「layer processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photopolymerizable planographic printing plate material having adhesiveness of a photopolymerizable photosensitive layer to a support and high sensitivity, excellent also in printing resistance and preservability and less liable to stain and to provide a processing method for the material.例文帳に追加

光重合性感光層と支持体の密着性を有し、高感度でかつ耐刷性や保存性にも優れ汚れが出にくい光重合性平版印刷版材料及びその処理方法の提供。 - 特許庁

An opening 17 is perforated on the support plate 14, by truncation processing and an adhesion layer 18 for holding for bonding and keeping the wiring board 20 is provided in the opening 17 or on the support plate 14.例文帳に追加

支持板１４には切断加工により開口部１７を透設し、その開口部１７内または支持板１４上には配線基板２０を接合保持するための保持用粘着層１８を設ける。 - 特許庁

To provide an optical article by which various plastic substrates with different refractive indexes are treated, generation of interference fringes is suppressed, and surface processing layer having excellent abrasion resistance and contactness is formed.例文帳に追加

屈折率の異なる様々なプラスチック基材を扱い、かつ干渉縞の発生が抑制され、且つ優れた耐擦傷性や密着性を有する表面処理層を形成できる光学物品を提供すること。 - 特許庁

When the timer expires, the protocol processing section 2 links the transmission data 5A(a), 5A(b) having received so far, gives a header to the linked data and gives the linked data 5B(a+b) to a subordinate layer 4.例文帳に追加

そして、タイマがタイムアウトした時に、プロトコル処理部２は、それまでに渡された送信データ５Ａ（ａ）、５Ａ（ｂ）を連結して、ヘッダを付与して、送信データ５Ｂ（ａ＋ｂ）として下位レイヤ４に渡す。 - 特許庁

To provide an image data processing method of a mobile communication terminal with which traffic of data link layer is analyzed during a video telephony and resolution of image data is automatically changed according to the traffic state.例文帳に追加

映像通話中にデータリンク階層のトラフィックを分析し、その状態によってイメージデータの解像度を自動的に変更する移動通信端末機の映像データ処理方法を提供する。 - 特許庁

The high- order layer processing part 113 prepares a position registration message including an IP address of a present station and the IP address of a base station device performing communication after the handover and outputs it to the transmission part 114.例文帳に追加

上位レイヤ処理部１１３は、自局のＩＰアドレスとハンドオーバの後に通信を行う基地局装置のＩＰアドレスを含んだ位置登録メッセージを生成し、送信部１１４に出力する。 - 特許庁

This improved process deposits conductive electrodes, together with a protective layer on a media side of the rotor wafer before most of other device processing, thus preserving a surface for ARS storage media from subsequent wafer thinning process.例文帳に追加

本発明では、他の素子の処理の前にロータウェーハの媒体側に保護層、導電体電極を被着させてＡＲＳ格納媒体を後続のウェーハの薄層化処理に対する表面を確保する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processor capable of making the resistance almost the same resistance before cutting after removing the extended layer and capable of shortening the unit process time.例文帳に追加

引き延びた層の除去工程後の抵抗値を、切断前の抵抗値とほぼ同程度の値にすることができ、タクトタイムも短くすることができるプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

An anti-reflection film 12 is formed on a Si substrate 11 serving as a processing base body, a resist film 13 is formed on the anti-reflection film 12, and a hydrophobic upper layer film 14 is formed on the resist film 13.例文帳に追加

被加工基体であるＳｉ基板１１上に反射防止膜１２を形成し、反射防止膜１２上にレジスト膜１３を形成し、レジスト膜１３上に疎水性の上層膜１４を形成する。 - 特許庁

The moisture contents on the surface layer of the sheet materials 150 is estimated from an output from the heat conductivity sensor 101 by a control part 120, and the processing condition corresponding to the moisture contents is set in an image forming process part.例文帳に追加

制御部１２０は、熱伝達率センサ１０１の出力からシート材１５０の表面層の水分量を推定し、画像形成プロセス部に、水分量に応じた処理条件を設定する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a high quality wiring board in which an insulation layer is firmly attached to a metal plate by environmentally-friendly and safe processing.例文帳に追加

環境を考慮した安全な処理によって金属板に絶縁層が強固に密着された配線基板を製造することができる高品質な配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an improved surface protective layer of a photographic element having both good scratch and wear resistances after photographic processing and having no inclination to sink inward in production, storage and transport.例文帳に追加

写真処理後に良好な耐引掻性と耐摩擦性の両者を有し、かつ、製造、保管および輸送時に内側にめり込む傾向の無い、写真要素の改善された表面保護層を提供する。 - 特許庁

To provide a method for developing a liquid crystal pretilt angle necessary for a liquid crystal display element, even if is light irradiation from the vertical direction, in an optical alignment processing method of a liquid crystal alignment layer.例文帳に追加

液晶配向膜の光配向処理法において、垂直方向からの光照射であっても液晶表示素子に必要な液晶プレチルト角を発現させる方法を提供すること。 - 特許庁

The fixed pressure member includes a base material whose surface has an irregularity structure imparted by irregularity imparting processing and a release layer with which at least the recessed part of the irregularity structure of the base material is filled, as a fixing pad.例文帳に追加

定着パッドとして、凹凸付与加工により表面に凹凸構造が付与された基材と、前記基材の前記凹凸構造の少なくとも凹部に充填される離型層と、を有する。 - 特許庁

In addition to the substrate treatment process, a surface decorating processing process is constituted of a plating treatment process, a forming treatment process, a plating layer peeling process, a peel liquid washing process, a drying process and a washing process.例文帳に追加

この下地処理工程に加えてメッキ処理工程、フォーミング処理工程、メッキ層剥離工程、剥離液洗浄工程、乾燥工程、洗浄工程夫々から表面装飾加工工程を構成する。 - 特許庁

By injecting nitrogen to perform heat processing with the gate electrode 12 being the mask, a peak of the nitrogen concentration is made to be positioned at the surface of the silicon layer 3 in contact with a field oxide film 13.例文帳に追加

ゲート電極１２をマスクとして窒素を注入し熱処理を施すことによって窒素の濃度ピークがフィールド酸化膜１３に接する前記シリコン層３表面に位置するようにする。 - 特許庁

To provide a cutting method of a semiconductor substrate by laser processing capable of cutting an object to be cut with high accuracy even in the case that the semiconductor substrate has various laminated layer structures.例文帳に追加

半導体基板が種々の積層構造を有する場合においても加工対象物を高精度に切断することのできるレーザ加工による半導体基板の切断方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate coating of a dielectric layer on a partially cylindrical concave surface and its maintenance in a plasma processing device having a first electrode with a partially cylindrical recess surface and a second electrode of a cylindrical shape.例文帳に追加

部分円筒状の凹面を有する第１電極と円筒状の第２電極を備えたプラズマ処理装置において部分円筒凹面への誘電体層の被装およびメンテナンスを容易化する。 - 特許庁

An X decoder 25 supplies voltage appropriate for processing to the two memory cell arrays of different types through the corresponding word lines in accordance with selection by the memory layer selection 26.例文帳に追加

Ｘデコーダ２５は、メモリ層選択部２６の選択にしたがって、それぞれに対応するワード線を通じて互いに異なる種類の２つのメモリセルアレイに各処理に応じた電圧を供給する。 - 特許庁

In a device mode, the upstream port circuit 10 performs interface processing with a physical layer circuit of the up/downstream port circuit 60-n, and the up/downstream port circuit 60-n performs an upstream port operation.例文帳に追加

デバイスモードでは、アップストリームポート回路１０がアップ／ダウンストリームポート回路６０−ｎの物理層回路とのインターフェース処理を行い、アップ／ダウンストリームポート回路６０−ｎがアップストリームポート動作を行う。 - 特許庁

To provide a tacky adhesive film and a tape for processing semiconductor wafer in which an adhesive layer reduces softening by absorbing moisture in air and can be suppressed the occurrence of pick-up failure.例文帳に追加

接着剤層が空気中の水分を吸収することにより軟化することを低減し、ピックアップミスの発生を抑制することができる粘着フィルム及び半導体ウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁

To provide a coating base material that is capable of performing molding processing on a base material and has a high reflectance by forming a coating layer exhibiting the high reflectance, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は，基材上に成型加工が可能で且つ，高い拡散反射率を示す被覆層を形成することで，高い拡散反射率を有する被覆基材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Etching is performed in the whole surface on the backside of the semiconductor wafer 1 (the center of the backside of the semiconductor wafer 1 and the rib 4), so as to remove a processing damage layer 5 formed by the grinding stone during grinding.例文帳に追加

ついで、半導体ウェハ１の裏面側の全面（半導体ウェハ１の裏面側の中央部およびリブ４）にエッチングを行い、研削の際に砥石により形成された加工ダメージ層５を除去する。 - 特許庁

To provide a sheet for processing semiconductor wafer with high initial adhesion and excellent in stripping workability after use and having an adhesive layer which does not stain the surface of the semiconductor after stripping.例文帳に追加

初期接着力が大きく、使用後の剥離作業性に優れ、しかも剥離後の半導体ウエハの表面を汚染することのない粘着剤層を有する半導体ウエハ加工用シートを提供すること。 - 特許庁

Processing functions for multiple sections, repeating sections, etc., of SONET/SDH (11) are added to a wavelength converting device and a wavelength converting function to manage wavelength path sections as one layer of SONET/SDH (11).例文帳に追加

波長変換装置や波長変換機能にＳＯＮＥＴ／ＳＤＨの多重セクションや中継セクションなどの処理機能を追加し、波長パス区間をＳＯＮＥＴ／ＳＤＨのいずれかのレイヤとして管理する。 - 特許庁

To make it possible to remove easily the debris (scattered articles) produced along with laser processing, without restricting the layer composition of a semiconductor device when forming a via hole in a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板にビアホールを形成するにあたって、半導体装置の層構成に制約を生じさせることなく、レーザ加工に伴って生じるデブリ（飛散物）を容易に除去することを可能にする。 - 特許庁

In the metal mask made of a metal plate having an opening and being used for producing a printed wiring board, a triazine dithiol derivative processing layer shown by formula 1 is provided on the surface of the metal plate.例文帳に追加

開口部を有する金属板からなり、プリント配線板の製造に用いられるメタルマスクであって、金属板の表面が下記式（１）で表されるトリアジンジチオール誘導体処理層を有する。 - 特許庁

The oxide film 23 is used as a mask after the next silicide step, and the polysilicon gate electrode 17 and the source/drain diffused layer 20 of a pMOS 16 are selectively subjected to silicide processing.例文帳に追加

この酸化膜２３は次のシリサイド工程後にマスクとして使用され、ｐＭＯＳ１６のポリシリコンゲート電極１７及びソース、ドレイン拡散層２０に対して選択的にシリサイド化処理が行われる。 - 特許庁

Polarization processing is applied at a predetermined charge voltage to an insulating film formed on the surface of the electrode plate main body 18A of a back electrode plate 18, thereby generating an electret layer 18B.例文帳に追加

背面電極板１８の電極板本体１８Ａの表面に形成された絶縁膜に対して、所定のチャージ電圧で分極処理を施すことにより、エレクトレット層１８Ｂを生成する。 - 特許庁

When the ACK packet is not sent back, a link layer processing part 14 decides whether the frequency of operation for resending the packet to the transmission-destination node is less than a specified number.例文帳に追加

ＡＣＫパケットが返信されない場合に、リンクレイヤ処理部１４は、送信先ノードに対して、それまでにパケットの再送信動作を行った回数が所定数以下であるか否かを判定する。 - 特許庁

To provide a catalyst increase processing method for a cell stack for increasing a catalyst active material at a catalyst layer of an electrode, and a fuel battery having the cell stack for increasing an amount of the catalyst active material.例文帳に追加

電極の触媒層の触媒活性物質を増加させるセルスタックの触媒増加処理方法、及び触媒活性物質の増量可能なセルスタックを有する燃料電池を提供する。 - 特許庁

To improve crystallization of a semiconductor substrate and a semiconductor layer formed thereon by preventing the surface of the semiconductor substrate from being exposed as much as possible to the atmosphere inside a processing chamber.例文帳に追加

半導体基板の表面が処理室内の雰囲気にさらされることを可及的に防止することにより、半導体基板およびその表面に形成される半導体層の結晶性の向上を図る。 - 特許庁

When the necessary information is returned to the Web layer server 11, the system control device 101 inquires the operating states of all the server devices, and selects the server device to restart the processing from the result.例文帳に追加

必要な情報がウェブ層サーバ１１に返送されたときに、システム制御装置１０１が、全てのサーバ装置の稼動状況を問合せ、その結果から処理を再開するサーバ装置を選択する。 - 特許庁

An operating system or other platform may expose a set of application programming interfaces (APIs) to general purpose image processing, photo album, printing or other applications through which a Raw API layer may be accessed.例文帳に追加

オペレーティングシステム等のプラットフォームが、汎用画像処理、フォトアルバム、印刷等のアプリケーションにアプリケーションプログラミングインタフェース（ＡＰＩ）のセットを公開し、これを通じてＲＡＷ ＡＰＩレイヤにアクセスすることができる。 - 特許庁

A drawing processor 13 performs drawing processing on the basis of the attribute information on the attribute information storage section 25 related to the identification information from the CPU 11 and the graphic data of each layer outputted from the CPU 11.例文帳に追加

描画プロセッサ１３は、CPU１１からの識別情報に関連する属性情報記憶部２５の属性情報と、CPU１１から出力されたレイヤー毎の図形データと、に基づいて描画処理を行う。 - 特許庁

Processing of polygonal shape by die punching is realized easily by using a glass fabric epoxy layer as the surroundings of the thermosetting resin composition filled with the thermal conductive inorganic filler.例文帳に追加

また熱伝導性無機フィラーを充填した熱硬化性樹脂組成物の周囲をガラス布エポキシ層とすることで、金型打ち抜きによる多角形状の外形加工を容易に実現することが可能となった。 - 特許庁

The method for forming the semiconductor structure includes reacting a silicon precursor and an atomic oxygen precursor at a processing temperature of about 150°C or less to form a silicon oxide layer over a substrate.例文帳に追加

半導体構造を形成する方法は、基板上にシリコン酸化被膜を形成するために、シリコン前駆体と原子酸素前駆体を約１５０℃以下の処理温度において反応させることを含む。 - 特許庁

To provide a silicon substrate etching method and a silicon substrate etching device capable of improving accuracy for processing a hole penetrating through a silicon insulation layer and a silicon substrate in an area including a wiring.例文帳に追加

シリコン絶縁層とシリコン基板とを貫通する孔の加工の精度を配線が含まれる領域にて高めることのできるシリコン基板のエッチング方法、及びシリコン基板のエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligning agent used for forming a liquid crystal alignment layer to which liquid crystal aligning ability can be imparted by irradiation with polarized or unpolarized radiation without carrying out rubbing processing.例文帳に追加

ラビング処理を行わずに、偏光または非偏光の放射線照射によって液晶配向能を付与することが可能な液晶配向膜の形成に用いられる液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

The kraft paper is constituted of a single layer having 95-130 g/m^2 basis weight, and subjected to crepe processing by a Clupak device so as to have 30-65 product of the tensile strength in the lateral direction and the elongation at break in the lateral direction.例文帳に追加

坪量が９５〜１３０ｇ／ｍ^２の単層で構成し、クルパック装置によりクレープ加工を施すことにより、横方向の引張強度と横方向の破断伸びとの積を３０〜６５とする。 - 特許庁

To provide an IR-sensitive composition excellent in suitability to processing with an exhausted developer having lowered activity (development latitude) when used in an image forming layer of a planographic printing plate precursor or the like.例文帳に追加

平版印刷版用原版の画像形成層等に用いた場合に、活性度の落ちた疲労現像液での処理性（現像ラチチュード）に優れる感赤外線感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a thermally releasable type tacky sheet capable of forming and ensuring a sufficient interval between cut pieces formed by cutting processing of an adherend and withstanding heat treatment at the time of expanding a thermally expandable layer.例文帳に追加

被着体の切断加工により形成された切断片間に十分な間隔を形成、確保でき、しかも熱膨張性層を膨張させる際の加熱処理に耐え得る熱剥離型粘着シートを得る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its method for manufacturing which has a MOSFET with a high quality and high performance multi gate, wherein the processing accuracy of a support is enhanced to support the lower plane of a semiconductor layer.例文帳に追加

半導体層の下面を支える支持部の加工精度が高められた高品質かつ高性能なマルチゲートを持つＭＯＳＦＥＴを有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a both surfaces nap-raised non-woven fabric without fiber dropping off and excellent in designability by processing a fiber layer consisting of high melting point fibers and hot melt fibers by a thick and thin folk needles from both of surface and reverse surface sides.例文帳に追加

高融点繊維と熱融着性繊維からなる繊維層に表裏両側から太，細フォークニードル針で加工し、繊維脱落がなく意匠性に優れた両面起毛不織布を提供する。 - 特許庁

To provide a vertical bipolar transistor having been subjected to salicide processing through which a base-side depletion layer sufficiently spreads by forming a salicide offset region to prevent problems such as a leakage current and a decrease in junction breakdown voltage.例文帳に追加

サリサイドオフセット領域の形成により、ベース側の空乏層が十分に広がり、リーク電流や接合耐圧低下の問題を防ぐサリサイド処理を行った縦型バイポーラトランジスタを提供する。 - 特許庁