| 意味 | 例文 |
line patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3472件
DECORATIVE MATERIAL HAVING NUMEROUS-LINE UNEVEN PATTERN AND PRODUCTION THEREOF例文帳に追加
万線状凹凸模様を有する化粧材、及びその製造方法 - 特許庁
A pattern contour line 2 is formed on a drawing board 1 in a convex level difference fashion and a plane part 3 partitioned by the pattern contour line 2 is pigmented.例文帳に追加
画板1に図柄輪郭線2を凸段差状に形成し、この図柄輪郭線2で仕切った平面部3を着色する。 - 特許庁
A plurality of line patterns 26A to 26C dividing an area enclosed by the innermost line pattern 26I are connected to the innermost line pattern 26I of the coil 25.例文帳に追加
アンテナコイル25の最内周の線パターン26Iには、最内周の線パターン26Iが取り巻く領域を分割する複数の線パターン26A〜26Cが接続されている。 - 特許庁
A longitudinal line noise elimination section 15 uses a filter pattern stored in the filter pattern storage section 17 to eliminate the longitudinal line noise on the basis of the kind of the detected longitudinal line noise.例文帳に追加
縦線ノイズ除去部15は、検出された縦線ノイズの種別に基づき、フィルタパターン記憶部17に記憶されているフィルタパターンを用いて、縦線ノイズの除去を行う。 - 特許庁
The unit pattern T which crosses with the stitching line is extracted, and the cross point between the line figure 47 in the extracted unit pattern T and the stitching line L is made a needle location point.例文帳に追加
縫い目線と交差する単位パターンTを抽出し、抽出された単位パターンT内の線図形47と縫い目線Lとの交点を針落ち点とする。 - 特許庁
A double-sided flexible printed board 50 is provided with an upper layer conducting pattern 50, in which a signal line is formed and a lower layer conducting pattern 51, in which a power source line and a ground line are formed.例文帳に追加
両面フレキシブル・プリント基板(50)は、信号線を形成した上層導電パターン(52)と電源線及びグランド線を形成した下層導電パターン(51)とを有する。 - 特許庁
In the pattern forming method for a semiconductor device, a gate line, a padding and a selection line are formed at the same time by forming a pattern for a gate line using a first photoresist pattern and a first antireflection film, and forming a pattern for a padding and a selection line of a width wider than that for the gate line using a second photoresist pattern and a second antireflection film.例文帳に追加
第1のフォトレジストパターン及び第1の反射防止膜を用いてゲートライン用パターンを形成し、第2のフォトレジストパターン及び第2の反射防止膜を用いてゲートラインより広い幅のパッド及びセレクトライン用パターンを形成することにより、ゲートライン、パッド及びセレクトラインを同時に形成することができる半導体素子のパターン形成方法。 - 特許庁
Also, a wide area pattern is recognized as one of the outer peripheral line, punching line, aerial line, and cut-off line to be included in the connecting elements.例文帳に追加
また、該広面積パターンをその外周ライン、打抜ライン、架空ライン及びそれらの切断ラインのいずれかのラインと見倣して該接続要素に含ませる。 - 特許庁
The data transmission circuit comprises: a first driver which drives data to a first line; a pattern change unit which changes a pattern of the data transmitted to the first line; a second driver which drives the data, the pattern of which has changed by the pattern change unit, to a second line; and a pattern restoration unit which restores the pattern of the data transmitted to the second line.例文帳に追加
データを第1のラインに駆動する第1のドライバと、前記第1のラインに伝達されたデータのパターンを変更するパターン変更部と、該パターン変更部によってパターンが変更されたデータを第2のラインに駆動する第2のドライバと、前記第2のラインに伝達されたデータのパターンを元通りに復元するパターン復元部とを備えることを特徴とする。 - 特許庁
A line width detection unit 18 detects a line width of main scanning direction and a line width of sub scanning direction for a line width detection pattern, respectively, based on input image data from a pattern detection portion 16.例文帳に追加
線幅検出部18は、パターン検出部16からの入力画像データに基づいて、線幅検出パターンの主走査方向の線幅および副走査方向の線幅をそれぞれ検出する。 - 特許庁
Inside the respective rotary reels 40, as the back light 31, an on-line back light 32 for illuminating the on-line pattern 90 and an out-of-upper-line back light 33 for illuminating the out-of-upper line pattern 91 are provided.例文帳に追加
各回転リール40それぞれの内側に、バックライト31として、ライン上図柄90を照明するためのライン上バックライト32と、上ライン外図柄91を照明するための上ライン外バックライト33とを設ける。 - 特許庁
The wiring pattern 63 is provided with a main line part 64, a plurality of first branch line parts 65 and a plurality of second branch line parts 66.例文帳に追加
布線パターン63は幹線部64と複数の第1枝線部65と複数の第2枝線部66とを備えている。 - 特許庁
To output an excellent image, without enlarging the line width of a line pattern such as a character and a thin line, while making a halftone section glossy.例文帳に追加
ハーフトーン部でグロスを出しつつ、文字や細線などのラインパターンの線幅が太くなることなく、良好な画像を出力する。 - 特許庁
The pattern manufacturing system comprises imaging a plurality of kinds of copper thicknesses of test substrates forming a test pattern including the pattern lines of various line widths by an image recognizing means 60, and preparing a correction table indicating corresponding relationship of the copper thickness, the line width and an exposure correction amount by really measuring the line width of the pattern line.例文帳に追加
様々な線幅のパターン線を含むテストパターンが形成された複数種類の銅厚のテスト基板を画像認識手段60により撮像し、パターン線の線幅を実測して銅厚、線幅、及び露光補正量の対応関係を示す補正テーブルを作成する。 - 特許庁
When a predetermined needle traverse pattern is selected, the data of the selected needle traverse pattern and the base line standard and the base line position stored in relation to the selected needle traverse pattern are read to form the stitch of the needle traverse pattern according to the base line standard or the bas line position (B).例文帳に追加
所定の針振りパターンが選択されると、選択された針振りパターンのデータ並びに選択された針振りパターンに関連して記憶された基線基準と基線位置が読み出されて該基線基準又は基線位置に応じた針振りパターンの縫目が形成される(B)。 - 特許庁
The photomask has a glass substrate 10, an isolated line pattern 11c and a dense line pattern 11a, 11b disposed on the substrate 10 and a photochromic material film 12 formed on the entire surfaces of the isolated line pattern 11c, the dense line pattern 11a, 11b and the substrate 10.例文帳に追加
本発明のフォトマスクは、ガラス基板10と、該基板10の上に配置された孤立ラインパターン11c及び密集ラインパターン11a,11bと、該孤立ラインパターン11c、該密集ラインパターン11a,11b及び該基板10の全面上に形成されたフォトクロミック材料膜12と、を具備するものである。 - 特許庁
A decision is made whether an interested pixel is included in a halftone part or not, and if it is not included, a decision is made whether a pattern of 3×3 matrix of 9 pixels including the interested pixel matches a level difference pattern, an oblique line pattern, a longitudinal line pattern or a lateral line pattern, previous prepared as a sample, or not.例文帳に追加
注目画素がハーフトーン部に含まれるか否かを判定し、含まれない場合には、注目画素を含む9個の画素よりなる3×3マトリクスのパターンが、あらかじめサンプルとして用意された段差パターン、斜め線パターン、縦線パターンまたは横線パターンと一致するか否かを判定する。 - 特許庁
To make a one-dimensional image pattern imaged by a line sensor be a finger pattern under a natural state.例文帳に追加
ラインセンサで撮像された一次元画像の模様が、自然な状態の指の模様になるようにすること。 - 特許庁
A reference pattern extraction part 1011 decides the part of the highest line density as a 1st reference pattern.例文帳に追加
参照パターン抽出部1011は、最も線密度が高い部分を第1の参照パターンとする。 - 特許庁
The width of the resist pattern 33 is thereby adjusted correspondingly to the width of a line pattern of an optical grating.例文帳に追加
これにより、レジストパターン33の幅を光学格子のラインパターンの幅と対応するように調整する。 - 特許庁
All original segments A about the sewing line based on the pattern data of the pattern design are extracted (S12).例文帳に追加
パターン模様の模様データに基づく縫製ラインに関する全ての元線分Aが抽出される(S12)。 - 特許庁
By the test pattern 1, the impact of line edge roughness on a transferred pattern can be analyzed.例文帳に追加
テストパターン1によって,転移パターン上の線状の縁の粗さの影響は,分析することができる。 - 特許庁
The line data is converted into surface data, showing the circuit pattern to create the circuit pattern data on the photomask.例文帳に追加
線データからその回路パターンを示す面データに変換し、フォトマスク上の回路パターンデータを生成する。 - 特許庁
To encode a character symbol pattern, particularly a kanji pattern including horizontal and vertical line segments, at a high compression rate.例文帳に追加
水平、垂直線分を含む文字記号パターン、特に漢字パターンを高い圧縮率で符号化する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method independent of the density of a pattern and giving a pattern having good line width accuracy to design value.例文帳に追加
パターンの疎密に依存せず、設計値に対する線幅精度の良好なパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
By employing a line pattern and a space pattern as the resist pattern for measuring a focus value, the direction of the focus deviation can also be found.例文帳に追加
フォーカス測定用レジストパターンとして、ラインパターンとスペースパターンとを採用することにより、フォーカスずれの方向も求めることができる。 - 特許庁
Two kinds; a line pattern and a space pattern formed by a negative-to-positive reversal thereof are used as a dimensional inspection pattern to be used in a wafer process.例文帳に追加
ウェハプロセスで用いる寸法検査パタンとして、ラインパタンとこれをネガポジ反転したスペースパタンの2種類を用いるようにする。 - 特許庁
The signal line pattern 67 is a non-linear pattern and is laid by avoiding an area 91 where laying signal pattern should be avoided.例文帳に追加
信号線パターン67は、非直線状パターンであって、信号線パターン敷設回避区域91を避けて迂回するように敷設される。 - 特許庁
A pattern KP for inspection for the purpose of measuring the line width of the pattern to be transferred to a substrate is formed on the mask having a circuit pattern CP.例文帳に追加
回路パターンCPを有するマスクに、基板に転写されるパターンの線幅を計測するための検査用パターンKPを形成する。 - 特許庁
Etching state is inspected by inputting a plurality of line patterns 2 of different line widths to a copper foil pattern mask 1 in advance, and recognizing the presence or absence of a line pattern remaining in an etched printed substrate 3 by using the copper foil pattern mask 1 of a plurality of line patterns 2 of different line widths.例文帳に追加
銅箔パターンマスク1に予め線幅の異なる複数の線パターン2を入力し、前記線幅の異なる複数の線パターン2の内前記銅箔パターンマスク1を用いてエッチングが完了したプリント基板3に残った線パターンの有無を確認することによりエッチング状態を検査する。 - 特許庁
A connection line is arranged on the cell gate pattern of the element isolation film.例文帳に追加
前記素子分離膜のセルゲートパターン上に接続線が配置される。 - 特許庁
A ground electrode 3 is formed on the lower face of a dielectric board 1, a line pattern 21 of a multiple spiral shape is formed on the upper face, and a radial line pattern 22 is formed on the line pattern 21 via an insulation layer 5.例文帳に追加
誘電体基板1の下面にグランド電極3を形成し、上面に多重スパイラル状の線路パターン21を形成し、さらに絶縁層5を介してその表面に放射状の線路パターン22を形成する。 - 特許庁
To provide a pattern line width measuring method of a semiconductor element and its apparatus for preventing error of line width measurement of an actual pattern.例文帳に追加
実際パターンの線幅測定に誤謬が発生しないようにする半導体素子のパターン線幅測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To form a wiring pattern that contains tungsten and has a small line width.例文帳に追加
タングステンを含み、小さな線幅を有する配線パターンを形成する。 - 特許庁
METHOD OF REDUCING SIZE AND LINE THICKNESS OF METAL, SEMICONDUCTOR, AND INSULATOR PATTERN例文帳に追加
金属、半導体、絶縁体パターンの線幅及びサイズを縮める方法 - 特許庁
To form a highly accurate linear pattern (for example, cathode line).例文帳に追加
精度の高い線状のパターン(例えばカソードライン)の形成を可能とする。 - 特許庁
The folded part 33 has a conductor pattern 40 crossing the folding line A.例文帳に追加
折り返し部33は、折り返し線Aを横切る導体パターン40を有している。 - 特許庁
The inner wall of the cap 1 is metallized and the line pattern 3 is formed.例文帳に追加
キャップ1の内壁をメタライズした後、線路パターン3を形成する。 - 特許庁
To automatically generate a pattern which has different line width by automatically varying the line width by changing parameters on the basis of a generated reference pattern.例文帳に追加
作成した基準パターンを元にパラメータ変更により線幅を自動変更して線幅の異なるパターンを自動生成することを課題とする。 - 特許庁
To make it easy to design the pattern layout forming a data signal transmission line.例文帳に追加
データ信号の伝送路をなすパターンレイアウトの設計をやり易くする。 - 特許庁
Lastly, a thicker coating of Yakiba-tsuchi soil (for quenching) is applied for the Shinogichi (ridge line) from the Hamon (blade pattern) to Mune (back). 例文帳に追加
最後に刃紋から棟までを鎬地用焼場土を厚く盛る。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
In this vehicular lighting fixture, the cut line is formed in its light distribution pattern.例文帳に追加
この車両用灯具では、配光パターンにカットラインが形成される。 - 特許庁
The development is further carried out to completely remove the auxiliary line patterns 4 to thereby form the line pattern 3.例文帳に追加
現像をさらに進めることにより、補助ラインパターン4を完全に除去してラインパターン3を形成する。 - 特許庁
The three or more line segments included in the captured test pattern image have an inclination relative to a predetermined line.例文帳に追加
撮像テストパターン画像に含まれる3つ以上の線分は、所定ラインに対して傾きを有する。 - 特許庁
In this case, line width is attached to the hairline pattern, based on a function to determine the inputted line width.例文帳に追加
その際、ヘアラインパターンに対して、入力された線幅を定める関数に基づいて線幅を付ける。 - 特許庁
The parallel line pattern group 21 is constituted of four kinds of parallel line patterns 22, 23, 24 and 25 having different pitches.例文帳に追加
平行線パターン群21を、ピッチを変えた4種類の平行線パターン22,23,24,25から構成する。 - 特許庁
A line control system 240 performs a prescribed line width control processing to the extracted pattern part.例文帳に追加
ライン制御システム240は、抽出されたパターン部位に対し、所定のライン幅制御処理を施す。 - 特許庁
Then, the projecting part of a thin film formed at the upper part of the reference pattern 11 is considered as a reference pattern, and intervals x1 and x2 between the outside line of the reference pattern 11 and the inside line of a registration pattern 21 corresponding to this are measured.例文帳に追加
基準パターン11の上部に形成された薄膜の凸部を基準パターンと見なして、基準パターン11の外側ラインとこれに対応する合わせパターン21の内側ラインとの間隔x_1 ,x_2 を測定する。 - 特許庁
To provide an information input device capable of inputting information such as kind of paper pattern as a structural information of a clothes paper pattern, pattern paper constituting line segment data, clothes structural line segment information data and clothes pattern paper sewing information to various 2-dimensional clothes pattern paper data without imparting load to an operator.例文帳に追加
様々な2次元衣服型紙データに、衣服型紙の構造情報として型紙種別と、型紙構成線分データに衣服構造線分情報と、衣服型紙縫合情報と、の入力をオペレータ負担無く入力可能とする。 - 特許庁
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