| 意味 | 例文 |
line patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3472件
To provide an object detection apparatus which detects a line pattern with high precision, while suppressing a processing load.例文帳に追加
処理負荷を抑えながら、高精度に線模様を検出する物体検出装置を提供する。 - 特許庁
To provide a coating film forming apparatus capable of precisely controlling the line width of a resist pattern.例文帳に追加
レジストパターンの線幅を精密に制御することができる塗布膜形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a vehicle headlight which has a clear cut-off line while a light distribution pattern suitable for a vehicle headlight is realized.例文帳に追加
車両前照灯に適した配光パターンを実現しつつ明瞭なカットオフラインを得る。 - 特許庁
Thus, the line width of the pattern to be formed on the substrate W can be highly accurately controlled.例文帳に追加
よって、基板Wに形成させるパターンの線幅を精度よく制御することができる。 - 特許庁
The line pattern structure has reduced defects and may be formed through simple steps.例文帳に追加
前記ラインパターン構造物は不良が減少し、簡単な工程を通じて形成されてもよい。 - 特許庁
Filing activities of users of the patent systems have become more global in line with the recent pattern of economic globalization. 例文帳に追加
経済のグローバル化に伴い、特許制度のユーザーの出願活動もグローバル化しています。 - 特許庁
A position of a spiral servo pattern is specified on the circumferential line based on the read magnetic information.例文帳に追加
読み取った磁気情報に基づき、当該円周線上でスパイラルサーボパターンの位置を特定する。 - 特許庁
To provide a resist composition, from which a pattern having excellent line edge roughness can be formed.例文帳に追加
優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To record pattern data (character data) positioned on an arbitrary horizontal scanning line.例文帳に追加
任意の水平走査線上に位置するパターンデータ(文字データ)を記録することができるようにする。 - 特許庁
Next, a resist film by a line/space pattern of a horizontal direction is formed to perform second etching.例文帳に追加
次に今度は横方向のライン/スペースパターンによるレジスト膜を形成し第2のエッチングを行う。 - 特許庁
To measure accurately characteristic impedance of a signal line by using a wiring pattern for measurement.例文帳に追加
測定用配線パターンを用いて、信号線路の正確な特性インピーダンスの測定を行う。 - 特許庁
The second mask layer is formed in a pair of line pattern shape with the pair of the sidewall layers as a mask.例文帳に追加
一対のサイドウオール層をマスクにして第2マスク層を一対のラインパターン形状に成形する。 - 特許庁
The selection areas are set correspondingly to the whole patterns in a first pattern line, respectively.例文帳に追加
また、選択領域は、第一絵柄列における全ての絵柄に夫々対応して設けられている。 - 特許庁
The outlet forms a skewed spray pattern intersecting the center line in the longitudinal direction of a nozzle.例文帳に追加
この出口は、ノズルの長手方向の中心線と交差しかつ歪んだ噴霧パターンを形成する。 - 特許庁
Furthermore, a transmission line 4 is also formed on the dielectric substrate 100 by the conductor pattern.例文帳に追加
また、伝送線路4も導体パターンによって誘電体基板100上に形成されている。 - 特許庁
To form a low beam light distribution pattern having inclined cut-off line with one set of right and left headlights.例文帳に追加
左右一組の前照灯で傾斜カットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁
A projection waveform is obtained from the image, and the position of the line string pattern is obtained from the projection waveform.例文帳に追加
当該画像から投影波形を求め、投影波形から線列パターンの位置を求める。 - 特許庁
The pattern contour line 2 is formed using a freely flexible drawing material 4 to be attached to the drawing board 1.例文帳に追加
上記の図柄輪郭線2を画板1に貼り付ける屈曲自在の画材4で形成する。 - 特許庁
Extreme value positions corresponding to the density center of each line pattern, and first edge positions and second edge positions corresponding to both right and left edges of the line patterns, are computed from the respective profile graphs, and a line-center approximation line, a first edge approximation line and a second edge approximation line are obtained by a least-square method.例文帳に追加
各プロファイルグラフから各ラインパターンの濃度中心に対応する極値位置と、当該ラインパターンの左右両エッジに対応する第1エッジ位置及び第2エッジ位置を算出し、最小二乗法により、ライン中心近似直線、第1エッジ近似直線、第2エッジ近似直線を得る。 - 特許庁
To provide an excellent positive resist composition that is excellent in line edge roughness, prevents a pattern falling and does not cause the pattern falling even if a focus and exposure particularly in a fine pattern are varied.例文帳に追加
ラインエッジラフネスに優れており、パターン倒れが防止され、特に微細なパターンでのフォーカス、露光を変動させてもパターン倒れのない優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
Between a CCD output signal pattern 45 and the horizontal transfer pulse pattern 51/land 52 for high frequency signal, a pattern 53 for the driving power supply line of CCD is interposed.例文帳に追加
CCD出力信号パターン45と高周波信号の水平転送パルスパターン51およびランド52との間に、CCDの駆動電源ラインのパターン53を介在させている。 - 特許庁
In the antifalsifying pattern 12, a latent image pattern, in which the width (LT) of a line in a region normal to a seeing direction for viewing the latent image pattern is made lager than the widths of lines in other regions.例文帳に追加
潜像パターンを視認すべく眺める方向と垂直となる領域の線幅(LT)を他の領域の線幅より大きくした潜像パターンを設けた偽造防止パターン12。 - 特許庁
The second deflection pattern 32b is arranged so that the normal line erected on the deflecting inclined surface of the second deflection pattern 32b is orthogonal to the direction where the light source 17 is connected to the second deflection pattern 32b.例文帳に追加
第2の偏向パターン32bは、その偏向傾斜面に立てた法線が、光源17と当該第2の偏向パターン32bとを結ぶ方向と直交するように配置する。 - 特許庁
To form a ceramic substrate having a microfine electrode pattern and a general electrode pattern with a line width wider than that of the microfine electrode pattern, while restraining a material loss and securing thickness uniformity of the electrode patterns.例文帳に追加
微細電極パターンとそれより線幅の広い一般電極パターンとを有するセラミック基板を、材料の損失を抑え、また、電極パターンの厚さ均一性を確保して形成する。 - 特許庁
The semiconductor device comprises an actual pattern 431 having a gate electrode section and a protruding section and a plurality of line patterns including a dummy pattern 433 which is disposed in parallel with the actual pattern 431.例文帳に追加
半導体装置は、ゲート電極部及び突き出し部を有する実パターン431と、実パターン431に並んで配置されるダミーパターン433とを含む複数のラインパターンを備える。 - 特許庁
To stably manufacture a transfer master disk substrate with a surface formed with rugged pattern excellent in line width accuracy, and excellent in pattern shape accuracy where pattern defect is inhibited.例文帳に追加
表面凹凸パターンの線幅精度が良好で、パターン欠陥が抑制されパターン形状精度が良好な転写用原盤基板を安定的に製造することを可能とする。 - 特許庁
The designed pattern image is put on the prescribed line pattern including the cutting lines (the heavy lines in Figure 3), the folding lines (dotted lines) and the parts to be stuck (the shaded parts) and they are printed on a flat face material (which is called a pattern model).例文帳に追加
切取線(図3の太線)、折曲線(点線)及び貼合部(斜線部)を含む所定の線パターン上に絵柄イメージを配置し、平面素材に印刷する(これを雛形と呼ぶ)。 - 特許庁
To provide a patterning method capable of accurately forming a drawing pattern with a desired shape, especially a thick-film and fine-line pattern, while reducing a tact time (the number of processes) and not requiring a pattern forming device with high drawing accuracy.例文帳に追加
タクトタイム(工程数)を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。 - 特許庁
The repeated recording of the servo pattern includes the repeating of the simultaneous recording of first and second reference pattern lines in at least one servo track 27 and a track pattern line.例文帳に追加
サーボパターンを反復的に記録することは、少なくとも一つのサーボトラック27内の第1および第2基準パターンラインとトラックパターンラインの同時記録を反復することを含む。 - 特許庁
To obtain a photomask capable of suppressing the reduction of the line width of an isolated pattern even when the photomask has a dense pattern and an isolated pattern and to obtain an exposure device with the photomask.例文帳に追加
孤立パターンと密集パターンが混在するフォトマスクであっても、孤立パターンの線幅が細くなるのを抑制できるフォトマスク及びそれを備えた露光装置を提供する。 - 特許庁
A wiring pattern BP for bypass which bypasses a portion wherein a signal line DTL and a scan line WSL cross is provided to the scan line WSL or the signal line DTL, and the wiring pattern BP for bypass is used to repair a short circuit fault between wiring patterns.例文帳に追加
本発明は、信号線DTLと走査線WSLとが交差する部位をバイパスするバイパス用の配線パターンBPを走査線WSL又は信号線DTLに設け、さらにはこのバイパス用の配線パターンBPを使用して配線パターン間の短絡事故を修復する。 - 特許庁
By interposing a rotary connector 42 between a first serial signal line S1 and a second serial signal line S2 and connecting the first serial signal line S1 and the second serial signal line S2, a variable display device H for displaying a pattern variable game is rotated during the pattern variable game.例文帳に追加
第1シリアル信号線S1と第2シリアル信号線S2との間に回転コネクタ42を介在させて第1シリアル信号線S1と第2シリアル信号線S2を接続することによって、図柄変動ゲーム中、図柄変動ゲームを表示する可変表示器Hを回転するように構成した。 - 特許庁
A pair of line pattern parts 4-1 having the open terminals 4A and 4B are mutually oppositely extended such that a base part to connect the adjacent line pattern part 4-2 is proximate to the reference line Rx and the open terminals 4A and 4B are located away from the reference line Rx.例文帳に追加
開放端4A、4Bを有する一対の線路パターン部4−1は、隣接する線路パターン部4−2が連結される基部が基準線Rxに近接し、開放端4A、4Bが基準線Rxから離間して配置されるように互いに反対方向に延出されている。 - 特許庁
A line LB5 for the wiring pattern W2 for writing is arranged so as to be extended through the upper part of the region RG1 of a suspension body 10, and the end of the line LA3 and the end of the line LA5 for the wiring pattern W1 for writing are arranged on both sides of the line LB5.例文帳に追加
サスペンション本体部10の領域RG1上を通って延びるように書込用配線パターンW2の線路LB5が配置され、線路LB5の両側に書込用配線パターンW1の線路LA3の端部および線路LA5の端部が配置される。 - 特許庁
After the ion implantation, a thickness of the resist film is measured using an ellipsometer by selecting a part on a scribe line, a large-pattern portion, etc., of the resist pattern.例文帳に追加
イオン注入後、レジストパターンのうちスクライブ線上やパターンの大きなところなどを選択してエリプソメーターでレジスト膜厚を測定する。 - 特許庁
The line width of the pattern of the absorbing film 4 adjacent to a pattern defect correcting portion is made narrow, thereby improving the reflection rate.例文帳に追加
パターン欠陥修正部に隣接する吸収膜4のパターンの線幅を狭くすることにより、反射率を向上させることができる。 - 特許庁
The position at which an angle is read from the code pattern is determined to match with the middle point on the line segment interconnecting both detecting positions of the track pattern.例文帳に追加
コードパターンから角度を読み取る位置は、トラックパターンの両検出位置を結ぶ線分上の中点と一致するように決定する。 - 特許庁
As a result, the second lighting fixture tool 28 forms the additional light distribution pattern increasing luminous intensity as the pattern approaches to the horizontal line from the above.例文帳に追加
これによって第2灯具ユニット28は、上方から水平線に近づくにしたがって光度が増加する付加配光パターンを形成する。 - 特許庁
The phase-change substance pattern is directly, in contact with a conductive film pattern in a plate line contact hole penetrating the upper interlayer insulating film.例文帳に追加
前記相変化物質パターンは前記上部層間絶縁膜を貫通するプレートラインコンタクトホール内の導電膜パターンと直接接触する。 - 特許庁
An antenna pattern (20) that is composed of the radiation element (21), the feed line (22), the ground pattern (23), and the sleeve (24) is formed on the same plane.例文帳に追加
放射素子(21)と給電ライン(22)とグランドパターン(23)とスリーブ(24)とからなるアンテナパターン(20)が、同一平面上に形成されている。 - 特許庁
To exactly obtain a distribution of a line width difference between a pattern which is constituted on a mask and a design pattern, or a distribution of positional errors of these patterns.例文帳に追加
マスク上に形成されたパターンと設計パターンとの線幅の差の分布、または、これらのパターンの位置ずれ量の分布を正確に求める。 - 特許庁
The main control CPU outputs by a communication line different from those of the variation pattern specification command and the pattern specification command by the output processing.例文帳に追加
そして、主制御用CPUは、出力処理にて、変動パターン指定コマンド及び図柄指定コマンドとは異なる通信線にて出力する。 - 特許庁
To provide a method of forming a drawing pattern, capable of using ink for forming the pattern only for image line parts, and capable of high-definition patterning.例文帳に追加
パターンを形成するためのインクを画線部分のみに使用し、かつ高精細なパターニングが可能な描画パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern antenna that can be small-sized by sufficiently increasing a current pass area, tag antenna, and pattern transmission line.例文帳に追加
電流通過領域を十分に増大させることで小型化を図ることができるパターンアンテナ、タグアンテナ、及びパターン伝送路を提供する。 - 特許庁
To keep the detection capacity of the flaw on a semiconductor pattern even if the line width and pitch of the semiconductor pattern become the wavelength of inspection light or below.例文帳に追加
半導体パターンの線幅、ピッチが検査光の波長以下になっても半導体パターン上の欠陥の検出能力を維持すること。 - 特許庁
To provide an exposure system for forming a circuit pattern of a first direction and a line/space circuit pattern of a second direction through only one exposure.例文帳に追加
第1の方向の回路パターン及び第2の方向のライン/スペース回路パターンを一回の露光に形成するための露光システムを提供する。 - 特許庁
In the inspection stage, the inspection region 35 of the pattern 30 for inspection is measured to inspect line widths and misalignment of the main pattern.例文帳に追加
検査工程では、検査用パターン30の検査領域35を計測することにより、主パターンにおける線幅とアライメントずれとを検査する。 - 特許庁
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