「electron rays」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The negative type resist composition contains an alkali-soluble resin containing specified repeating units as a component, a crosslinker which causes crosslinking under an acid, a compound which generates the acid when irradiated with electron beams or X-rays and a fluorine- and/or silicon- containing surfactant.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を構成成分として含有するアルカリ可溶性樹脂、酸により架橋する架橋剤、電子線またはＸ線の照射により酸を発生する化合物、及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、を含有することを特徴とする電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The lithographic printing original plate has on a support a recording layer which contains (A) an infrared absorbent having a substituent having an unshared electron pair bonding moiety and a hydrogen atom capable of hydrogen bond, and capable of forming thermally reversible two or more hydrogen bonds, and which can form an image upon irradiation with infrared rays.例文帳に追加

支持体上に、（Ａ）非共有電子対結合部位と水素結合可能な水素原子とを有し、熱的に可逆な２以上の水素結合を形成しうる置換基を有する赤外線吸収剤を含有し、赤外線の照射により画像形成可能な記録層を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems relating to the techniques to improve the performance in microfabrication of semiconductor elements using high energy beams, in particular, which has high sensitivity and high resolution and satisfies both of a preferable pattern profile and line edge roughness for KrF excimer laser, X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

This laminated body has an anchor coat layer containing 50 mass% or more of polyacrylic acid resin, a hard coat layer containing 50 mass% or more of (meth)acrylic resin which is already through with curing through chemical reaction by ultraviolet rays or electron radiations, and the barrier film layer composed of the inorganic chemical compound, laminated in this order on at least one surface of the base.例文帳に追加

基材の少なくとも一方の面に、ポリアクリル酸樹脂を５０質量％以上含むアンカーコート層と、紫外線または電子線により反応・硬化させた（メタ）アクリル樹脂を５０質量％以上含むハードコート層と、無機化合物からなるバリア性薄膜層とが、この順番で積層されている。 - 特許庁

In a semiconductor light-emitting element with a first-conductive clad layer 3, an active layer 4 containing a quantum well, and a second- conductive clad layer 8 on a semiconductor substrate 1, at least one end face for forming a resonator in vacuum is heated by such method as the application of light, electron rays, or the like.例文帳に追加

半導体基板上に第一導電型クラッド層、活性層及び第二導電型クラッド層を有する半導体発光素子において、該活性層は、共振器を形成する少なくともひとつの端面近傍が、構成元素の一部が脱離することにより発振波長に対して透明化されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition through which performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements is provided using high energy rays and high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are simultaneously satisfied while using electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The active energy ray curable composition comprises (a) an oxetane ring compound which is a substance having two or more oxetane ring structures in the molecule, the oxygen atom constituting at least one oxetane ring having a highest electron density among all atoms constituting the molecule and (b) a substance which generates a cation by active energy rays.例文帳に追加

（ａ）分子内に２以上のオキセタン環構造をもつ物質であって、少なくとも一つのオキセタン環を構成する酸素原子が、分子を構成する全ての原子のなかで、最も電子密度が高いオキセタン化合物、（ｂ）活性エネルギー線によりカチオンを発生する物質を含む活性エネルギー線硬化型組成物。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which can be advantageously used as a resist for the production of an integrated circuit supposed to be made minuter in future by making the composition adaptable to any radiation, e.g. X-rays such as synchrotron radiation or charged corpuscular radiation such as electron beams besides far UV such as excimer laser light.例文帳に追加

エキシマレーザーなどの遠紫外線以外にも、シンクロトロン放射線などのＸ線、電子線などの荷電粒子線といった、放射線のいずれにも対応できるので、今後さらに微細化が進行すると予想される集積回路製造用のレジストとして有利に使用できる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a crosslinked expanded adhesive which is uniformly and sufficiently crosslinked and expanded independently of the transmittance of the radiation such as ultraviolet rays, electron beams, etc., against the components, shows an excellent stress relaxation property, memory effect and solvent resistance and has no disadvantage which usually accompanies low- molecular-weight acrylic copolymers.例文帳に追加

成分に対する紫外線や電子線などの放射線の透過性に関わらず、均一かつ十分な架橋及び発泡でもって優れた応力緩和特性、復元性及び耐溶剤性を有するとともに、低分子量アクリル系共重合体にまつわる欠点を有しない架橋型発泡粘着剤を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition excellent in storage stability as well as in resolution and environmental resistance as a chemical amplification type resist sensitive to active radiations, e.g. UV rays such as g- or i-line, KrF, ArF or F_2 excimer laser light, far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation) or an electron beam.例文帳に追加

活性放射線、例えば、ｇ線、ｉ線等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーもしくはＦ_２ エキシマレーザー、ＥＵＶに代表される遠紫外線、もしくは電子線などに感応する化学増幅型レジストとして、解像度、環境耐性に加え、保存安定性に優れる感放射性組成物を提供すること。 - 特許庁

When electron beams emitted from the two filaments 6 are irradiated on the two places on the outer circumference of the rotating anticathode 1, two point-focus X-rays 7 cross each other at an intersection 8 on further outside than the virtual vertex 4 of the head-cut cone of the rotating anticathode 1.例文帳に追加

そして、２つのフィラメント６から放出された電子線を回転対陰極１の外周面の２箇所に照射すると、この２箇所の照射部で発生した２本のポイントフォーカス用Ｘ線７が回転対陰極１の裁頭円錐の仮想頂点４よりも外側の交差点８で交差する。 - 特許庁

The hologram sheet material comprises: a long transparent hologram substrate 1 which is transparent to UV rays or electron beams; a transparent rugged thin film layer 2 formed on the surface of the hologram substrate 1 and suitable for reproducing a hologram; and a geometrical pattern formation part 3 locally formed on the transparent rugged thin film layer 2.例文帳に追加

本発明によるホログラム生地は、紫外線または電子線に透明な長尺の透明ホログラム基板１と、前記ホログラム基板１の表面に形成されホログラムの再現に適した透明凹凸薄膜層２と、前記透明凹凸薄膜層２の上に局部的に形成された幾何学模様形成部分３から構成されている。 - 特許庁

In the wafer static elimination method, electrons electrostatically charged in the wafer WEH are eliminated by irradiating the wafer WEH with soft X rays in the presence of an air current using an X-ray ionizer 1' before measuring the substrate current flowing to the wafer WEH by the electron beam irradiation, in a sample chamber in which a vacuum is produced.例文帳に追加

本発明のウェハの除電方法は、電子ビーム照射によりウェハＷＥＨに流れる基板電流を真空中の試料室内で測定する前に、Ｘ線イオナイザー１’を用いて軟Ｘ線を気流存在の条件下で、ウェハＷＥＨに向けて照射して、ウェハＷEＨに帯電している電子を除電する。 - 特許庁

Or else, CT images on the invisible internal state of the specimen are acquired by positron emission tomography (PET) by utilizing the fact that the efficiency of electron pair generation caused by high-energy X rays generated by the inverse-Compton varies according to the composition of the specimen, and that the heavier an element is, the higher the efficiency is.例文帳に追加

又は、レーザー逆コンプトンによって生成された高エネルギーのＸ線により起こる電子対生成は試料の組成によって効率が異なり、重い元素では効率は高いことを利用することにより、ポジトロン・エミッション・トモグラフィー（ＰＥＴ）によって見えない試料内部の状態のＣＴ画像を得る。 - 特許庁

The resist material applied on a substrate 10 so as to carry out microfabrication with light, electron beams or X-rays contains a liquid- crystalline polymer 11 which aligns in a direction perpendicular to the surface of the substrate 10 as the longitudinal direction in a resist film 12 in film formation on the substrate 10.例文帳に追加

光や電子線やＸ線による微細な加工処理を行うために基板１０上に塗布されるレジスト材料であって、基板１０上に成膜する際にレジスト膜１２内において基板１０の表面に対して垂直な方向を長手方向として並び得る液晶性の高分子１１を含む。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition through which problems associated with the performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements are solved and characteristics including high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are satisfied in the semiconductor microfabrication using especially electron beams and X-rays.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A characteristic X-ray emitted from a micro area 3 on the sample 2 in response to irradiation of an electron beam is collected efficiently by the X-ray lens 4 to be converted into a parallel beam, and the X-rays of the same wavelength are diffracted by the plane crystal 6 to be brought into a parallel beam, and is analyzed by an X-ray detector 8.例文帳に追加

電子線の照射に応じて試料２上の微小領域３から放出された固有Ｘ線をＸ線レンズ４で効率良く収集して平行線束に変換し、平板結晶６により同一波長のＸ線が平行線束となるように回折してＸ線検出器８により検出する。 - 特許庁

To provide a compact X-ray generating device for improving durability of electron emitting part through restraint of its temperature rise and extracting a large dose of X-rays, applicable for medical fields such as intravascular radiation therapy, cancer therapy, and medical diagnosis, and industrial and research fields such as nondestructive testing.例文帳に追加

電子放射部の温度上昇を抑制して電子放射部の耐久性を向上させ安定かつ大線量のＸ線を取り出すことが可能な、血管内放射線治療用、がん治療用、医療診断等の医療分野及び非破壊検査などの工業用、研究用分野にも適用できる小型Ｘ線発生装置の提供。 - 特許庁

Although there occurs a possibility that the container 2 of normal temperature transferred from outside may produce dew due to an increased temperature within the sterilization box 18 through irradiation with electron rays, an air-conditioning means 84 is installed in the sterilization box 18 to keep its interior temperature lower than the surrounding temperature, so that there occurs no possibility that the outer surface of the container 2 produces any dew condensation.例文帳に追加

電子線の照射により殺菌ボックス１８内の温度が上昇するため、外部から搬入された常温の容器２が結露を生じてしまうおそれがあるが、殺菌ボックス１８に空調手段８４を設けて、内部温度を外部よりも低温にしているため、容器２の外面に結露が生じることがない - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The composition contains an alkali-soluble block copolymer having a block unit (A) containing a specified repeating unit and a block unit (B) containing no alkali-soluble group, a compound which generates an acid by irradiation of electron beams, X-rays or EUV light, and a crosslinking agent which crosslinks by an acid.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を含有するブロック単位Ａとアルカリ溶解性基を含有しないブロック単位Ｂを含有するアルカリ可溶性ブロック共重合体、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射により酸を発生する化合物、及び酸により架橋する架橋剤を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative type chemical amplification type resist composition contains a compound which generates an acid and/or a radical species when irradiated with electron beams or X-rays, an alkali-soluble resin, a compound having at least one unsaturated bond polymerizable under the acid and/or the radical and a fluorine-and/or silicone-containing a surfactant.例文帳に追加

電子線又はＸ線の照射により、酸及び／又はラジカル種を発生する化合物、アルカリ可溶性樹脂、酸及び／又はラジカルにより重合可能な不飽和結合を少なくとも１個有する化合物、及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物。 - 特許庁

A releasable material having a fluorine type compound having an addition polymerizable functional group such as a vinyl group, an acryl group, a methacryl group or the like at least on one side of a polymer film base material 1, in a layered state by a vacuum deposition method and the formed layer is irradiated with radiation such as ultraviolet rays or an electron beam to be subjected to addition polymerization to provide fluorine type release layer 2.例文帳に追加

高分子フィルム基材１の少なくとも片面に、ビニル基、アクリル基、メタクリル基などの付加重合性官能基を有するフッ素系化合物を成分に持つ剥離性材料を真空成膜法により層状に設けてから、当該層に紫外線や電子線などの放射線を照射して付加重合せしめてフッ素系剥離層２を設ける。 - 特許庁

In the chemical amplification and negative type resist composition containing (1) an alkali-soluble resin having a weight average molecular weight of >3,000 to 1,000,000, (2) a crosslinking agent which causes crosslinking under acid and (3) a compound which generates the acid when irradiated with electron beams or X-rays, the alkali-soluble resin has a specified structure.例文帳に追加

（１）重量平均分子量が３，０００を超え、１，０００，０００以下であるアルカリ可溶性樹脂、（２）酸により架橋する架橋剤及び（３）電子線またはＸ線の照射により酸を発生する化合物を含有する化学増幅系ネガ型レジスト組成物において、アルカリ可溶性樹脂が特定の構造を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a compound sensitive to radiations including KrF excimer laser, extreme ultraviolet radiations, electron beams and X-rays, which is a nonpolymeric composition sensitive to such radiations, and producible by a simple process without using any metal catalyst, wherein the composition is highly sensitive, has high resolution, high heat resistance and high etching resistance and is soluble to solvents.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する化合物及び感放射線性組成物であり、金属触媒を使用することなくかつ簡単な工程で製造できる、高感度、高解像度、高耐熱性、高エッチング耐性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When driving a plasma display panel with display cells where, excited by irradiation with electron rays, a magnesium oxide layer containing magnesium oxide crystals which performs cathode luminescence having a peak in a wavelength region of 200-300nm is formed, reset discharge is made to occur in all display cells by applying a reset pulse to all column electrodes.例文帳に追加

電子線の照射によって励起されて波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む酸化マグネシウム層が形成されている表示セルを備えたプラズマディスプレイパネルを駆動するにあたり、先ず、全行電極にリセットパルスを印加することにより全表示セル内にリセット放電を生起せしめる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

The positive resist composition for an electron beam, X-rays or EUV (extreme-ultraviolet radiation) comprises (a) a resin which has a structural unit containing an acid-decomposable group of formula (X) and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic radiation.例文帳に追加

（ａ）下記一般式（Ｘ）の酸分解性基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物。 - 特許庁

The polyester yarn having excellent flame-retardancy is produced in high efficiency by immersing a polyester yarn wound on a cheese bobbin in a treating liquid containing an emulsifying agent and a phosphorus-containing radically polymerizable compound, heating the yarn to exhaust the radically polymerizable compound in the polyester yarn, and irradiating the yarn with electron rays.例文帳に追加

本発明者らは、チーズに巻かれたポリエステル糸を乳化剤とリンを含有するラジカル重合性化合物を含む処理液に浸漬し加熱することによって、ポリエステル糸の内部にラジカル重合性化合物を吸尽させ、その後電子線照射することによって、難燃性能に優れたポリエステル糸を効率よく得られることを見出し本発明に到達した。 - 特許庁

To provide a low-power hybrid printer using an ink set of ink jet ink compositions which prevents a black ink from mixing (bleeding) with the other color ink particularly at a color printing time in an ink jet printer, enables high-speed recording independently of a body to be recorded, is liquid at room temperatures and sets by applying light such as ultraviolet rays or electron beams.例文帳に追加

インクジェットプリンタにおいて、特にカラー印刷の場合に、黒インクが他のカラーインクと混色せず（滲まず）、被記録体に依存せずに高速記録が可能な、室温で液体と紫外線や電子線等の光を照射することにより硬化するインクジェット用インク組成物のインクセットを用いた低電力のハイブリッドプリンタ装置を提供する。 - 特許庁

A sample 10 is moved, while irradiating the sample surface 10a of the sample 10 with an electron beam 9, and characteristic X-rays 13 generated from the sample 10 by movement of the sample 10 are converged by a spectral crystal 14, and the convergence position is detected by an X-ray detector 15, to thereby measure the sample surface 10a.例文帳に追加

試料１０の試料表面１０ａに電子ビーム９を照射しながら試料１０を移動させ、試料１０の移動において試料１０から発生する特性Ｘ線１３を分光結晶１４により集光させて、その集光位置をＸ線検出器１５によって検出することにより試料表面１０ａの測定を行う。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition curable by irradiation with ultraviolet rays or electron beams, high in productivity because of being good in separability even in the washing step essential to its production process, liquid at normal temperatures and therefore excellent in handleability, and giving a cured product with good flexibility, chemical resistance and magic ink stain resistance.例文帳に追加

紫外線又は電子線の照射によって硬化可能で、製造工程に不可欠な洗浄行程においても分離が良好なため生産性に優れ、得られた樹脂組成物が常温で液状でありハンドリング性に優れ、さらに、硬化により可とう性、耐薬品性及び耐マジック汚染性が良好な硬化物を与える光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a hydrogen production apparatus for efficiently producing hydrogen from a hydrogen source containing a compound having hydrogen as a structural element with a visible ray-responsive photocatalytic material using visible rays emitted from a light source or capable of accumulating proton and electron, a hydrogen production method and a hydrogen production system using the same.例文帳に追加

光源から照射される可視光を利用して、可視光応答性光触媒材料により、水素を構成元素として有する化合物を含む水素源から水素を効率良く発生させる、又はプロトン及び電子として蓄積することができる水素発生装置、これを用いた水素発生方法、及び水素発生システムを提供すること。 - 特許庁

On the surface of the copper tube 1, there is formed a film made of a carbonic compound showing a main peak in the range of 44-45 Å and showing, in the range of 45-46.1 Å, a peak having a strength smaller than that of the above main peak through the wavelength resolution of C-Kα x-rays in Electron Probe Micro Analysis.例文帳に追加

銅管１の表面には、Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏ Ａｎａｌｙｚｅｒ分析法のＣ−Ｋα線の波長分析において、４４Å〜４５Åの範囲にメインピークを示し、４５Å〜４６．１Åの範囲に上記メインピークよりも強度が小さいピークを示す炭素化合物よりなる皮膜が形成されている。 - 特許庁

In the method for producing a cut filter for near IR rays in which low reflective index films and high reflective index films are alternately stacked on a substrate, the respective films are formed by magnetron sputtering, and oxygen is fed to an electron cyclotron resonance type ion source and an assist ion source, while plasma is excited so as to oxidize the films.例文帳に追加

基板上に低屈折率膜と高屈折率膜を交互に積層されてなる近赤外線カットフィルターの製造方法であって、それぞれの前記膜をマグネトロンスパッタリングにより成膜し、電子サイクロトロン共鳴型イオン源及びアシストイオン源に酸素を供給するとともに、プラズマを励起させて前記膜を酸化することを特徴とする。 - 特許庁

To provided a gel-form electrolyte forming composite, that is capable of cross-linking by heating, or energy beam radiation, such as ultraviolet rays and electron beam and has a high retention of electrolyte, and therefore high ionic conductivity, and that forms a gel electrolyte excellent in high resistance to temperature withstand, a gel-form electrolyte cross-linked with this, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

加熱又は紫外線、電子線などのエネルギー線照射によって架橋可能であり、電解液保持率が高く、従ってイオン伝導度が高く、しかも高温耐久性に優れたゲル状電解質を形成するゲル状電解質形成組成物、これを架橋させたゲル状電解質及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

An ultraviolet radiation processing apparatus 20 cleans the surface of an object to be treated W by irradiating the object to be treated W that is transported with ultraviolet rays from a lamp house 30 equipped with an ultraviolet lamp 32 and includes a gas supply duct 37 for supplying a gas mixture obtained by mixing an inert gas and electron-affinitive molecules to the surrounding of the object to be treated W.例文帳に追加

搬送される被処理物Ｗに紫外線ランプ３２を備えたランプハウス３０からの紫外光を照射することで被処理物Ｗの表面の洗浄を行う紫外光照射処理装置２０であって、被処理物Ｗの周囲に不活性ガス及び電子親和性分子を混合した混合ガスを供給するガス供給ダクト３７を備えることを特徴とする。 - 特許庁

This method of photoelectron spectroscopic analysis for an insulating material has, at least, a conductive-film forming process for forming a conductive thin film near a measured position of a sample prior to measurement, and a measurement process for performing measurement while irradiating the measured position with electron rays and applying a voltage on the thin film.例文帳に追加

本発明は絶縁物試料のＸ線光電子分光分析法において、測定に先立ち、該試料の測定箇所近傍に導電性薄膜を形成する導電性薄膜形成工程と、該測定箇所に電子線を照射しつつ、かつ該導電性薄膜に電圧を印加しながら測定を行なう測定工程とを少なくとも有するＸ線光電子分光分析方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor device comprises the steps of forming a first porous insulation film 38 on a semiconductor substrate; forming a second insulation film 40 having higher density than that of the first insulation film; and irradiating the first insulation film with electron beams, ultraviolet rays, or plasmas to cure the first insulation film while the second insulation film exists on the first insulation film.例文帳に追加

半導体基板上に多孔質の第１の絶縁膜３８を形成する工程と、第１の絶縁膜上に、第１の絶縁膜より密度の高い第２の絶縁膜４０を形成する工程と、第１の絶縁膜上に第２の絶縁膜が存在している状態で、電子線、紫外線又はプラズマを照射し、第１の絶縁膜を硬化させる工程とを有している。 - 特許庁

In the method for measuring the free radical eliminating capacity, a solution containing a sample to be inspected, a radical producing agent and a spin trapping agent is irradiated with UV rays, the intensity of the electron paramagnetic resonance (EPR) signal of a formed free radical is measured to calculate the relative intensity to the intensity of the EPR signal measured with respect to a reference sample containing no sample to be inspected.例文帳に追加

被検試料、ラジカル発生剤、及びスピントラップ剤を含む被検試料溶液にＵＶ光を照射し、生成したフリーラジカルの電子常磁性共鳴（ＥＰＲ）信号の強度を測定し、被検試料を含まない対照試料に対して測定されたＥＰＲ信号の強度に対する相対強度を求めることを特徴とするフリーラジカル消去能の測定方法。 - 特許庁

The thermal conductive sheet includes a thermal conductive resin layer, where a blend ratio of a thermal conductive filler to a thermoplastic resin is 10-90: 90-10 on a volume ratio, wherein the thermal conductive resin layer is crosslinked by applying electron rays, the thermoplastic resin is a block copolymer with ethylene and octene as main constituents, and a thermal shrinkage ratio is not more than 5%.例文帳に追加

熱伝導性フィラーと熱可塑性樹脂との体積基準での配合割合が熱伝導性フィラー：熱可塑性樹脂＝１０〜９０：９０〜１０からなる熱伝導性樹脂層からなり、前記熱伝導性樹脂層が電子線の照射で架橋させてなることを特徴とし、上記熱可塑性樹脂がエチレン及びオクテンを主成分としたブロックコポリマーであり，また、加熱収縮率が５％以下であることも特徴とする。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, (b) a resin having the residue of a compound having a lower ionization potential than p-ethylphenol in a group released by the action of the acid and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）電子線またはＸ線の照射により酸を発生する化合物、（ｂ）酸の作用により脱離する基の中に、ｐ−エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｃ）溶剤を含有することを特徴とする電子線またはＸ線用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁