「layer interval」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

An interval G of the lower-layer wiring 12 is formed, while being changed.例文帳に追加

この下層配線１２の間隔Ｇは、変化させ形成されている。 - 特許庁

The waveform layer 6 of the downside wave 4 of the corrugated fiberboard has an interval smaller than the interval of the waveform layer 5 of the upside wave 3 of the same.例文帳に追加

段ボールの下側ウエブ（４）の波形層（６）は段ボールの上側ウエブ（３）の波形層（５）の間隔よりも小さい間隔を有している。 - 特許庁

In the protection element 1, an interval distance W1 between an N-type diffusion layer 10a and a P-type diffusion layer 6 is smaller than an interval distance W2 between an N-type diffusion layer 9 and the P-type diffusion layer 6.例文帳に追加

そして、保護素子１では、Ｎ型の拡散層１０とＰ型の拡散層６との離間距離Ｗ１が、Ｎ型の拡散層９とＰ型の拡散層６との離間距離Ｗ２よりも短くなる。 - 特許庁

The thickness d of the liquid crystal layer is set to be larger than the interval p.例文帳に追加

そして、液晶層の厚みｄは間隔ｐよりも大きく設定する。 - 特許庁

For the material of each of the substrate layer 102, the middle layer 103 and the magnetic layer 104, a material which has the relation of a substrate layer (110) surface interval d1>d2 of a middle layer (002) surface interval > d3 of a magnetic layer (002) surface interval among the surface intervals of the main crystal lattice surfaces of crystals is used.例文帳に追加

下地層１０２、中間層１０３および磁性層１０４の材料には、それぞれの結晶の主要な結晶格子面の面間隔の間に、下地層（１１０）面間隔ｄ１＞中間層（００２）面間隔ｄ２＞磁性層（００２）面間隔ｄ３という関係を有する材料が用いられる。 - 特許庁

The sum of the width of the N source layer 7 and that of the P+ body layer 8 is smaller than the interval between the trench gates 40.例文帳に追加

Ｎソース層７の幅とＰ^＋ボディ層８の幅の和は、トレンチゲート４０の間隔よりも小さい。 - 特許庁

Next, the interval 13 between the cathode layer 1 and the anode contact layer 2 forms a different plurality types of unit.例文帳に追加

次に、カソード層１とアノードコンタクト層２との間隔１３が異なる複数種類のユニットを形成する。 - 特許庁

An interval L of the upper-layer routing lines 7 is set to (2W+D) obtained by adding an interval D of the lower-layer routing lines 6 to the double of a line width W of the lower-layer routing lines 6.例文帳に追加

上層引き回し線７の間隔Ｌは、下層引き回し線６の線幅Ｗの２倍に該下層引き回し線６の間隔Ｄを加えた値（２Ｗ＋Ｄ）となっている。 - 特許庁

All of the arrangement interval of the waveform cord in the first rubber covering layer, the arrangement interval of the waveform cord in the second rubber covering layer, and the shortest arrangement interval between the waveform cord in the first rubber covering layer and the waveform cord in the second rubber covering layer are equal.例文帳に追加

そして、第１ゴム被覆層内の波形コードの配設間隔、第２ゴム被覆層内の波形コードの配設間隔、および、第１ゴム被覆層内の波形コードと第２ゴム被覆層内の波形コードとの最短配設間隔はいずれも等しいことを特徴とする。 - 特許庁

The silicide layer 15 is formed at interval from the element separation region 13.例文帳に追加

シリサイド層１５は、素子分離領域１３と間隔をおいて形成されている。 - 特許庁

An auxiliary layer 65 burying the interval between the electrodes 61-61 is formed.例文帳に追加

次に、電極６１−６１間の間隔を埋める補助層６５を形成する。 - 特許庁

The circuit board comprises a power source layer 10, a ground layer 20 that faces the power source layer 10 with an interval between them, and a dielectric layer 30 arranged between the power source layer 10 and the ground layer 20.例文帳に追加

回路基板は、電源層１０と、電源層１０と間隔をあけて対向するグランド層２０と、電源層１０とグランド層２０との間に配置された誘電体層３０と、を含む。 - 特許庁

The photoresist layer is placed on the base material, the photomask is placed on the photoresist layer, and an interval is provided to a space to the photoresist layer.例文帳に追加

該フォトレジスト層は基材の上に設置し、該フォトマスクは該フォトレジスト層の上に設置し、かつ該フォトレジスト層との間には間隙を備える。 - 特許庁

The time and temperature of annealing depends on an interval of the exposed surface of the p-type layer and a thickness of the p-type layer.例文帳に追加

アニール時間及び温度はｐ型層の露出させた面の間隔及びｐ型層の厚さに依存する。 - 特許庁

To provide a method for reducing an interval for separating patterns on a photoresist layer.例文帳に追加

フォトレジスト層上のパターンを隔てる間隔を小さくする方法を提供する。 - 特許庁

They are periodically formed according to the interval of the growth suppressing layer 4A.例文帳に追加

これらは、成長抑止層４Ａの間隔に従って周期的に形成されている。 - 特許庁

The first recording layer for recording information and the second recording layer capable of recording a visible image are disposed on the optical disk at an interval of at least 0.5 mm or more.例文帳に追加

本発明は、高出力レーザを用いても、他の層を破壊することを防止できる光ディスクに関する。 - 特許庁

Furthermore, the interval of the layer composed of the substance B is made wider than that of the layer composed of the substance A.例文帳に追加

さらに本発明では、物質Ｂにより形成される層の間の間隔を物質Ａの層の間隔より広くした。 - 特許庁

The substrate for the light-emitting element includes a semiconductor layer (an n-type semiconductor layer, a light-emitting layer, a p-type semiconductor layer, and a substrate) including the light-emitting layer, and a two-dimensional diffraction grating (a photonic crystal structure layer 3) disposed at an interval from the light-emitting layer.例文帳に追加

発光素子用基板は、発光層を含む半導体層（ｎ型半導体層、発光層、ｐ型半導体層、基板）と、発光層から間隔を隔てて配置された２次元回折格子（フォトニック結晶構造層３）とを備える。 - 特許庁

In the indication layer, a layer interval D of the sphere layers in the indication layer preferably changes upon an external stimulus.例文帳に追加

この表示層は、外部からの刺激を受けることにより当該表示層における球体層の層間隔Ｄが変化するものであることが好ましい。 - 特許庁

Thereby, even if an opposite interval between the lower shielding layer 21 and the upper shielding layer 28 is made narrow, electric insulation can be reliably secured.例文帳に追加

よって、下部シールド層２１と上部シールド層２８との対向間隔を狭くしても、電気的絶縁を確実に確保できる。 - 特許庁

The outermost layer of the first coil 1 has such loose winding structure as the interval among turns is wide.例文帳に追加

第一コイル１の最外層は巻線相互の間隔を広くとって巻く疎巻線構造である。 - 特許庁

The winding interval of the inner winding layer provides the impermeable composite hose with flexibility.例文帳に追加

併せて、前記内巻き層の巻き間隙によって非透過型複合ホースに柔軟性を持たせる。 - 特許庁

The heat radiating and absorbing pipes 15 on the side of the cavity mold are embedded in the back surface of the metal layer at an equal interval.例文帳に追加

金属層の裏面には、キャビ型側放吸熱管１５が等間隔で埋設されている。 - 特許庁

Then, a 0.1 μm or longer interval 4 is formed at least at one portion between adjacent blocks 2a, and the inside of the interval 4 is set to be an air layer 5.例文帳に追加

そして、隣り合うブロック２ａ間の少なくとも一部の領域に０．１ミクロン以上の隙間４を形成し、この隙間４内を空気層５とする。 - 特許庁

For example in a method of forming contact holes, at first, an array of studs 13 is formed on a first hard mask layer 12 at an interval of double a final array interval.例文帳に追加

たとえばコンタクトホールを形成する方法では、まず第１ハードマスク層１２の上に最終間隔の２倍の間隔でスタッド１３のアレイを形成する。 - 特許庁

The downside wave 4 of the corrugated fiberboard is extended so that the interval of the waveform 6 is made equal to the interval of the waveform layer 5 of the upside wave 3 of the corrugated fiberboard.例文帳に追加

段ボールの下側ウエブ（４）は、その波形層（６）の間隔が段ボールの上側ウエブ（３）の波形層（５）の間隔に等しくなるように、伸ばされる。 - 特許庁

The interval between the termination trench 12c positioned at an outermost place and the dividing trench 12d is an interval, where the depletion layer is not connected in the discontinuity of the circuit element.例文帳に追加

最も外側に位置する終端トレンチ１２ｃと分断トレンチ１２ｄとの間隔は、回路素子の非導通時に空乏層がつながらない間隔である。 - 特許庁

The light reflection layer 55 is formed of a plurality of light reflection areas 53 formed in a matrix state on the surface of the structure forming layer 52 at the same interval as the pixel interval of the image constituent element.例文帳に追加

光反射層５５は、画像構成要素の画素間隔と同一の間隔で構造形成層５２の表面上にマトリクス状に形成された複数の光反射領域５３から形成されている。 - 特許庁

The second metal layer is formed on the upper surface of the semiconductor substrate and is arranged with an interval on the side of the first metal layer.例文帳に追加

第２金属層は、半導体基板の上面に形成されており、第１金属層の側方に間隔を空けて配置されている。 - 特許庁

A diffusion preventing layer 4 which is composed of a compound semiconductor containing C (carbon) is arranged in a position separate at a prescribed interval from a guide layer 6.例文帳に追加

Ｃ（炭素）を含有する化合物半導体からなる拡散防止層４を、ガイド層６から所定間隔離れた位置に配置する。 - 特許庁

A base layer 16 is formed (S106) and an electrode 102 is charged with a charge (S107), and then the oscillating layer 11 and the base layer 16 are stuck together at a specified interval (S108).例文帳に追加

ベース層１６を形成し（Ｓ１０６）、電極１０２に電荷をチャージした（Ｓ１０７）後に、振動層１１とベース層１６とを所定間隔で貼り合わせる（Ｓ１０８）。 - 特許庁

The second conductive layer 107 is arranged at an interval from the first conductive layer 101 and roughly parallel to the first conductive layer 101 and consisting of the carbon nanotube.例文帳に追加

第２の導電層１０７は、第１の導電層１０１とは間隔を開けて第１の導電層１０１と略平行に配置されており、カーボンナノチューブからなる。 - 特許庁

A p-layer guard ring 31 is formed between the photodiode p-layer 16 and an anode p-layer 21 surrounding at a predetermined interval from this region on a substrate n-layer 13 made by forming a bidirectional thyristor.例文帳に追加

双方向サイリスタを形成してなる基板Ｎ層１３上に、フォトダイオードＰ層１６と、この領域から所定間隔を隔てて取り囲むアノードＰ層２１との間に、Ｐ層ガードリング３１を形成する。 - 特許庁

A main ground plane 11 is provided in the ground conductive layer 4 at an interval from the sub ground plane 12.例文帳に追加

主グラウンドプレーン１１は、グラウンド導体層４に副グラウンドプレーン１２と間隔を空けて設けられている。 - 特許庁

A main power plane 7 is provided in the power conductive layer 3 at an interval from the sub power plane 8.例文帳に追加

主電源プレーン７は、電源導体層３に副電源プレーン８と間隔を空けて設けられている。 - 特許庁

A set time is set by a user, the top layer of thumbnail display displays scenes with that interval.例文帳に追加

設定時間はユーザーが設定し、最上階層のサムネイル表示はこの間隔時間のシーンを表示する。 - 特許庁

The contact hole has a diameter larger than an interval between the wirings 14 in the same layer as the interlayer oxide film 12.例文帳に追加

コンタクトホールは、層間酸化膜１２と同じ層に、配線１４の間隔より大きな径を有する。 - 特許庁

The source electrode and the drain electrode are formed separately over the active layer with a predetermined interval.例文帳に追加

ソース電極及びドレイン電極はアクティブ層の上部に所定の間隔で離隔されて形成される。 - 特許庁

Further, a contact trench 11 is formed in the epitaxial layer 3 at an interval with the gate trench 6.例文帳に追加

また、エピタキシャル層３において、ゲートトレンチ６と間隔を空けた位置にコンタクトトレンチ１１を形成する。 - 特許庁

The mutual small abrasive grain layer parts 28 formed at a prescribed interval become an almost mesh-like sub-discharge passage 32.例文帳に追加

所定間隔で形成した小砥粒層部２８の間は略網目状の副排出路３２となる。 - 特許庁

A lens material layer 313 with a lens interval holder is formed by applying etching to a lens material layer by using a resist pattern 300 for a mask and the resist pattern 300 is removed.例文帳に追加

レジストパターン３００をマスクにエッチングを行って、レンズ間隔保持部付レンズ材層３１３を形成し、レジストパターン３００を除去する。 - 特許庁

The guard ring trench 15 digs down a semiconductor layer 3 to the middle in a depth direction from a surface of the semiconductor layer at an interval from the gate trench 5.例文帳に追加

ガードリングトレンチ１５は、ゲートトレンチ５と間隔を空けて、半導体層３をその表面から深さ方向の途中まで掘り下がっている。 - 特許庁

The formation of the insulating layer 28 increases the interval between the monitor element 22 and lower shield layer 26 and even if a smear ring is formed on the lower shield layer, an electric connection can be prevented.例文帳に追加

前記絶縁層２８の形成により、モニター素子２２と下部シールド層２６との間隔は大きくなり、下部シールド層にスメアリングが生じても、電気的な接続を防止できる。 - 特許庁

A ZnO layer 24 functioning as a transparent electrode is provided on the p-type GaN layer 32, and recesses are formed in the surface of the ZnO layer 24 at a two-dimensional interval.例文帳に追加

ｐ型ＧａＮ層３２上には、透明電極として機能するＺｎＯ層２４が設けられ、ＺｎＯ層２４の表面には、２次元の周期的な間隔で凹部が形成される。 - 特許庁