処理工程を具える。 - 特許庁

To suppress deterioration of exhaust gas purification capability of an exhaust gas purification catalyst containing an alkali metal or an alkaline earth metal on a Cr-containing substrate because of cracking of the substrate caused by a migration of Cr of the substrate to the catalytic active component side and reaction of Cr with the alkali metal or alkaline earth metal.例文帳に追加

Ｃｒを含有する基材上にアルカリ金属又はアルカリ土類金属を設けた排ガス浄化触媒において、基材中のＣｒが触媒活性成分側へ移動してアルカリ金属又はアルカリ土類金属と反応し、基材の割れ、排ガスガス浄化性能の低下が生ずるのを抑制する。 - 特許庁

The photoelectric converter which is constituted by using a B doped p-type crystal silicon substrate is constituted of a bulk substrate region which is an optical active region, and the other portion except the bulk substrate region.例文帳に追加

Ｂドープｐ型結晶シリコン基板を用いて構成された光電変換装置であって、光活性領域であるバルク基板領域部分と、このバルク基板領域以外の部分とからなり、バルク基板領域部分を単独で取り出して、少数キャリア拡散長を光入射面側から測定したときに、０．５＜（Ｌ１／Ｌｐｅａｋ）とする。 - 特許庁

To provide a substrate for a liquid crystal display (LCD) device with which a manufacturing process is simplified and which has high reliability, and to provide a method for manufacturing the substrate and an active matrix LCD device using the substrate.例文帳に追加

本発明は、アクティブマトリクス型の液晶表示装置に用いられる液晶表示装置用基板及びその製造方法に関し、製造工程を簡略化でき、かつ高い信頼性を有する液晶表示装置用基板及びその製造方法及びそれを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The whole outer periphery of a display panel 11 formed by opposing an element substrate 12 having organic transistors to be active-matrix driven and a transparent counter substrate 13 having a common electrode to each other is sealed with a sealing agent 30 which is transparent at least on the side of the counter substrate 13 and prevents water from entering.例文帳に追加

アクティブマトリックス駆動を行なう有機トランジスタを有する素子基板１２と、共通電極を有する透明性を有する対向基板１３を相対向させて形成した表示パネル１１の外周全体を、少なくとも対向基板１３側は透明で水分の浸入を防ぐ封止材３０にて封止する。 - 特許庁

An active matrix substrate 1, which is provided with a charge storage capacitor 4 and a TFT 5, and an opposing substrate 2, which is provided with a semiconductor substrate, are bonded to each other by using a connecting material (a photosensitive resin 3) with conductivity and bonding property that are patterned in accordance with pixel electrodes of the charge storage capacitor 4.例文帳に追加

電荷蓄積容量４およびＴＦＴ５を具備したアクティブマトリクス基板１と、半導体基板を備えた対向基板２とを、電荷蓄積容量４の画素電極に対応させてパターニングされた導電性および接着性を有する接続材（感光性樹脂３）を用いて接着する。 - 特許庁

The connecting structure of a flexible print circuit board (substrate) 9 thermo-compression-bonded to an active matrix substrate (substrate to be connected) 5 includes electrodes 9c formed on a surface of the flexible print circuit board 9 and a plurality of grooves 9d disposed in the flexible print circuit board 9 so as to grip the electrodes 9c.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板（被接続基板）５に対して、熱圧着されるフレキシブルプリント回路基板（基板）９の接続構造において、フレキシブルプリント回路基板９の表面上に形成された電極９ｃと、電極９ｃを挟むように、フレキシブルプリント回路基板９に設けられた複数の溝９ｄを備えている。 - 特許庁

The nitride semiconductor light-emitting device includes: a nitride semiconductor substrate 10; a nitride semiconductor layer which is formed on a first main face of the nitride semiconductor substrate 10, and has an active layer 13 generating a light; and an electrode 20 formed on a second main face of the nitride semiconductor substrate 10.例文帳に追加

窒化物半導体発光素子は、窒化物半導体基板１０と、窒化物半導体基板１０の第１の主面上に形成され、光を生成する活性層１３を有する窒化物半導体層と、窒化物半導体基板１０の第２の主面上に形成された電極２０とを備えている。 - 特許庁

The cured coating film formation method is used for an active energy-curable composition and involves a step of applying the active energy- curable composition to a substrate surface, a first radiation step of radiating active energy in a gas atmosphere having 15% or higher oxygen concentration, and a second radiation step of radiating active energy in a gas atmosphere having less than 15% oxygen concentration in this order.例文帳に追加

活性エネルギー線硬化性組成物の硬化皮膜形成方法であって、基材表面に、活性エネルギー線硬化性組成物を塗工する工程の後、酸素濃度１５％以上のガス雰囲気中で活性エネルギー線を照射する第一の照射工程、及び、酸素濃度１５％未満のガス雰囲気中で活性エネルギー線を照射する第二の照射工程をこの順に有することを特徴とする硬化皮膜の形成方法。 - 特許庁

In the liquid crystal display having a liquid crystal interposed between first and second substrates, the first substrate 30 is a substrate of an active matrix structure provided with a thin film transistor 4 and the second substrate 40 is a substrate provided with a color filter 9 and protrusion parts 13 disposed on the prescribed region of the color filter 9 and forming conductive films 14 at their tip parts.例文帳に追加

本発明における液晶表示装置は、第１，第２の基板間に液晶を挟持した液晶表示装置であって、第１の基板３０は、薄膜トランジスタ４を備えるアクティブマトリクス構造の基板であり、第２の基板４０は、カラーフィルタ９、カラーフィルター９の所定の領域上に配設した先端に導電膜１４を形成する突起部１３、を備える基板である。 - 特許庁

This substrate for a biochip for immobilizing a physiologically active substance onto the surface of a solid phase substrate has on the substrate surface a layer including a high molecular compound acquired by copolymerizing an ethylene-based unsaturated polymeric monomer having an alkylene glycol residue, an ethylene-based unsaturated polymeric monomer having a functional group for immobilizing the physiologically active substance and an ethylene-based unsaturated polymeric monomer having a bridgeable functional group.例文帳に追加

固相基板の表面に生理活性物質を固定化するバイオチップ用基板であって、基板表面にアルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー、生理活性物質を固定化する官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー及び架橋可能な官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマーを共重合して得られる高分子化合物を含む層を有することを特徴とするバイオチップ用基板。 - 特許庁

The CMOS image sensor includes: a first conduction-type semiconductor substrate defined in an active region and an element isolation region; an element isolation film formed in the element isolation region of the semiconductor substrate; a second conduction-type diffusion region formed in the active region of the semiconductor substrate; and a first conduction-type doping region and insulation film formed between the element isolation film and the second conduction-type diffusion region.例文帳に追加

本発明に係るＣＭＯＳイメージセンサーは、アクティブ領域と素子分離領域とで定義された第１導電型の半導体基板と、前記半導体基板の素子分離領域に形成される素子分離膜と、前記半導体基板のアクティブ領域に形成される第２導電型の拡散領域と、前記素子分離膜と第２導電型の拡散領域との間に形成される第１導電型のドーピング領域及び絶縁膜とを含む。 - 特許庁

A display device includes wiring including a first layer containing a thermoresistant conductive material and a second layer containing Al and Nd in a terminal portion of an active matrix substrate used for the display device, and a transparent conductive film electrically connected to the wiring, wherein the transparent conductive film is electrically connected through an anisotropical conductive material to a circuit provided on a substrate different from the active matrix substrate.例文帳に追加

表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板の端子部において、耐熱性導電性材料を含有する第１の層と、Ａｌ及びＮｄを含有する第２の層と、を含む配線と、前記配線に電気的に接続された透明導電膜と、を有し、前記透明導電膜は、異方性導電材を介して、前記アクティブマトリクス基板とは異なる基板に設けられた回路に電気的に接続されていることを特徴とする。 - 特許庁

The chart 10 for resolution evaluation used for evaluating the imaging performance of the coherent Raman microscope includes: a substrate 11 optically smooth for illumination light and not emitting fluorescence for illumination light excitation; and a Raman active layer 12 containing a Raman active substance not emitting fluorescence for illumination light excitation by being two-dimensionally formed on the substrate 11 and having oscillation spectrum different from the substrate 11.例文帳に追加

コヒーレント・ラマン顕微鏡の結像性能を評価するのに用いる解像度評価用チャート１０であって、照明光に対して光学的に平滑で、かつ照明光励起に対して蛍光を発光しない基板１１と、基板１１上に二次元的に形成され、基板１１とは異なる振動スペクトルを有し、かつ照明光励起に対して蛍光を発光しないラマン活性物質を含むラマン活性層１２と、を有する。 - 特許庁

A space surrounded with an active matrix substrate 450, a spacer 442 and a cover member 440 is filled with a curable sealing material, and the curable sealing material is hardened to form a sealing layer 444.例文帳に追加

アクティブマトリックス基板450、スペーサー442及び蓋部材440で囲まれる空間に、硬化型封止材料を充填し、硬化型封止材料を硬化させて封止層444が形成される。 - 特許庁

The active energy ray-curable coating agent which has used the resin composition as a base is prepared, is applied to the surface of a substrate, and is cured, thereby obtaining moldings such as ink-receiving layer.例文帳に追加

該樹脂組成物をベースにした活性エネルギー線硬化性コート剤を調製し、基材表面に塗布、硬化させることによりインク受理層等の成型品を得ることができる。 - 特許庁

The light emitting section of the semiconductor light emitting element is constituted by successively growing an n-type lower clad layer 12, an active layer 13, and a p-type upper clad layer 14 on an n-type GaAs substrate 11 by the MOCVD method.例文帳に追加

ｎ型ＧaＡs基板１１上に、ＭＯＣＶＤ法により、ｎ型下部クラッド層１２、活性層１３、p型上部クラッド層１４を順次成長させて発光部を構成する。 - 特許庁

The element 10 is produced by laminating successively on the substrate 1 the reflecting layer 2, the cavity spacer layer 3, the active layer 4, the cavity spacer layer 5, the reflecting layer 6, the selectively oxidized layer 7, and the contact layer 8.例文帳に追加

反射層２、共振器スペーサー層３と、活性層４、共振器スペーサー層５、反射層６、選択酸化層７およびコンタクト層８は、順次、基板１上に積層される。 - 特許庁

Since the active region of the second element is formed by avoiding the border surface between the support substrate and the second semiconductor layer, the leak current is suppressed, thereby enhancing the characteristic of the device.例文帳に追加

上記第２の素子の活性領域を、上記支持基板と第２の半導体層との界面を避けて形成できるので、リーク電流を抑制でき、デバイスの特性を向上できる。 - 特許庁

Accordingly, the crystal defect that might otherwise be introduced in the semiconductor substrate 2 and an active layer 12 due to strain etc., can be restrained, resulting in suppression of the degradation of light emission characteristics of a semiconductor laser element 1.例文帳に追加

したがって、歪み等によって半導体基板２や活性層１２に結晶欠陥が生じることを抑え、半導体レーザ素子１の発光特性の劣化を抑止できる。 - 特許庁

FORMING METHOD OF THIN FILM PATTERN, DEVICE AND ITS PRODUCTION METHOD, PRODUCTION METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, PRODUCTION METHOD OF ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, ELECTROOPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

薄膜パターン形成方法、デバイスとその製造方法、液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、アクティブマトリクス基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁

To enhance display quality of a high definition liquid crystal display panel, wherein there is no fear that a doubly exposed splice region is visually viewed in an active matrix substrate.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板において２重露光処理される継ぎ部領域が目視されるおそれがなく、高精細化された液晶表示パネルの表示品位を著しく向上させることができる。 - 特許庁

A gate insulating film 5 is formed in an active region composed of a silicon substrate 1 including an n-type MIS transistor formation region RTn and a p-type MIS transistor formation region RTp.例文帳に追加

ｎ型ＭＩＳトランジスタ形成領域ＲＴｎ及びｐ型ＭＩＳトランジスタ形成領域ＲＴｐのシリコン基板１からなる活性領域上にゲート絶縁膜５を形成する。 - 特許庁

On a ZnO single crystal substrate 1, an n-type contact layer 6, an n-type clad layer 7, an active layer 8, p-type clad layer 9, and a p-type contact layer 10 are sequentially laminated.例文帳に追加

ＺｎＯ単結晶基板１上にｎ形コンタクト層６、ｎ形クラッド層７、活性層８、ｐ形クラッド層９、及びｐ形コンタクト層１０が順次積層されている。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable composition for moldings, excellent in curing property, and giving moldings excellent in scratch resistance, rigidity, transparency, adhesion with a substrate and antistatic property.例文帳に追加

硬化性に優れ、耐傷性、剛性、透明性、基材との密着性および帯電防止性に優れた成形体を与える成形体用活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

On each pixel area 41 on a liquid crystal TFT array substrate, an ITO transparent electrode 43, a gate line 48, a data line 46, a TFT active element 45, an identification mark 50, etc., are formed.例文帳に追加

液晶ＴＦＴアレイ基板の各画素領域４１には、ＩＴＯ透明電極４３、ゲート線４８、データ線４６、ＴＦＴアクティブ素子４５、識別マーク５０等が形成されている。 - 特許庁

A field oxide film for electrically isolating an NMOS from a PMOS is formed by depositing a silicon oxide film on the active layer of an SOI substrate by using a LOCOS method.例文帳に追加

ＮＭＯＳとＰＭＯＳとを電気的に分離するフィールド酸化膜を、ＬＯＣＯＳ法を用いてＳＯＩ基板の活性層にシリコン酸化膜を成膜することにより形成する。 - 特許庁

Similarly, an insulating layer under a pixel electrode on an active matrix substrate is removed to form a groove, the pixel electrode is formed so as to cover the groove and the groove is made the alignment means instead of a slit.例文帳に追加

同様にアクティブ基板上の絵素電極下の絶縁層を除去して溝を形成し、この溝を覆うように絵素電極を形成してスリットに代えて溝を配向手段とする。 - 特許庁

Single crystal silicon 10 is deposited on a sapphire substrate 10 and Si3N4 is deposited in an active region and then they are oxidized to fom an oxide film 30 at an isolation region.例文帳に追加

サファイア基板１０上に単結晶シリコン１０を形成させると共に、アクティブ領域にＳｉ_3 Ｎ_4 を形成して酸化処理を行うと、素子分離部に酸化膜３０が形成される。 - 特許庁

The active matrix substrate or electro-optical device where a dual-gate thin-film transistor is formed has, for example, a region of channel polysilicon and a pixel electrode arranged overlapping each other in a plane.例文帳に追加

デュアルゲートの薄膜トランジスタが形成されたアクティブマトリクス基板又は電気光学装置において、例えば、チャネルポリシリコンの領域と、画素電極とが平面的に重なるように配置する。 - 特許庁

In an active region of a semiconductor substrate, a conductive layer 32 and offset insulating film 23a are formed, while a side wall insulating film 24a on its side wall part, with an etching stopper film 25 formed on the entire surface.例文帳に追加

半導体基板の活性領域に導電層３２、オフセット絶縁膜２３ａおよびその側壁部にサイドウォール絶縁膜２４ａを形成し、全面にエッチングストッパ膜２５を形成する。 - 特許庁

Here, the outer peripheral section of the rear surface 10b is the other part than the region corresponding to a circuit forming region including at least an electronic circuit formed on the active surface 10a of the substrate 10.例文帳に追加

ここで、裏面１０ｂの外周部は少なくとも基板１０の能動面１０ａに形成された電子回路を含む回路形成領域に対応する領域以外の部分である。 - 特許庁

To provide a display device having pixel transistors and driving transistors for driving the pixel transistors respectively formed on an identical substrate, adapted to raise mobilities in the active regions of the driving transistors and achieve speed-up thereof.例文帳に追加

画素トランジスタ及びこれを駆動する駆動トランジスタが夫々同じ基板上に形成された表示装置において、駆動トランジスタの活性領域の移動度を高め、その高速化を図る。 - 特許庁

Next, the sidewalls 28 are removed; areas between the element separation grooves 29 and areas between the active regions 16 are embedded by insulation films 14; and etching is executed until the upper surface of the substrate region 40 is exposed.例文帳に追加

次に、側壁２８を除去し、素子分離溝２９間、および活性領域１６間を絶縁膜１４で埋め、基板領域４０上面が露出するまでエッチングする。 - 特許庁

At least a laminate of a gate insulation film 6 and a gate electrode 7, and an active region 13 are formed on a silicon substrate and then an underlying interlayer insulating film 10 is also formed.例文帳に追加

シリコン基板上に、ゲート絶縁膜６及びゲート電極７の積層体と、活性領域１３とを少なくとも形成し、更に下地層間絶縁膜１０を形成する。 - 特許庁

This alkaline storage battery is provided with the cadmium negative electrode formed by applying paste containing a cadmium active material mainly containing a cadmium oxide or a cadmium hydroxide to an electrode substrate.例文帳に追加

本発明のアルカリ蓄電池は酸化カドミウムまたは水酸化カドミウムを主体とするカドミウム活物質を含有するペーストが電極基板に塗着されたカドミウム負極を備えている。 - 特許庁

To provide an active matrix substrate which facilitates connecting to externals at low temperatures and is capable of holding the resistance value constant.例文帳に追加

低温で外部との接続が容易であり、また抵抗値を一定に維持することができるアクティブマトリクス基板およびそれを用いた二次元画像検出器並びに表示装置を提供する。 - 特許庁

To widen the angle of visibility by reducing the influence of a light leakage region on a data line, even when a color filter is provided on a TFT substrate side, in an active matrix type liquid crystal display device.例文帳に追加

アクティブマトリクス型液晶表示装置において、カラーフィルタをＴＦＴ基板側に設ける場合であっても、データ線上の光漏れ領域の影響を軽減して視野角を広くする。 - 特許庁