「layer processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer containing at an organic pigment on a conductive support, wherein the photosensitive layer is subjected to processing to allow the photoreceptor to stand for ≥10 minutes under an environment of 10 g/m^3 in absolute humidity in a dark place after a final drying process in manufacture of the photoreceptor.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも有機顔料を含有する感光層を有する電子写真感光体の作製方法において、感光体作製における最終乾燥工程の後、該感光体を暗所でかつ絶対湿度が１０ｇ／ｍ^３以上の環境下に１０分以上放置する処理を施す。 - 特許庁

To provide a resist material for manufacturing a substrate having a nanoscale rugged structure by patterning a resin composition applied to the surface of a substrate to be processed by a nanoimprinting method to form a resin layer having a rugged structure and then processing the substrate by a dry etching method using the resin layer as a resist.例文帳に追加

被加工基材上に塗布した樹脂組成物をナノインプリント法にてパターニングを行い、凹凸構造を有する樹脂層を形成し、この樹脂層をレジストとしてドライエッチング法にて加工することによりナノスケールの凹凸構造を有する基材を製造するためのレジスト材料を提供すること。 - 特許庁

The method forms structures arranged on a substrate in a two-dimensional manner by forming a single layer by arranging spherical particles on the surface of the substrate so as to fill the surface with the spherical particles most densely using self-organization of the spherical bodies, and performing etching processing using the single layer formed of the spherical particles as an etching mask.例文帳に追加

球体の自己組織化を利用して、基板表面に球状粒子を最密に充填するように配置して単層を形成し、前記球状粒子からなる単層をエッチングマスクとしてエッチング処理を行うことにより、基板上に規則的に二次元配置した構造体を形成する方法。 - 特許庁

In the piezoelectric power generating element, a pair of electrodes is arranged on a piezoelectric ceramics layer formed of a ceramics in a range of average grain size of 0.01-0.1 μm by observation using a scanning electron microscope, and the piezoelectric ceramics layer subjected to polarization processing is applied with an external force different from the polarization direction, thereby generating electric potentials.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡観察により平均粒径０．０１μｍ以上、０．１μｍ以下の範囲のセラミックスで形成されている圧電セラミックス層に対電極を配置し、分極処理した圧電セラミックス素子に、分極方向と異なる外力を与え電荷を発生することを特徴とする圧電発電素子。 - 特許庁

Just after program selection, a playback timing difference between layers is not corrected but after switching processing of an output signal is performed from a signal of a layer from which a signal is outputted earlier for one time of playback or more to a signal of a layer from which a signal is outputted later, a signal summing up delay times between layers is selected.例文帳に追加

選局直後には、階層間の再生タイミング差の補正を行わず、一回以上先に信号が出力される階層の信号から遅れて信号が出力される階層の信号へと出力信号の切替処理が行われた後から、階層間の遅延時間を合わせた信号を選択する。 - 特許庁

Further, when applying the plasma processing to the object to be processed having a conductive layer by using the opposing electrodes composed of a pair of roll electrodes facing each other, the object to be treated having the conductive layer is placed between the pair of the roll electrodes so as to contact with either of the pair of the roll electrodes.例文帳に追加

また、互いに対向する一対のロール電極からなる対向電極を用いて、導電層を有する被処理体をプラズマ処理するにあたり、一対のロール電極の電極間に、導電層を有する被処理体を、それらロール電極対のいずれか一方のロール電極に接触させる。 - 特許庁

This method comprises a step of processing a first wafer with two faces and providing at least one semiconductor layer patterned and made plane, on at least one face of these two faces, and a step of connecting a second wafer of monocrystal silicon to the semiconductor layer on the first wafer.例文帳に追加

本方法は、２つの面を有する第１のウェーハを処理し、これらの２つの面の少なくとも一方の上に少なくとも１つのパターン化されて且つ平面化された半導体層を設けるステップと、単結晶シリコンの第２のウェーハを、第１のウェーハ上の半導体層に結合させるステップとを含む。 - 特許庁

To provide a resist undercoat-forming material for a multilayer resist process, particularly for a two-layer resist process or for a three-layer resist process, which functions as an excellent antireflection film particularly to short-wavelength exposure light, that is, has high transparency, optimum n value and k value, and excels in etching resistance in substrate processing.例文帳に追加

多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用又は３層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、即ち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁

When one of the objects in one lower layer of the above-mentioned object is selected by the operation section 101, the main thread 103 does not access the server 152 at that timing, but reads the list of the object names in one lower layer of the corresponding object and the attribute information from the processing result buffer 122, and displays them on a display 102.例文帳に追加

操作部１０１により、上述したオブジェクトの一下位層のいずれかのオブジェクトが選択されると、メインスレッド１０３は、そのタイミングでサーバ１５２にはアクセスせず、対応するオブジェクトの一下位層のオブジェクト名の一覧と属性情報を処理結果バッファ１２２より読み出してディスプレイ１０２表示する。 - 特許庁

In a touch panel 1 of an automatic processing apparatus, an antibacterial layer 1b having antibacterial properties is formed on the operation surface for displaying an operation image which indicates predetermined process contents and being contacted with by the operation image, and a transparent insulating substrate 1a comprising conductive members 1c on the surface of the antibacterial layer 1b is provided.例文帳に追加

自動処理装置のタッチパネル１において、所定の処理内容を示す操作画像を表示して当該操作画像に接触される操作面に抗菌性を備える抗菌層１ｂが形成され、抗菌層１ｂの表面に導電部材１ｃが設けられた透明絶縁基板１ａが具備されている。 - 特許庁

To provide a plate making method which can form a clear image with high sensitivity without exerting a defect to an image area in spite of preservation for a long period of time, can exhibit specified performance in spite of dissolution of photosensitive layer components into a development processing solution and can suppress the occurrence of development dregs due to the photosensitive layer components.例文帳に追加

長期保存しても画像部に欠陥を与えることなく、高感度で鮮明な画像を形成し得、且つ感光層成分が現像処理液に溶け込んでも、一定の性能を発揮することができ、前記感光層成分に起因する現像カスの発生を抑えることができる平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet which achieves both surface smoothness and adhesive layer thin film formation, is therefore little deformed, when the adhesive layer is processed, can be processed in high precision, largely improves product characteristics and productivity, and is useful as a support sheet for processing electronic parts such as small ceramic capacitors, and the like.例文帳に追加

表面平滑性及び粘着層薄膜化を両立したために、粘着層の加工時の変形が小さいため、高精度な加工が可能であり、製品特性、生産性が大幅に向上する、小型のセラミックコンデンサなどの電子部品の加工用支持体シートなどとして有用な粘着シートを提供することにある。 - 特許庁

The image forming device is comprised of the manufacturing method of the semiconducting roller applying ultraviolet processing on a surface of a rubber elastic layer after forming the rubber elastic layer on an outer periphery of a core metal and performing primary vulcanizing, the semiconducting roller provided by the manufacturing method, and the semiconducting roller.例文帳に追加

芯金外周面上にゴム弾性層を形成し、一次加硫した後、前記ゴム弾性層表面に紫外線処理を施すことを特徴とする半導電性ローラの製造方法、当該方法により得られる半導電性ローラ、及び当該半導電性ローラを備える画像形成装置である。 - 特許庁

In wirings having a structure that consists of a first layer metal film wiring, a second metal film wiring having a constant side etching portion and an insulating film pattern, a field plating processing is performed to the concave region corresponding to a side etching portion of the second layer metal film wiring and low resistance metal such as Cu and Ag is made to electrodeposit thereon.例文帳に追加

第１層金属膜配線と、一定のサイドエッチング部を有する第２層金属膜配線と、絶縁膜パターンの３層膜から成る構造の配線に於いて、電界メッキ処理により前記第２層金属膜配線のサイドエッチング部に相当する凹形領域に、銅や銀の低抵抗金属を電着させる。 - 特許庁

By arithmetic processing using these measurement values, the growing amount of the overcoat layer b on the surfaces of coated fuel particles A is found by subtracting the deposition amount and the discharged/recovered amount from the total supplied amount to prepare the overcoat particles B while monitoring the overcoat layer b by means of the growing amount thereof.例文帳に追加

これらの測定値を用いた演算処理において、総供給量から容器付着量と排出分回収量とを減じることで被覆燃料粒子Ａの表面におけるオーバコート層ｂの成長量を求め、その成長量によりオーバコート層ｂを監視しながらオーバコート粒子Ｂをつくる。 - 特許庁

To provide a tape for wafer processing for improving a pickup success ratio of a semiconductor chip in a pickup process by facilitating removal between a pressure-sensitive adhesive layer and an adhesive layer, and for preventing the break of the thin semiconductor chip when enlarging a pin push-up force or a push-up height.例文帳に追加

粘着剤層と接着剤層との間の剥離を容易にすることで、ピックアップ工程における半導体チップのピックアップ成功率を向上させるとともに、ピンの突き上げ力や突き上げ高さを大きくすることによる薄い半導体チップの破損を防止することが可能なウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁

When the processing of the predetermined number of sheets are ended and the highly reactive uppermost surface is removed from the surface of the protective layer 12E, the polishing particles 40 are not supplied to the rubbing auxiliary member 22 and, therefore, there is no such a risk that the protective layer 12E is polished over the necessary amount and the performance is adversely affected.例文帳に追加

所定の枚数を処理し終わり、反応性の高い極表層が保護層１２Ｅ表面に存在しなくなった時点では摺擦補助部材２２に対して研磨粒子４０は供給されないので、保護層１２Ｅが必要量を越えて研磨され、性能に影響を与える虞はない。 - 特許庁

Although an inclined groove 20 is cut out on an inner periphery surface 18 of a grinding wheel layer 11, almost no cut powder is accumulated in pores existing among abrasive grains in the range from the outer peripheral face of the grinding wheel layer to the bottom of the inclined groove, therefore dynamic pressure occurring in the grinding fluid can be released, thus enabling high-accuracy grinding processing.例文帳に追加

砥石層１１の内周面１８に傾斜溝２０が刻設されているが、砥石層の外周面から傾斜溝の底部に達するまでは切粉が砥粒間に存在する気孔に殆ど詰まっていないので、研削液に生じた動圧を開放することができ、高精度な研削加工が可能となる。 - 特許庁

The image forming material having at least one silver halide emulsion layer containing ≥90% silver chloride on the base and subjected to continuous processing under replenishment after scanning exposure contains a compound of formula (I) and a compound of formula (SP-I) in the same layer.例文帳に追加

支持体上に少なくとも一層の塩化銀９０％以上のハロゲン化銀乳剤層を有し、走査露光後、補充しながら連続処理される画像形成材料が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物と下記一般式（ＳＰ−Ｉ）で表される化合物を同一層内に含有することを特徴とする画像形成材料。 - 特許庁

The method for manufacturing the silicon boat for supporting a semiconductor wafer W during thermal process comprises: a process of forming a silicon material into a boat by mechanical processing; and a process of removing or thinning a damaged layer D on the surface of the silicon material created by the mechanical processing.例文帳に追加

半導体ウェーハＷの熱処理時に半導体ウェーハを支持するシリコン製のボートの製造方法であって、機械加工によりシリコン材料をボートの形状に成形する工程と、前記機械加工で生じた前記シリコン材料の表面のダメージ層Ｄを除去又は薄くする工程とを有する。 - 特許庁

The initial pressure is found by processing the wafer W having a coverage ratio (of an area of an SiO2 divided by an area of an Si film layer) varying depending on the flow rate of Cl2, finding a difference between internal pressures of the chamber 104 before and after plasma generation, and adding a value obtained from the coverage ratio and pressure difference to a processing pressure value.例文帳に追加

初期圧力値は，Ｃｌ_2の流量に応じて，被覆率（ＳｉＯ_2膜層の面積／Ｓｉ膜層の面積）が異なるウェハＷに処理を施し，プラズマ生成前後の処理室１０４内の圧力差を求め，それら被覆率と圧力差から求められた値を処理圧力値に加算して求める。 - 特許庁

The display program P acquires an image represented by image designation information on the basis of the display instruction information in each received display object on a plug-in display layer, and displays the image at a position corresponding to information of a display position after magnification, reduction or the like in the processing mode represented by processing information.例文帳に追加

表示プログラムＰは、プラグイン表示層に、受け取った各表示対象ごとに、表示指示情報に基づいて、画像指定情報が表す画像を取得し、加工情報の表す加工態様で拡大縮小等の加工を施した上で、表示位置の情報に対応した位置に表示する。 - 特許庁

The method of manufacturing the flexible printed board is characterized by maintaining an oxygen concentration in an etching processing atmosphere at 2 vol.% or below in a process of forming a copper wiring pattern by performing etching processing on a copper coating layer formed at least on one surface of an insulator film without interposing an adhesive.例文帳に追加

フレキシブルプリント基板の製造方法であって、絶縁体フィルムの少なくとも片面に接着剤を介さずに形成された銅被覆層をエッチング処理して銅配線パターンを形成する工程における前記エッチング処理雰囲気の酸素濃度が、２体積％以下に維持されることを特徴とする。 - 特許庁

On the basis of the result of a defect examination to be performed each time the layer of a wafer is formed, processing 41 is performed for making correspondent defect coordinates between respective examinations to recognize the defect and further, processing 43 is performed for deciding the size of that defect for each recognized defect to unify the defect sizes different for each examination of the defect.例文帳に追加

ウェーハの層形成毎に行われる欠陥検査の結果を元に、各検査間の欠陥座標を対応付ける処理４１を行って、同一欠陥を認識し、さらに、認識した同一欠陥毎に、その欠陥サイズを判定する処理４３を行って、同一欠陥の検査毎に異なる欠陥サイズを統一する。 - 特許庁

In the processing method, a photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photosensitive layer on an aluminum substrate with 0.1-8 mg/m2 coating weight of Si atoms is exposed, developed with a developing solution containing nonreducing sugar and a base (other than silicates) and desensitized in two or more processing baths.例文帳に追加

Ｓｉ原子付着量が０．１〜８mg／m^2であるアルミニウム支持体上に感光層を設けてなる感光性平版印刷版を、露光し、非還元糖及び塩基（但し珪酸塩を除く）を含む現像液で現像後、不感脂化処理を２浴以上の処理浴で行うことを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 - 特許庁

The heat-shrinkable film for polyolefinic sleeve packaging contains at least one layer based on a polypropylene resin and is characterized in that stretch processing with a stretching magnification of 1.05-1.5 times in a longitudinal direction is applied after stretch processing with a stretching magnification of 3.5-6.0 times in longitudinal and lateral directions is applied through tubular biaxial stretching.例文帳に追加

プロピレン系樹脂を主体とする層を少なくとも１層以上含み、チューブラー二軸延伸により縦横とも延伸倍率３．５〜６．０倍の延伸加工を施した後、縦方向に１．０５倍〜１．５倍の延伸加工を施す事を特徴とするポリオレフィン系スリーブ包装用熱収縮性フィルム。 - 特許庁

A radio communication terminal 10 comprises: first and second MAC layer processors 14a, 14b using different MAC addresses (MAC=a, b), first and second basebands 13a, 13b for performing processing related to different carriers (ch=a, b), and first and second RFs 12a, 12b for performing processing related to the different carriers.例文帳に追加

無線通信端末１０は、異なるＭＡＣアドレス（MAC＝ａ，ｂ）を用いる第１及び第２のＭＡＣ層処理部１４ａ，１４ｂと、異なる搬送波（ch＝ａ，ｂ）に関する処理を行う第１及び第２のベースバンド部１３a,１３ｂと、異なる搬送波に関する処理を行う第１及び第２のＲＦ部１２a,１２ｂとを備える。 - 特許庁

To provide a termite prevention agent spray device for a building and a termite prevention processing method capable of forming an effective termite prevention barrier layer to soil around the building, easily executing the restoration processing of a termite prevention effect reduced with time, and being easily executed not only to a newly constructed building but also to an existing building.例文帳に追加

建築物周囲の土壌に対し効果的な防蟻バリアー層を形成でき、経年減退した防蟻効果の復活処理を容易に行うことができ、新築時だけでなく既設の建築物に対しても容易に施工することができる建築物の防蟻剤散布装置及び防蟻処理方法を提供すること。 - 特許庁

Provided are a tool base 13 having a fiber support surface 13f supporting the processing part 3a of the coated optical fiber 3, a slider 23 which is provided on the tool base 13, and a squeeze member 27 which is provided at the slider 23 and squeezes the surface of the coating layer 7 at the processing part 3a of the coated optical fiber 3.例文帳に追加

光ファイバテープ心線３の被処理部３ａを支持するテープ心線支持面１３ｆを有した工具ベース１３と、工具ベース１３に設けられたスライダ２３と、スライダ２３に設けられかつ光ファイバテープ心線３の被処理部３ａにおけるテープコート層７の表面をしごくしごき部材２７とを具備している。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet excellent in the adhesion between its substrate and its adhesive layer and in the adhesivity to adherend, easy to relaminate an adherend, capable of making a high-accuracy processing for an adherend, and enabling the adherend to be easily released without staining the adherend due to residual paste or the like after completing its processing.例文帳に追加

基材と粘着剤層との密着性、及び被着体との密着性に優れ、被着体の貼り直しが容易であるとともに、被着体について高精度の加工を行うことができ、かつ、加工完了後は、被着体に糊残り等による汚染を生ずることなく容易に剥離可能な粘着シートを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device of a rugged film, which can improve a processing speed by producing no offset to a film substrate or no bubble entrainment on a resin layer in manufacturing the rugged film, and further, improve the processing speed without upsizing equipment such as a recovery apparatus of a resin liquid.例文帳に追加

凹凸フィルムの製造に当たって、フィルム基材への裏移りを生じさせることなく、また樹脂層に泡かみを生じることなく加工速度を向上させることができ、更に樹脂液の回収装置等の設備の大型化を伴うことなく加工速度を向上させることの可能な凹凸フィルムの製造装置を提供する。 - 特許庁

A metal mold after release processing is coated with ultraviolet-ray setting resin 16, and a light-transmissive product substrate 2 after silane coupling processing is pressed against the resin; and the reverse surface side of the product substrate 2 is irradiated with uniform ultraviolet rays to set the ultraviolet-ray setting type resin layer 16 and then the metal mold is released.例文帳に追加

離型処理した金型上に紫外線硬化型樹脂１６を塗布し、その上にシランカップリング処理した光透過性の製品基板２を押し当て、製品基板２の裏面側から均一な紫外線光を照射して紫外線硬化型樹脂層１６を硬化させた後、金型を剥離する。 - 特許庁

The liquid repelling processing method for the nozzle plate 39 equipped with a plurality of the nozzle openings 44 for jetting a liquid, forms the liquid repelling film layer 47 on the nozzle plate 39 by immersing a liquid jetting face 46 of the nozzle plate 39 in a processing liquid 53 while a compressed fluid 60 is fed from the nozzle opening 44.例文帳に追加

液体を噴射する複数のノズル開口４４を備えたノズルプレート３９の撥液処理方法であって、ノズル開口４４から圧縮流体６０を供給しながら、ノズルプレート３９の液体噴射面４６を処理液５３に浸漬させてノズルプレート３９に撥液膜層４７を形成する。 - 特許庁

Unnecessary fluff of the carbon fiber base material 7 is removed so that the carbon fiber base material 7 as a material of the diffusion layer is immersed into a water-repellent processing agent solution 2 filled into a vessel 1 and ultrasonic vibration 3 is given to the carbon fiber base material 7 immersed into the water-repellent processing agent solution 2.例文帳に追加

本発明に係る方法により、拡散層の材料となる炭素繊維基材７を、槽１内に満たされた撥水処理剤溶液２に浸漬し、この撥水処理剤溶液２に浸漬された炭素繊維基材７に超音波振動３を与え、不要な炭素繊維基材７の毛羽を除去することができる。 - 特許庁

Since positioning magnet wire 101 above a cabinet 4 and a U-shaped press and pushing processing terminal 6 into a cabinet 42 from the magnet wire 101 will restrict the magnet wire 101 in a Y-shaped groove 41, the insulating layer of the magnet wire 101 will be removed from a Y-shaped groove 63 of the U-shaped processing terminal 6.例文帳に追加

マグネットワイヤ１０１をキャビネット４上に位置させ、マグネットワイヤ１０１上からＵ字型プレス加工端子６をキャビネット内４２に押し込むと、マグネットワイヤ１０１がＹ字溝４１に拘束されるから、当該マグネットワイヤ１０１の絶縁層はＵ字型プレス加工端子６のＹ字溝６３により除去される。 - 特許庁

In the manufacturing method of the laminate for laser processing, a polymer sheet for laser processing is formed by crosslinking the polymer composition and a photopolymerizable layer composed of a photopolymerizable composition material such as an elastomer, a compound having an ethylene unsaturated group, a polymerization initiator or the like, and it is irradiated with ultraviolet rays.例文帳に追加

本レーザー加工用積層体の製造方法は、上記重合体組成物を架橋させてレーザー加工用重合体シートを形成し、このシート表面に光重合性組成物原料（エラストマー、エチレン性不飽和基を有する化合物、重合開始剤等）からなる光重合性層を設け、紫外線を照射する。 - 特許庁

A surface layer made of a thermoplastic resin composition such as polyethylene containing wood powders of a raw material molded article is irradiated with a laser so as to set a resin-rich state where an exposure area of the wood powders in a part processed during post-processing is equal to or less than 30%, and an uneven surface is formed during the post-processing to obtain a resin molded product A.例文帳に追加

原料成形品の木粉を含むポリエチレン等の熱可塑性樹脂組成物からなる表層に、後加工時に加工された部分における木粉の露出面積が３０％以下の樹脂リッチな状態になるようにレーザー照射して凹凸面を後加工で形成することで樹脂成形品Ａを得るようにした。 - 特許庁

This invention is accomplished by finding out the method for processing the lining by which the stable adhering strength (peeling strength) can be obtained with a small applying quantity of the adhesive by adhering to each other after fluffing the adhering face of a second bath cloth before adhering a skin layer and the second bath cloth in the processing the lining of the tufted carpet.例文帳に追加

本発明は、タフテッドカーペットの裏加工において、表皮層とセカンド基布を貼り合わす前に、セカンド基布の貼り合せ面を毛羽立たせてから貼り合わすことによって、少ない接着剤の塗布量で安定した接着強度（剥離強度）の得られる裏加工方法を見出し、本発明に到達した。 - 特許庁

To provide a processing method which controls film thickness by improving distortion of an emulsion layer which is caused by drying and shrinkage after the development process of a silver halide emulsion sheet for recording the tracks of charged elementary particles.例文帳に追加

荷電素粒子の飛跡を記録するためのハロゲン化銀乳剤シートにおける現像処理後の乾燥収縮によって生ずる乳剤層の歪みを改良し、膜厚をコントロールしうる処理方法を提供する。 - 特許庁

Further, the processing of grooves 9 or slits 10 is applied to the surface 1a of the molded base material 1 and the thermoplastic resin layer 7 is injection-molded on the processed surface of the molded base material 1 to increase the rigidity of the appearance part 8 while suppressing the deformation thereof.例文帳に追加

さらに、成形基材表面１ａに溝９又はスリット１０加工を施し、その表面に熱可塑性樹脂層７を射出成形することで、外観部品８の剛性を増し、変形を抑える。 - 特許庁

To provide a wafer processing tape, along with a method for manufacturing it, of which sensor recognition performance is good even if an adhesive layer is thin (10 μm or less, especially 5 μm or less), with productivity and inspection precision being good.例文帳に追加

接着剤層が薄い（１０μｍ以下の、特に５μｍ以下の）場合であっても、センサ認識性が良好であり、生産性や検査精度が良好であるウエハ加工用テープ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple processing method for patterning a chopstick, having excellent designability due to a synergistic effect of a combined pattern using a plurality of tubular films to which a pattern is applied and a pattern layer being a base.例文帳に追加

模様が施された複数のチューブ状フィルムと下地である模様層とを使った組み合わせ模様による相乗効果により、優れた意匠性を有する箸の簡単な模様付け加工方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a paper substrate from releasing an olefinic thermoplastic resin generated on a producing or processing a laminate in spite of the easy releasability of the paper substrate from the olefinic thermoplastic resin layer.例文帳に追加

易剥離を目的として、部分的に非接着印刷部が存在する積層体では、非接着印刷部が積層体の端部に存在した場合、その製造時もしくは加工時に意図せずに剥離が起きてしまう。 - 特許庁

In the treatment method of an amorphous carbon film which is formed on a substrate and has been treated with wet washing after dry etching, the surface of the amorphous carbon film is treated with reforming processing before forming an upper layer thereon after the wet washing.例文帳に追加

基板上に成膜され、ドライエッチング後にウエット洗浄処理が施されたアモルファスカーボン膜の処理方法であって、ウエット洗浄処理後、上層の形成前に、アモルファスカーボン膜の表面改質処理を行う。 - 特許庁

Since a piezoelectric film can be formed on the diaphragm while bonding the diaphragm to the ink storage chamber, damage on the diaphragm can be lessened even if the PZT layer is formed under severe processing conditions.例文帳に追加

このため、インク貯溜室に振動板を接合した状態で圧電体膜を振動板上に形成することができ、ＰＺＴ層を形成する処理条件が厳しくとも、振動板のダメージを軽減することができる。 - 特許庁